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1. 发明专利

TWI560743B 基板液體處理裝置有权
简体标题：基板液体处理设备
公开(公告)号：TWI560743B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW102144808
申请日：2013-12-06
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO , 久保明広 , KUBO, AKIHIRO , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 矢田健二 , YADA, KENZI , 大河內厚 , OOKOUCHI, ATSUSHI
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67051 , B08B5/00 , B08B5/02 , B08B5/023 , H01L21/67028 , H01L21/67034

2. 发明专利

TW201614396A 顯影裝置审中-公开
简体标题：显影设备
公开(公告)号：TW201614396A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW104123483
申请日：2015-07-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO
IPC分类号： G03F7/30
CPC分类号： G03F7/30 , G03F7/3021
摘要：本發明係一種顯影裝置，其具備杯具模組，該杯具模組包含：基板保持部，其係為可利用旋轉機構自由旋轉之構成；以及杯具，其包圍該基板保持部，用以承接液體；該顯影裝置對該基板保持部所保持之基板供給顯影液以進行顯影；該顯影裝置的特徵為包含：第1杯具模組以及第2杯具模組，其互相隔著間隔在横方向上並排；第1顯影液噴嘴，其在該第1杯具模組與第2杯具模組之間的待機位置待機；以及第1移動機構，其用來使該第1顯影液噴嘴在該待機位置與對基板供給顯影液的處理位置之間移動；該第1顯影液噴嘴具備：吐出口，其用來吐出顯影液以在基板的表面上形成積液；以及接觸部，其形成得比該基板的表面更小，並以與該基板的表面互相對向的方式設置；該接觸部，在與該積液接觸的狀態下，與顯影液的供給位置一起從旋轉之基板的中央部位以及周緣部位的其中一側移動到另一側，藉此使該積液在基板上擴散。
简体摘要：本发明系一种显影设备，其具备杯具模块，该杯具模块包含：基板保持部，其系为可利用旋转机构自由旋转之构成；以及杯具，其包围该基板保持部，用以承接液体；该显影设备对该基板保持部所保持之基板供给显影液以进行显影；该显影设备的特征为包含：第1杯具模块以及第2杯具模块，其互相隔着间隔在横方向上并排；第1显影液喷嘴，其在该第1杯具模块与第2杯具模块之间的待机位置待机；以及第1移动机构，其用来使该第1显影液喷嘴在该待机位置与对基板供给显影液的处理位置之间移动；该第1显影液喷嘴具备：吐出口，其用来吐出显影液以在基板的表面上形成积液；以及接触部，其形成得比该基板的表面更小，并以与该基板的表面互相对向的方式设置；该接触部，在与该积液接触的状态下，与显影液的供给位置一起从旋转之基板的中央部位以及周缘部位的其中一侧移动到另一侧，借此使该积液在基板上扩散。

3. 发明专利

TWI386979B 顯像裝置、顯像方法及記憶媒體有权
简体标题：显像设备、显像方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI386979B
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：TW099144776
申请日：2010-12-20
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 有馬裕 , ARIMA, HIROSHI , 吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 吉田勇一 , YOSHIDA, YUICHI
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/3021

