专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201439363A 包含粒子分離器之ＣＶＤ設備审中-公开
简体标题：包含粒子分离器之ＣＶＤ设备
公开(公告)号：TW201439363A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103102084
申请日：2014-01-21
申请人：愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：高瑞斯威爾菲德 , GOERES, WILFRIED , 列能皮爾 , LEHNEN, PEER , 摩爾曼安里希 , MALLMANN, HEINRICH
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/54 , B01D46/00 , B01D46/52 , B08B15/00
CPC分类号： C23C16/4412 , B01D46/0075 , F01N3/022 , F01N3/0233 , F01N3/0237 , F01N2450/30 , Y02C20/30
摘要：本發明係關於一種用於在反應器殼體(1)之處理室(8)內塗佈基板的裝置，包括有用於將處理氣體導入處理室(8)的進氣機構(11)、及用於將廢氣流自處理室(8)導入粒子過濾器(4)的出氣機構(10)，而該粒子過濾器係佈置於粒子分離器殼體(3)內，且具有多孔的過濾介質(16)，用於從廢氣流中濾除處理氣體反應時所形成的粒子。為了改良CVD或PVD裝置上之粒子過濾器之過濾效率、並提供一種能達成此目的之粒子過濾器，本發明提出如下解決方案：選擇過濾介質(16)之孔徑與表面特性，使得廢氣流中的粒子附著於過濾介質(16)之表面，但不進入過濾介質(16)內，而且，諸粒子在過濾介質(16)外部生長成聚結物，其中，設有藉由機械地移除諸聚結物來清潔其粒子過濾器(4)的質量加速裝置。
简体摘要：本发明系关于一种用于在反应器壳体(1)之处理室(8)内涂布基板的设备，包括有用于将处理气体导入处理室(8)的进气机构(11)、及用于将废气流自处理室(8)导入粒子过滤器(4)的出气机构(10)，而该粒子过滤器系布置于粒子分离器壳体(3)内，且具有多孔的过滤介质(16)，用于从废气流中滤除处理气体反应时所形成的粒子。为了改良CVD或PVD设备上之粒子过滤器之过滤效率、并提供一种能达成此目的之粒子过滤器，本发明提出如下解决方案：选择过滤介质(16)之孔径与表面特性，使得废气流中的粒子附着于过滤介质(16)之表面，但不进入过滤介质(16)内，而且，诸粒子在过滤介质(16)外部生长成聚结物，其中，设有借由机械地移除诸聚结物来清洁其粒子过滤器(4)的质量加速设备。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式