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1. 发明专利

TW201638542A 蒸氣供給裝置、蒸氣乾燥裝置、蒸氣供給方法及蒸氣乾燥方法审中-公开
简体标题：蒸气供给设备、蒸气干燥设备、蒸气供给方法及蒸气干燥方法
公开(公告)号：TW201638542A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105101710
申请日：2016-01-20
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： F26B21/14 , F26B21/08 , F26B3/04 , H01L21/304
CPC分类号： F26B5/00 , B01D53/263 , B01D53/265 , B01D53/268 , B01D2256/24 , F26B21/145
摘要：本發明之課題，在於防止在進行形成有微細圖案之基板之蒸氣乾燥時，因所貯存之原本之IPA中含有水分所導致的圖案崩壞。本發明使被貯存於混合液體貯存部11之混合液體氣化，而產生包含IPA與水(水蒸氣)之混合蒸氣。然後，藉由被連接於傳送混合蒸氣之蒸氣供給管之蒸氣脫水部100，將混合蒸氣所包含之水去除。藉此，可在供給至基板之前，降低包含於所貯存之原本之IPA之水分濃度，而可抑制圖案崩壞。
简体摘要：本发明之课题，在于防止在进行形成有微细图案之基板之蒸气干燥时，因所贮存之原本之IPA中含有水分所导致的图案崩坏。本发明使被贮存于混合液体贮存部11之混合液体气化，而产生包含IPA与水(水蒸气)之混合蒸气。然后，借由被连接于发送混合蒸气之蒸气供给管之蒸气脱水部100，将混合蒸气所包含之水去除。借此，可在供给至基板之前，降低包含于所贮存之原本之IPA之水分浓度，而可抑制图案崩坏。

2. 发明专利

TWI632600B 基板洗淨方法及基板洗淨裝置有权
简体标题：基板洗净方法及基板洗净设备
公开(公告)号：TWI632600B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW105115163
申请日：2016-05-17
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/30

3. 发明专利

TWI630364B 蒸氣供給裝置、蒸氣乾燥裝置、蒸氣供給方法及蒸氣乾燥方法有权
简体标题：蒸气供给设备、蒸气干燥设备、蒸气供给方法及蒸气干燥方法
公开(公告)号：TWI630364B
公开(公告)日：2018-07-21
申请号：TW105101710
申请日：2016-01-20
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： F26B21/14 , F26B21/08 , F26B3/04 , H01L21/304

4. 发明专利

TW201707075A 基板洗淨方法及基板洗淨裝置审中-公开
简体标题：基板洗净方法及基板洗净设备
公开(公告)号：TW201707075A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105115163
申请日：2016-05-17
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：佐佐木悠太 , SASAKI, YUTA , 塙洋祐 , HANAWA, YOSUKE , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： B08B3/12 , B08B3/00 , C11D11/0047 , C11D11/007 , H01L21/67051
摘要：本發明提供一種一邊防止圖案之毀壞及污染一邊良好地將於正面形成有圖案之基板之背面洗淨之基板洗淨方法及裝置。於將圖案之表面疏水化之後，於基板正面形成純水等之液膜。此時，藉由疏水化於圖案間不會進入液膜之液體，而存在氣體。於基板正面被液膜覆蓋之狀態下，向基板背面供給施加有超音波之液體，藉由超音波所引起之液體中之空穴化崩解能量，將基板背面洗淨。空穴化崩解亦會於基板正面發生，但由於在圖案間存在氣體，故於圖案間不會發生空穴化崩解，可防止圖案毀壞並且藉由液膜防止污染，從而能夠良好地將基板背面洗淨。
简体摘要：本发明提供一种一边防止图案之毁坏及污染一边良好地将于正面形成有图案之基板之背面洗净之基板洗净方法及设备。于将图案之表面疏水化之后，于基板正面形成纯水等之液膜。此时，借由疏水化于图案间不会进入液膜之液体，而存在气体。于基板正面被液膜覆盖之状态下，向基板背面供给施加有超音波之液体，借由超音波所引起之液体中之空穴化崩解能量，将基板背面洗净。空穴化崩解亦会于基板正面发生，但由于在图案间存在气体，故于图案间不会发生空穴化崩解，可防止图案毁坏并且借由液膜防止污染，从而能够良好地将基板背面洗净。