4. 发明专利

TW201826436A 基板處理裝置、基板處理方法及記錄媒體审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法及记录媒体
公开(公告)号：TW201826436A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106140634
申请日：2017-11-23
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 岡本芳樹 , OKAMOTO, YOSHIKI , 保坂隼斗 , HOSAKA, HAYATO , 小玉輝彥 , KODAMA, TERUHIKO , 久保明廣 , KUBO, AKIHIRO , 小篠龍人 , OZASA, RYUTO , 有內雄司 , ARIUCHI, YUJI , 木村慎佑 , KIMURA, SHINSUKE
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/683 , H01L21/677 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種基板處理裝置、基板處理方法及記錄媒體，對於使滑動構件在基板的背面滑動而進行之處理，可在面內高均一性地進行處理，並對基板確實地施予滑動構件之滑動所產生的作用。具備以下元件而構成裝置：滑動構件63、64，為了在基板W的背面滑動而進行處理，繞著鉛直軸自轉；以及公轉機構66，使自轉中之該滑動構件63、64，以具有較該滑動構件的直徑更小之公轉半徑的方式繞鉛直之公轉軸公轉。在水平地保持基板W的背面之不與中央部重疊的區域之第1保持部35保持基板W時，該滑動構件63、64在該基板W的背面之中央部滑動。在水平地保持該基板W的背面之中央部而使其繞鉛直軸旋轉之第2保持部12保持基板W時，滑動構件63、64在旋轉之基板W的背面之邊緣部滑動。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备、基板处理方法及记录媒体，对于使滑动构件在基板的背面滑动而进行之处理，可在面内高均一性地进行处理，并对基板确实地施予滑动构件之滑动所产生的作用。具备以下组件而构成设备：滑动构件63、64，为了在基板W的背面滑动而进行处理，绕着铅直轴自转；以及公转机构66，使自转中之该滑动构件63、64，以具有较该滑动构件的直径更小之公转半径的方式绕铅直之公转轴公转。在水平地保持基板W的背面之不与中央部重叠的区域之第1保持部35保持基板W时，该滑动构件63、64在该基板W的背面之中央部滑动。在水平地保持该基板W的背面之中央部而使其绕铅直轴旋转之第2保持部12保持基板W时，滑动构件63、64在旋转之基板W的背面之边缘部滑动。

5. 发明专利

TWI567816B 基板洗淨裝置、基板洗淨方法及記憶媒體有权
简体标题：基板洗净设备、基板洗净方法及记忆媒体
公开(公告)号：TWI567816B
公开(公告)日：2017-01-21
申请号：TW103124384
申请日：2014-07-16
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：滝口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67046 , H01L21/68792

6. 发明专利

TW201517156A 顯影方法、顯影裝置以及記憶媒體审中-公开
简体标题：显影方法、显影设备以及记忆媒体
公开(公告)号：TW201517156A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103126469
申请日：2014-08-01
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：吉原孝介 , YOSHIHARA, KOUSUKE , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： G03F7/3021 , B05C5/02 , B05C5/027 , B05C11/08 , B05D1/005 , B05D1/26 , G03F7/30 , H01L21/6715
摘要：本發明以具備以下步驟的方式進行顯影：將曝光後的基板水平地保持於基板保持部的步驟；對基板的一部分從顯影液噴嘴供給顯影液以形成液滴的步驟；使基板旋轉的步驟；以在旋轉之該基板上的顯影液的供給位置沿著該基板的半徑方向移動的方式，令該顯影液噴嘴移動，使該液滴擴散到基板全面的步驟；以及與使該液滴擴散到基板全面的步驟同步進行，令與該顯影液噴嘴一起移動且對向該基板之面比該基板的表面更小的接觸部與該液滴接觸的步驟。藉由該方法便可抑制溢落到基板外的液量。另外，由於可使基板的轉速降低，故可防止液體噴濺。再者，由於顯影液受到攪拌，故可使生產效率提高。
简体摘要：本发明以具备以下步骤的方式进行显影：将曝光后的基板水平地保持于基板保持部的步骤；对基板的一部分从显影液喷嘴供给显影液以形成液滴的步骤；使基板旋转的步骤；以在旋转之该基板上的显影液的供给位置沿着该基板的半径方向移动的方式，令该显影液喷嘴移动，使该液滴扩散到基板全面的步骤；以及与使该液滴扩散到基板全面的步骤同步进行，令与该显影液喷嘴一起移动且对向该基板之面比该基板的表面更小的接触部与该液滴接触的步骤。借由该方法便可抑制溢落到基板外的液量。另外，由于可使基板的转速降低，故可防止液体喷溅。再者，由于显影液受到搅拌，故可使生产效率提高。

