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1. 发明专利

TW201439367A ＣＶＤ裝置及ＣＶＤ裝置處理室的淨化方法审中-公开
简体标题：ＣＶＤ设备及ＣＶＤ设备处理室的净化方法
公开(公告)号：TW201439367A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103105267
申请日：2014-02-18
申请人：愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：高瑞斯威爾菲德 , GOERES, WILFRIED , 克呂肯湯瑪斯 , KRUECKEN, THOMAS
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/205 , B08B7/00
CPC分类号： C23C16/4405 , C23C16/4412
摘要：本發明首先係關於一種用於沉積半導體層特別是三五主族半導體層之裝置與方法，包括設於反應器殼體(1)內之處理室(2)及一第一調溫裝置(4)，一進氣管(3)通入該處理室且可將處理氣體連同運載氣體一起導入該處理室(2)，該第一調溫裝置可將該處理室(2)之工作溫度穩定在處理溫度上，該處理氣體在該處理溫度下發生反應，在該反應過程中至少形成氣態反應產物，其中該處理室(2)透過排氣管(5)與冷阱(6)及過濾裝置(7)連接。為提高同類型裝置之排氣系統效率，本發明建議如下：該過濾裝置(7)設於該冷阱(6)上游。本發明進一步係關於一種淨化該處理室之方法。
简体摘要：本发明首先系关于一种用于沉积半导体层特别是三五主族半导体层之设备与方法，包括设于反应器壳体(1)内之处理室(2)及一第一调温设备(4)，一进气管(3)通入该处理室且可将处理气体连同运载气体一起导入该处理室(2)，该第一调温设备可将该处理室(2)之工作温度稳定在处理温度上，该处理气体在该处理温度下发生反应，在该反应过程中至少形成气态反应产物，其中该处理室(2)透过排气管(5)与冷阱(6)及过滤设备(7)连接。为提高同类型设备之排气系统效率，本发明建议如下：该过滤设备(7)设于该冷阱(6)上游。本发明进一步系关于一种净化该处理室之方法。

2. 发明专利

TW201439363A 包含粒子分離器之ＣＶＤ設備审中-公开
简体标题：包含粒子分离器之ＣＶＤ设备
公开(公告)号：TW201439363A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103102084
申请日：2014-01-21
申请人：愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：高瑞斯威爾菲德 , GOERES, WILFRIED , 列能皮爾 , LEHNEN, PEER , 摩爾曼安里希 , MALLMANN, HEINRICH
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/54 , B01D46/00 , B01D46/52 , B08B15/00
CPC分类号： C23C16/4412 , B01D46/0075 , F01N3/022 , F01N3/0233 , F01N3/0237 , F01N2450/30 , Y02C20/30
摘要：本發明係關於一種用於在反應器殼體(1)之處理室(8)內塗佈基板的裝置，包括有用於將處理氣體導入處理室(8)的進氣機構(11)、及用於將廢氣流自處理室(8)導入粒子過濾器(4)的出氣機構(10)，而該粒子過濾器係佈置於粒子分離器殼體(3)內，且具有多孔的過濾介質(16)，用於從廢氣流中濾除處理氣體反應時所形成的粒子。為了改良CVD或PVD裝置上之粒子過濾器之過濾效率、並提供一種能達成此目的之粒子過濾器，本發明提出如下解決方案：選擇過濾介質(16)之孔徑與表面特性，使得廢氣流中的粒子附著於過濾介質(16)之表面，但不進入過濾介質(16)內，而且，諸粒子在過濾介質(16)外部生長成聚結物，其中，設有藉由機械地移除諸聚結物來清潔其粒子過濾器(4)的質量加速裝置。
简体摘要：本发明系关于一种用于在反应器壳体(1)之处理室(8)内涂布基板的设备，包括有用于将处理气体导入处理室(8)的进气机构(11)、及用于将废气流自处理室(8)导入粒子过滤器(4)的出气机构(10)，而该粒子过滤器系布置于粒子分离器壳体(3)内，且具有多孔的过滤介质(16)，用于从废气流中滤除处理气体反应时所形成的粒子。为了改良CVD或PVD设备上之粒子过滤器之过滤效率、并提供一种能达成此目的之粒子过滤器，本发明提出如下解决方案：选择过滤介质(16)之孔径与表面特性，使得废气流中的粒子附着于过滤介质(16)之表面，但不进入过滤介质(16)内，而且，诸粒子在过滤介质(16)外部生长成聚结物，其中，设有借由机械地移除诸聚结物来清洁其粒子过滤器(4)的质量加速设备。

3. 发明专利

TWI599677B ＣＶＤ裝置及ＣＶＤ裝置處理室的淨化方法有权
简体标题：ＣＶＤ设备及ＣＶＤ设备处理室的净化方法
公开(公告)号：TWI599677B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW103105267
申请日：2014-02-18
申请人：愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：高瑞斯威爾菲德 , GOERES, WILFRIED , 克呂肯湯瑪斯 , KRUECKEN, THOMAS
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/205 , B08B7/00
CPC分类号： C23C16/4405 , C23C16/4412

4. 发明专利

TWI640649B 包含粒子分離器之ＣＶＤ設備有权
简体标题：包含粒子分离器之ＣＶＤ设备
公开(公告)号：TWI640649B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW103102084
申请日：2014-01-21
申请人：愛思強歐洲公司 , AIXTRON SE
发明人：高瑞斯威爾菲德 , GOERES, WILFRIED , 列能皮爾 , LEHNEN, PEER , 摩爾曼安里希 , MALLMANN, HEINRICH
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/54 , B01D46/00 , B01D46/52 , B08B15/00

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