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    • 2. 发明专利
    • 平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置
    • 平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备
    • TW445401B
    • 2001-07-11
    • TW089107095
    • 2000-04-15
    • 富士金股份有限公司東京威力科創股份有限公司大見忠弘
    • 大見忠弘加賀爪哲廣瀨潤杉山一彥深澤和夫小泉浩長岡秀樹皆見幸男西野功二土肥亮介米華克典池田信一山路道雄森本明弘宇野富雄出田英二松本篤志上野山豊已
    • G05D
    • G05D7/0658G05D7/0664Y10S438/935Y10T137/0396Y10T137/7759Y10T137/7761Y10T137/86389Y10T137/87877Y10T137/87917
    • 一種平行分流式流體供應裝置與使用該裝置之流體的可變型壓力式流量控制方法及流體可變型壓力式流量控制裝置,從壓力調整用的l個調整器平行配設複數條流路之流體供應裝置中,使各流路之流體供應的開關操作不致對其他流路之穩態供應造成過大的變動。因此,在各流路上配設流量控制用質量流控制器MFC或壓力式流量控制裝置FCS,某流路之流體供給自關閉而開啟時,構成從其流路之質量流控制器MFC動作開始僅延遲預定的延遲時間△t到達設定流量Qs。
      又,利用l台壓力式流量控制裝置可高精度流量控制複數氣體種類及實現其裝置。因此,以臨界壓力比以下的條件理論性導出通過孔口的氣體流量,根據該式定義流動係數,利用該流動係數形成可對應多數之氣體種類者。
      亦即,將孔口8的上游側壓力P1保持在下游壓力P2約2倍以上的狀態下,通過孔口的氣體運算流量Qc以 Qc=KP1(K為常數)運算之流量控制方法中,各種類氣體係以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2計算流動係數FF,氣體種類A的運算流量為QA時,在同一孔口、同一上游側壓力及同一上游側溫度的條件下使氣體種類B流通時,以其運算流量QvB作為QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中,γS為氣體的標準狀態密度,κ為氣體的比熱比,R為氣體常數,k為未依據氣體種類之比例常數,FFvA.FFvB為氣體種類A.B的流動係數。
    • 一种平行分流式流体供应设备与使用该设备之流体的可变型压力式流量控制方法及流体可变型压力式流量控制设备,从压力调整用的l个调整器平行配设复数条流路之流体供应设备中,使各流路之流体供应的开关操作不致对其他流路之稳态供应造成过大的变动。因此,在各流路上配设流量控制用质量流控制器MFC或压力式流量控制设备FCS,某流路之流体供给自关闭而打开时,构成从其流路之质量流控制器MFC动作开始仅延迟预定的延迟时间△t到达设置流量Qs。 又,利用l台压力式流量控制设备可高精度流量控制复数气体种类及实现其设备。因此,以临界压力比以下的条件理论性导出通过孔口的气体流量,根据该式定义流动系数,利用该流动系数形成可对应多数之气体种类者。 亦即,将孔口8的上游侧压力P1保持在下游压力P2约2倍以上的状态下,通过孔口的气体运算流量Qc以 Qc=KP1(K为常数)运算之流量控制方法中,各种类气体系以FF=(k/γs){2/(κ+l)}](x.1)〔κ/{(κ十l)R}〕1/2计算流动系数FF,气体种类A的运算流量为QA时,在同一孔口、同一上游侧压力及同一上游侧温度的条件下使气体种类B流通时,以其运算流量QvB作为QvB(EFvB/EFvA)QvA算出。其中,γS为气体的标准状态密度,κ为气体的比热比,R为气体常数,k为未依据气体种类之比例常数,FFvA.FFvB为气体种类A.B的流动系数。