5. 发明专利

TW201703884A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201703884A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105109259
申请日：2016-03-24
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：北川広明 , KITAGAWA, HIROAKI , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： B08B3/10 , B08B7/00 , H01L21/02 , H01L21/67
CPC分类号： B08B3/10 , B08B7/0014 , B08B7/0092 , H01L21/02041 , H01L21/02052 , H01L21/67028 , H01L21/6704 , H01L21/67109
摘要：本發明提供一種低成本且高效率地於基板之表面形成凝固體之方法。使用冷卻構件使形成於水平姿勢之基板之上表面之凝固對象液之液膜凝固而形成凝固體之凝固體形成步驟具有：第1步驟，其使冷卻構件中溫度低於凝固對象液之凝固點之處理面觸液於液膜而使位於夾於上表面與處理面之區域之凝固對象液凝固；及第2步驟，其將處理面自藉由第1步驟凝固之凝固區域剝離；且凝固區域與處理面之附著力小於凝固區域與上表面之附著力。
简体摘要：本发明提供一种低成本且高效率地于基板之表面形成凝固体之方法。使用冷却构件使形成于水平姿势之基板之上表面之凝固对象液之液膜凝固而形成凝固体之凝固体形成步骤具有：第1步骤，其使冷却构件中温度低于凝固对象液之凝固点之处理面触液于液膜而使位于夹于上表面与处理面之区域之凝固对象液凝固；及第2步骤，其将处理面自借由第1步骤凝固之凝固区域剥离；且凝固区域与处理面之附着力小于凝固区域与上表面之附着力。

6. 发明专利

TWI480937B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI480937B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW100141325
申请日：2011-11-11
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： B08B3/10 , B08B3/12 , B08B7/0021 , H01L21/02 , H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/67196

7. 发明专利

TW201507019A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201507019A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103120382
申请日：2014-06-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：加藤雅彥 , KATO, MASAHIKO , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO , 屋敷啓之 , YASHIKI, HIROYUKI , 飯室惠紀 , IMURO, YOSHIKI
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/67
CPC分类号： B08B3/10 , B08B7/0014 , H01L21/6715
摘要：本發明之基板處理裝置包括：氣流產生器件11，其於被保持為大致水平姿勢之基板W之周圍產生由自上方朝向下方之氣體所形成之降流；液膜形成器件41，其對基板W之上表面供給液體而形成液膜；冷卻氣體噴出噴嘴51，其對液膜噴出溫度較構成液膜之液體之凝固點更低之冷卻氣體而使液膜凍結；以及去除器件52，其將液膜凍結而成之凍結膜自基板去除。氣流產生器件11於自冷卻氣體噴出噴嘴51對液膜噴出冷卻氣體時，將降流之流速設為較自液膜形成器件41對基板W供給液體時更小。
简体摘要：本发明之基板处理设备包括：气流产生器件11，其于被保持为大致水平姿势之基板W之周围产生由自上方朝向下方之气体所形成之降流；液膜形成器件41，其对基板W之上表面供给液体而形成液膜；冷却气体喷出喷嘴51，其对液膜喷出温度较构成液膜之液体之凝固点更低之冷却气体而使液膜冻结；以及去除器件52，其将液膜冻结而成之冻结膜自基板去除。气流产生器件11于自冷却气体喷出喷嘴51对液膜喷出冷却气体时，将降流之流速设为较自液膜形成器件41对基板W供给液体时更小。

