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1. 发明专利

TW201638541A 加熱乾燥裝置审中-公开
简体标题：加热干燥设备
公开(公告)号：TW201638541A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105106884
申请日：2016-03-07
申请人：東麗工程股份有限公司 , TORAY ENGINEERING CO., LTD.
发明人：濱川健史 , HAMAKAWA, KENJI , 奧田大輔 , OKUDA, DAISUKE , 岡本貫志 , OKAMOTO, KANJI
IPC分类号： F26B21/00 , F26B3/20
摘要：本發明提供一種加熱乾燥裝置，係能抑制附著於腔室部內壁的昇華物等混入至塗布膜，而能抑制腔室部的洗淨作業的頻率。加熱乾燥裝置係具備有：腔室部，係收容基板；加熱器部，係加熱形成於基板上的塗布膜；以及排氣部，係將腔室部內排氣；該加熱乾燥裝置係一邊使腔室部內排氣，一邊將載置於腔室部內的基板上的塗布膜加熱並使塗布膜乾燥；該加熱乾燥裝置係構成為於與被載置的基板相對向之對向壁設置有多孔質部，該多孔質部係於至少與基板整面相對向的區域中之多孔質部的表面形成空氣層。
简体摘要：本发明提供一种加热干燥设备，系能抑制附着于腔室部内壁的升华物等混入至涂布膜，而能抑制腔室部的洗净作业的频率。加热干燥设备系具备有：腔室部，系收容基板；加热器部，系加热形成于基板上的涂布膜；以及排气部，系将腔室部内排气；该加热干燥设备系一边使腔室部内排气，一边将载置于腔室部内的基板上的涂布膜加热并使涂布膜干燥；该加热干燥设备系构成为于与被载置的基板相对向之对向壁设置有多孔质部，该多孔质部系于至少与基板整面相对向的区域中之多孔质部的表面形成空气层。

2. 发明专利

TW201802985A 基板處理裝置、基板處理系統及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理系统及基板处理方法
公开(公告)号：TW201802985A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106104896
申请日：2017-02-15
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：宮勝彥 , MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L21/67 , F26B3/20
CPC分类号： H01L21/67034 , F26B3/20 , H01L21/67028 , H01L21/67051 , H01L21/67103 , H01L21/67115 , H01L21/67248
摘要：提供一種在下述之基板處理技術中，能以較短之節拍時間且優異之能量效率進行處理之技術，該基板處理技術，係於基板表面使溶媒成分自含有昇華性物質之溶液中蒸發之後使昇華性物質昇華之技術。基板處理裝置1具備：第一腔室；液膜形成部，其於第一腔室內，且在基板之表面形成含有具昇華性之昇華性物質之溶液的液膜P；第二腔室，其載入形成有液膜P之基板W；板部，其設置於第二腔室內，且上面可載置基板W；溫度控制部，其將板部之上面升溫控制在既定溫度；及加熱部，其將在載置於板部之基板W上且自溶液中析出之昇華性物質加熱而使其昇華。
简体摘要：提供一种在下述之基板处理技术中，能以较短之节拍时间且优异之能量效率进行处理之技术，该基板处理技术，系于基板表面使溶媒成分自含有升华性物质之溶液中蒸发之后使升华性物质升华之技术。基板处理设备1具备：第一腔室；液膜形成部，其于第一腔室内，且在基板之表面形成含有具升华性之升华性物质之溶液的液膜P；第二腔室，其加载形成有液膜P之基板W；板部，其设置于第二腔室内，且上面可载置基板W；温度控制部，其将板部之上面升温控制在既定温度；及加热部，其将在载置于板部之基板W上且自溶液中析出之升华性物质加热而使其升华。

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