    • 4. 发明专利
    • 改良型壓力式流量控制裝置
    • 改良型压力式流量控制设备
    • TW552491B
    • 2003-09-11
    • TW091135458
    • 2002-12-06
    • 富士金股份有限公司東京威力科創股份有限公司大見忠弘
    • 大見忠弘乾秀二郎酒井泰治植山將宜杉山一彥宇野富雄池田信一西野功二中村修土肥亮介松本薦諮
    • G05D
    • G05D7/0635Y10T137/7759Y10T137/7761
    • 本發明之技術課題為開發非臨界領域中確立高精度匹配壓縮性流體的實際流量的實驗流量式,使用此流量式高精度進行流量控制的改良型壓力式流量控制裝置。
      本發明之解決手段在於提供一種改良型壓力式流量控制裝置,其以QC=KP2m(P1-P2)n表示非臨界領域(非音速域)中壓縮性流體的實驗流量式,以此QC=KP2m(P1-P2)n(K為比例常數,m及n為常數)計算通過孔口4的流體流量,同正確且高速地將流量控制於指定流量。又提供一種改良型壓力式流量控制裝置,其經常將上游側壓力P1及下游側壓力P2所得壓力比P2/P1=r與臨界值rc比較,在臨界條件(r≦rc)下以QC=KP1,在非臨界條件(r>rc)下以 Qc=KP2m(P1-P2)n運算流量,可一面對應流體的所有條件,一面正確且高速地將流量控制於指定流量。
    • 本发明之技术课题为开发非临界领域中确立高精度匹配压缩性流体的实际流量的实验流量式,使用此流量式高精度进行流量控制的改良型压力式流量控制设备。 本发明之解决手段在于提供一种改良型压力式流量控制设备,其以QC=KP2m(P1-P2)n表示非临界领域(非音速域)中压缩性流体的实验流量式,以此QC=KP2m(P1-P2)n(K为比例常数,m及n为常数)计算通过孔口4的流体流量,同正确且高速地将流量控制于指定流量。又提供一种改良型压力式流量控制设备,其经常将上游侧压力P1及下游侧压力P2所得压力比P2/P1=r与临界值rc比较,在临界条件(r≦rc)下以QC=KP1,在非临界条件(r>rc)下以 Qc=KP2m(P1-P2)n运算流量,可一面对应流体的所有条件,一面正确且高速地将流量控制于指定流量。
    • 5. 实用新型
    • 孔口內設閥
    • 孔口内设阀
    • TW471583U
    • 2002-01-01
    • TW090211979
    • 2000-07-06
    • 富士金股份有限公司大見忠弘
    • 大見忠弘出田英二土肥亮介西野功二池田信一廣瀨隆山路道雄
    • F16K
    • 可謀求減少使用於具備在半導體製造裝置或化學品製造設備所使用之壓力式流量控制裝置之氣體供給設備等的孔口內設閥之製造成本,同時藉提高孔口之加精度及防止閥裝配時之孔口變形,提供一種可得到優異之流量控制特性的孔口內設閥。為了此,在本創作中,係由形成有連通於上方開放之閥室之氣體流入路與氣體流出路的耐熱材料製閥本體,及設於閥本體之閥室內,形成有相連通於上述閥本體之氣體流出路之氣體流出路與閥座的含成樹脂製閥座體,及可裝卸地設於閥座體之氣體流出路中之耐熱材料製孔口盤,及形成在孔口盤且縮小閥座體之氣體流出路的孔口,來構成孔口內設閥之主要部;在不銹鋼製孔口盤事先形成孔口,同時裝卸自如地裝配藉由其他加工讓孔口所形成之金屬製孔口盤與合成樹脂製閥座體,藉著經由金屬製內盤。推壓壓縮合成樹脂帶製閥座體,將兩者密狀地組製在閥本體。