7. 发明专利

TW201418909A 顯影處理裝置审中-公开
简体标题：显影处理设备
公开(公告)号：TW201418909A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102132435
申请日：2013-09-09
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 池田義謙 , IKEDA, YOSHINORI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 岡本芳樹 , OKAMOTO, YOSHIKI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/30 , G03F7/16 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/3021 , G03F7/3092 , H01L21/67017
摘要：本發明在可施行正型顯影液產生的顯影處理與負型顯影液產生的顯影處理雙方之顯影處理裝置中，藉由減少搭載之模組數，而可使裝置小型化。本發明之顯影處理裝置具有：旋轉夾盤40；正型顯影液供給噴嘴，對晶圓W供給正型光阻用之顯影液；負型顯影液供給噴嘴，對晶圓W供給負型光阻用之顯影液；以及可動杯45；藉由使可動杯上升而將正型或負型光阻用其中一方的飛散之顯影液導入內周流路48b，藉由使可動杯下降而將正型或負型光阻用其中另一方的飛散之顯影液導入外周流路48a。使導入至內周流路之顯影液自一方的排出口49b排出，使導入至外周流路之顯影液自另一方的排出口49a排出。
简体摘要：本发明在可施行正型显影液产生的显影处理与负型显影液产生的显影处理双方之显影处理设备中，借由减少搭载之模块数，而可使设备小型化。本发明之显影处理设备具有：旋转夹盘40；正型显影液供给喷嘴，对晶圆W供给正型光阻用之显影液；负型显影液供给喷嘴，对晶圆W供给负型光阻用之显影液；以及可动杯45；借由使可动杯上升而将正型或负型光阻用其中一方的飞散之显影液导入内周流路48b，借由使可动杯下降而将正型或负型光阻用其中另一方的飞散之显影液导入外周流路48a。使导入至内周流路之显影液自一方的排出口49b排出，使导入至外周流路之显影液自另一方的排出口49a排出。

8. 发明专利

TWI569111B 顯影處理裝置有权
简体标题：显影处理设备
公开(公告)号：TWI569111B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW102132435
申请日：2013-09-09
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 池田義謙 , IKEDA, YOSHINORI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 岡本芳樹 , OKAMOTO, YOSHIKI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/30 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/3021 , G03F7/3092 , H01L21/67017

9. 外观设计

TWD173082S 半導體製造裝置用附設研磨部之清洗刷之部分有权
简体标题：半导体制造设备用附设研磨部之清洗刷之部分
公开(公告)号：TWD173082S
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW104303363
申请日：2015-06-23
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
设计人：矢田健二 , YADA, KENJI , 福田昌弘 , FUKUDA, MASAHIRO , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 中島昇 , NAKASHIMA, NOBORU

10. 发明专利

TW201517118A 液體處理裝置审中-公开
简体标题：液体处理设备
公开(公告)号：TW201517118A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW103124955
申请日：2014-07-21
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：瀧口靖史 , TAKIGUCHI, YASUSHI , 吉村好貴 , YOSHIMURA, KOKI , 山本太郎 , YAMAMOTO, TARO , 京田秀治 , KYOUDA, HIDEHARU , 牟田行志 , MUTA, KOSHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/30
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要：本發明提供一種液體處理裝置，具備：複數個基板保持部，於左右方向並排配置，用以將基板分別水平地保持；噴嘴，與該複數個基板保持部分別對應而設置，用以對該基板保持部所保持的基板供給處理流體；以及噴嘴移動機構，使該噴嘴，在對包含該基板的中心部在內之區域供給處理流體的供給位置、及相對於該複數個基板保持部之列而與基板搬出入的前方側為相反側之後方側的待機位置之間，往與該基板保持部的並排方向交叉之前後方向進退。
简体摘要：本发明提供一种液体处理设备，具备：复数个基板保持部，于左右方向并排配置，用以将基板分别水平地保持；喷嘴，与该复数个基板保持部分别对应而设置，用以对该基板保持部所保持的基板供给处理流体；以及喷嘴移动机构，使该喷嘴，在对包含该基板的中心部在内之区域供给处理流体的供给位置、及相对于该复数个基板保持部之列而与基板搬出入的前方侧为相反侧之后方侧的待机位置之间，往与该基板保持部的并排方向交叉之前后方向进退。

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