8. 发明专利

TW201802985A 基板處理裝置、基板處理系統及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理系统及基板处理方法
公开(公告)号：TW201802985A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106104896
申请日：2017-02-15
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/67 , F26B3/20
CPC分类号： H01L21/67034 , F26B3/20 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67103 , H01L21/67115 , H01L21/67248
摘要：提供一種在下述之基板處理技術中，能以較短之節拍時間且優異之能量效率進行處理之技術，該基板處理技術，係於基板表面使溶媒成分自含有昇華性物質之溶液中蒸發之後使昇華性物質昇華之技術。基板處理裝置1具備：第一腔室；液膜形成部，其於第一腔室內，且在基板之表面形成含有具昇華性之昇華性物質之溶液的液膜P；第二腔室，其載入形成有液膜P之基板W；板部，其設置於第二腔室內，且上面可載置基板W；溫度控制部，其將板部之上面升溫控制在既定溫度；及加熱部，其將在載置於板部之基板W上且自溶液中析出之昇華性物質加熱而使其昇華。
简体摘要：提供一种在下述之基板处理技术中，能以较短之节拍时间且优异之能量效率进行处理之技术，该基板处理技术，系于基板表面使溶媒成分自含有升华性物质之溶液中蒸发之后使升华性物质升华之技术。基板处理设备1具备：第一腔室；液膜形成部，其于第一腔室内，且在基板之表面形成含有具升华性之升华性物质之溶液的液膜P；第二腔室，其加载形成有液膜P之基板W；板部，其设置于第二腔室内，且上面可载置基板W；温度控制部，其将板部之上面升温控制在既定温度；及加热部，其将在载置于板部之基板W上且自溶液中析出之升华性物质加热而使其升华。

9. 发明专利

TW201727813A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201727813A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105141210
申请日：2016-12-13
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：北川廣明 , KITAGAWA, HIROAKI , 上田大 , UEDA, DAI , 宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/68 , G02F1/135 , G02F1/1333 , B08B3/02
CPC分类号： F25B21/02 , B05D3/10 , B08B7/0014 , H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/67109 , H01L21/68764
摘要：本發明具備有：基板保持部，其保持將附著有凝固對象液之表面朝向上方之水平姿勢之基板；旋轉部，其使被保持於冷氣基板保持部之冷氣基板繞鉛垂軸旋轉；第1凝固部，其於第1位置將具有較冷氣凝固對象液之凝固點更低之溫度之液體冷媒供給至冷氣基板之背面而使冷氣凝固對象液凝固；及第2凝固部，其藉由第1冷卻機構及第2冷卻機構中的至少一者來使冷氣凝固對象液凝固，該第1冷卻機構係於自冷氣基板之旋轉中心相較冷氣第1位置更朝徑向離開之第2位置，將具有較冷氣凝固對象液之凝固點更低之溫度之氣體冷媒朝向冷氣基板供給而進行冷卻，該第2冷卻機構係於冷氣第2位置將具有較冷氣凝固對象液之凝固點更低之溫度之處理面接液於冷氣凝固對象液而進行冷卻；且冷氣基板藉由與冷氣旋轉部所進行之旋轉同步地，藉由冷氣第1凝固部及冷氣第2凝固部使冷氣凝固對象液凝固。
简体摘要：本发明具备有：基板保持部，其保持将附着有凝固对象液之表面朝向上方之水平姿势之基板；旋转部，其使被保持于冷气基板保持部之冷气基板绕铅垂轴旋转；第1凝固部，其于第1位置将具有较冷气凝固对象液之凝固点更低之温度之液体冷媒供给至冷气基板之背面而使冷气凝固对象液凝固；及第2凝固部，其借由第1冷却机构及第2冷却机构中的至少一者来使冷气凝固对象液凝固，该第1冷却机构系于自冷气基板之旋转中心相较冷气第1位置更朝径向离开之第2位置，将具有较冷气凝固对象液之凝固点更低之温度之气体冷媒朝向冷气基板供给而进行冷却，该第2冷却机构系于冷气第2位置将具有较冷气凝固对象液之凝固点更低之温度之处理面接液于冷气凝固对象液而进行冷却；且冷气基板借由与冷气旋转部所进行之旋转同步地，借由冷气第1凝固部及冷气第2凝固部使冷气凝固对象液凝固。

10. 发明专利

TWI563550B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI563550B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW104106981
申请日：2011-11-11
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO , 藤原直澄 , FUJIWARA, NAOZUMI
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/67

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