    • 可谋求减少使用于具备在半导体制造设备或化学品制造设备所使用之压力式流量控制设备之气体供给设备等的孔口内设阀之制造成本,同时藉提高孔口之加精度及防止阀装配时之孔口变形,提供一种可得到优异之流量控制特性的孔口内设阀。为了此,在本创作中,系由形成有连通于上方开放之阀室之气体流入路与气体流出路的耐热材料制阀本体,及设于阀本体之阀室内,形成有相连通于上述阀本体之气体流出路之气体流出路与阀座的含成树脂制阀座体,及可装卸地设于阀座体之气体流出路中之耐热材料制孔口盘,及形成在孔口盘且缩小阀座体之气体流出路的孔口,来构成孔口内设阀之主要部;在不锈钢制孔口盘事先形成孔口,同时装卸自如地装配借由其他加工让孔口所形成之金属制孔口盘与合成树脂制阀座体,借着经由金属制内盘。推压压缩合成树脂带制阀座体,将两者密状地组制在阀本体。
    • 7. 发明专利
    • 具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備
    • 具有压力式流量控制设备之气体供应设备
    • TW381205B
    • 2000-02-01
    • TW088108875
    • 1999-05-28
    • 富士金股份有限公司東京威力科創有限公司大見忠弘
    • 大見忠弘加賀爪哲池田信一西野功二吉川和博出田英二上肥亮介
    • G05D
    • G05D7/0635Y10T137/7759Y10T137/7761
    • 本發明之課題係將在半導體製造裝置等所使用具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備更加小型化來降低製造成本,並且,改善過渡流量特性來防止氣體供應揭示時之氣體之越標(overshoot)現象之發生,藉提升流量控制精度或設備之可靠性,來減少半導體製品品質之不均勻並且提高半導體製品之製造效率。
      本發明之解決手段,係將孔口(orifice)之上游側壓力保持成下游側壓力之約2倍以上之狀態下邊進行氣體之流量控制透過孔口對應閥對於製程供應氣體之壓力式流量控制裝置之氣體供應設備,其特徵為備有﹔從氣體供應源接受氣體之控制閥,與設於控制閥下游側之孔口對應閥,與設在上述控制閥與孔口對應閥間之壓力檢測器,與設於孔口對應閥之閥機構部下游側之孔口,與從上述壓力檢測器之檢測壓力P1將流量以Qc=KP1(但是K係常數)來加以演算,並且,將流量指令訊號Qs與演算流量Qc之差值作為控制訊號Qy而輸出於控制閥驅動部之演算控制裝置來構成氣體供應設備。
    • 本发明之课题系将在半导体制造设备等所使用具有压力式流量控制设备之气体供应设备更加小型化来降低制造成本,并且,改善过渡流量特性来防止气体供应揭示时之气体之越标(overshoot)现象之发生,藉提升流量控制精度或设备之可靠性,来减少半导体制品品质之不均匀并且提高半导体制品之制造效率。 本发明之解决手段,系将孔口(orifice)之上游侧压力保持成下游侧压力之约2倍以上之状态下边进行气体之流量控制透过孔口对应阀对于制程供应气体之压力式流量控制设备之气体供应设备,其特征为备有﹔从气体供应源接受气体之控制阀,与设于控制阀下游侧之孔口对应阀,与设在上述控制阀与孔口对应阀间之压力检测器,与设于孔口对应阀之阀机构部下游侧之孔口,与从上述压力检测器之检测压力P1将流量以Qc=KP1(但是K系常数)来加以演算,并且,将流量指令信号Qs与演算流量Qc之差值作为控制信号Qy而输出于控制阀驱动部之演算控制设备来构成气体供应设备。
    • 9. 发明专利
    • 壓力感測器、壓力控制裝置及壓力式流量控制裝置之溫度偏移修正裝置
    • 压力传感器、压力控制设备及压力式流量控制设备之温度偏移修正设备
    • TW200301350A
    • 2003-07-01
    • TW091135190
    • 2002-12-04
    • 富士金股份有限公司 株式會社東京威力科創股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED大見忠弘 TADAHIRO OHMI
    • 大見忠弘 TADAHIRO OHMI杉山一彥西野功二宇野富雄中村修松本篤諮土肥亮介池田信一
    • G01L
    • G05D7/0635G01D3/022G01F1/50G01F15/046G01L9/025
    • 本發明之技術課題在於開發自動修正壓力感測器的溫度偏移,不管溫度變動如何,均可正確檢測壓力的壓力感測器、壓力控制裝置及流量控制裝置。本發明之解決手段在於,本發明壓力式流量控制裝置之溫度偏移修正裝置在孔板4與控制閥22之間設置檢測上游側壓力P1的上游側壓力感測器10,一面以上游側壓力P1運算孔板通過流量,一面藉由控制閥22的啟開控制孔板通過流量的壓方式流量控制裝置中,包括溫度感測器14,其測定流體溫度;記憶手段64,其儲存流體溫度T與上游側壓力感測器10的輸出偏移的關係;以及溫度偏移修正手段,其在流體溫度T變化情形下,根據記憶手段64的資料,運算上游側壓力感測器10的輸出偏移量,以此運算輸出偏移量消去並修正上游側壓力感測器10的輸出偏移。藉此構造,自動修正壓力感測器的溫度偏移,可作正確的流量控制。
    • 本发明之技术课题在于开发自动修正压力传感器的温度偏移,不管温度变动如何,均可正确检测压力的压力传感器、压力控制设备及流量控制设备。本发明之解决手段在于,本发明压力式流量控制设备之温度偏移修正设备在孔板4与控制阀22之间设置检测上游侧压力P1的上游侧压力传感器10,一面以上游侧压力P1运算孔板通过流量,一面借由控制阀22的启开控制孔板通过流量的压方式流量控制设备中,包括温度传感器14,其测定流体温度;记忆手段64,其存储流体温度T与上游侧压力传感器10的输出偏移的关系;以及温度偏移修正手段,其在流体温度T变化情形下,根据记忆手段64的数据,运算上游侧压力传感器10的输出偏移量,以此运算输出偏移量消去并修正上游侧压力传感器10的输出偏移。借此构造,自动修正压力传感器的温度偏移,可作正确的流量控制。
    • 10. 发明专利
    • 壓力偵知器的安裝構造
    • 压力侦知器的安装构造
    • TW466336B
    • 2001-12-01
    • TW089120571
    • 2000-10-03
    • 富士金股份有限公司東京威力科創股份有限公司大見忠弘
    • 大見忠弘廣瀨隆出田英二池田信一上肥亮介西野功二吉川和博加賀爪哲廣瀨潤深澤和夫小泉浩長岡秀樹
    • G01L
    • G01L19/0023G01L19/0645G01L19/145G01L19/147
    • 為提供一種將隔膜型壓力偵知器組裝於設在管路或機器等安裝用具時,可防止加於壓力偵知器之應力所起隔膜之變形,及組裝前之特性較大變化之壓力偵知器的安裝構造。
      因此,本發明係在將具隔膜之隔膜座,與內藏有藉上述隔膜變位而移動之感測元件的感測元件座組合所成壓力偵知器,介由墊片插設於配管路或機械裝置所設安裝用具本體之插設孔內,且藉自上方插入於插設孔之抑壓構件壓任促使壓力偵知器以氣密固定之壓力偵知器的安裝構造,使抑壓構件抵觸於上述隔膜座本體部上面及使墊片抵觸於隔膜座本體部底面同時,在上述本體部底面與墊片抵觸部內側位置形成環狀淺槽,而藉該淺槽吸收因抑壓構件之抑押所產生之變形。
    • 为提供一种将隔膜型压力侦知器组装于设在管路或机器等安装用具时,可防止加于压力侦知器之应力所起隔膜之变形,及组装前之特性较大变化之压力侦知器的安装构造。 因此,本发明系在将具隔膜之隔膜座,与内藏有藉上述隔膜变位而移动之传感组件的传感组件座组合所成压力侦知器,介由垫片插设于配管路或机械设备所设安装用具本体之插设孔内,且藉自上方插入于插设孔之抑压构件压任促使压力侦知器以气密固定之压力侦知器的安装构造,使抑压构件抵触于上述隔膜座本体部上面及使垫片抵触于隔膜座本体部底面同时,在上述本体部底面与垫片抵触部内侧位置形成环状浅槽,而藉该浅槽吸收因抑压构件之抑押所产生之变形。