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1. 发明专利

TW201420807A 氣相成長裝置审中-公开
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TW201420807A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102135291
申请日：2013-09-30
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸EMC股份有限公司 , TN EMC LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 生方映德 , UBUKATA, AKINORI , 山岡優哉 , YAMAOKA, YUYA , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： C23C16/44 , H01L21/6719 , H01L21/67754 , H01L21/68742 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , H01L21/68792
摘要：本發明的目的係在提供一種生產力高且精簡的氣相成長裝置。本發明之氣相成長裝置1，係將原料氣體供應到設置在可上下分割成腔體本體3與腔體蓋4的腔體2內之基板5上而在前述基板5上使薄膜成長之氣相成長裝置1，其具有：基座7，係構成為圓板狀且以可裝卸之方式設置在前述腔體本體3側來保持前述基板5；基座蓋9，以將該基座7之基板保持部以外的部位予以覆蓋之方式載置在該基座7上；天花板11，係在與前述基座7之間隔著預定的間隔而相對所配置且形成前述原料氣體的流路；以及臨時安置裝置21，係在分割前述腔體2時所形成之前述腔體本體3的上方空間，將前述基座7、前述基座蓋9、前述天花板11中至少1個暫時地予以臨時安置。
简体摘要：本发明的目的系在提供一种生产力高且精简的气相成长设备。本发明之气相成长设备1，系将原料气体供应到设置在可上下分割成腔体本体3与腔体盖4的腔体2内之基板5上而在前述基板5上使薄膜成长之气相成长设备1，其具有：基座7，系构成为圆板状且以可装卸之方式设置在前述腔体本体3侧来保持前述基板5；基座盖9，以将该基座7之基板保持部以外的部位予以覆盖之方式载置在该基座7上；天花板11，系在与前述基座7之间隔着预定的间隔而相对所配置且形成前述原料气体的流路；以及临时安置设备21，系在分割前述腔体2时所形成之前述腔体本体3的上方空间，将前述基座7、前述基座盖9、前述天花板11中至少1个暂时地予以临时安置。

2. 发明专利

TW201406983A 承載器及氣相成長裝置审中-公开
简体标题：承载器及气相成长设备
公开(公告)号：TW201406983A
公开(公告)日：2014-02-16
申请号：TW102122934
申请日：2013-06-27
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸EMC股份有限公司 , TN EMC LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/54
CPC分类号： C30B25/12 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C16/458 , C23C16/4583 , C23C16/4584
摘要：本發明係一種承載器，係可旋轉地設置在腔室內，具有複數個基板載置部供載置要堆積薄膜之基板並使該基板能自轉，該承載器係在內周部具有開口部並形成圓圈狀，該開口部係供插入用以旋轉承載器之旋轉軸，在外周部及/或前述開口部之周緣部具有複數個向直徑方向延伸之切口。
简体摘要：本发明系一种承载器，系可旋转地设置在腔室内，具有复数个基板载置部供载置要堆积薄膜之基板并使该基板能自转，该承载器系在内周部具有开口部并形成圆圈状，该开口部系供插入用以旋转承载器之旋转轴，在外周部及/或前述开口部之周缘部具有复数个向直径方向延伸之切口。

3. 发明专利

TW201110198A 氣相成長裝置审中-公开
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TW201110198A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：TW099119845
申请日：2010-06-18
申请人：大陽日酸股份有限公司 , 大陽日酸EMC股份有限公司
发明人：山口晃 , 內山康右
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： C23C14/505 , C23C16/4584 , H01L21/67109 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要：一種自公轉型之氣相成長裝置,可以使外齒輪和內齒輪自動地成為咬合狀態,且,在複數外齒輪構件(設置成可以在圓盤狀基座之外周部周方向旋轉)和環狀固定內齒輪構件(具備有與該外齒輪構件咬合之內齒輪)至少任一齒輪構件之齒側面設置有導引斜面,當該兩個齒輪構件從非咬合狀態位置移動至咬合狀態位置時,與另一齒輪構件的齒輪面抵接,以將該兩個齒輪構件導引至咬合狀態。
简体摘要：一种自公转型之气相成长设备,可以使外齿轮和内齿轮自动地成为咬合状态,且,在复数外齿轮构件(设置成可以在圆盘状基座之外周部周方向旋转)和环状固定内齿轮构件(具备有与该外齿轮构件咬合之内齿轮)至少任一齿轮构件之齿侧面设置有导引斜面,当该两个齿轮构件从非咬合状态位置移动至咬合状态位置时,与另一齿轮构件的齿轮面抵接,以将该两个齿轮构件导引至咬合状态。

4. 发明专利

TW201250048A 氣相成長裝置 VAPOR DEPOSITION APPARATUS 审中-公开
简体标题：气相成长设备 VAPOR DEPOSITION APPARATUS
公开(公告)号：TW201250048A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101109450
申请日：2012-03-20
申请人：大陽日酸股份有限公司 , 大陽日酸EMC股份有限公司
发明人：內藤一樹 , 山口晃 , 內山康右 , 山本淳
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/458 , C23C16/4584 , H01L21/67754 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要：本發明提供一種氣相成長裝置，係具備反應爐、搬送機械手、套手工作箱、交換台、以及交換箱，該反應爐係以能夠裝卸的方式設置晶座而進行氣相成長，該搬送機械手係搬送前述晶座，該套手工作箱係收容該搬送機械手以及前述反應爐，該交換台係設置在該套手工作箱內在晶座的交換時暫時性載置晶座，而該交換箱係設置在前述套手工作箱的側壁而進行晶座的交換；前述交換台係具備定位裝置，該定位裝置係當載置有前述晶座時即進行旋轉而停止在預定的旋轉位置，從而決定前述晶座之旋轉方向的位置。
简体摘要：本发明提供一种气相成长设备，系具备反应炉、搬送机械手、套手工作箱、交换台、以及交换箱，该反应炉系以能够装卸的方式设置晶座而进行气相成长，该搬送机械手系搬送前述晶座，该套手工作箱系收容该搬送机械手以及前述反应炉，该交换台系设置在该套手工作箱内在晶座的交换时暂时性载置晶座，而该交换箱系设置在前述套手工作箱的侧壁而进行晶座的交换；前述交换台系具备定位设备，该定位设备系当载置有前述晶座时即进行旋转而停止在预定的旋转位置，从而决定前述晶座之旋转方向的位置。

5. 发明专利

TW201111542A 氣相成長裝置审中-公开
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TW201111542A
公开(公告)日：2011-04-01
申请号：TW099123259
申请日：2010-07-15
申请人：大陽日酸股份有限公司 , 大陽日酸EMC股份有限公司
发明人：山口晃 , 松本功 , 內山康右
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/4586 , C23C16/45508
摘要：一種自公轉型之氣相成長裝置，係在將原料氣體導入方向和基座旋轉導入方向設定為同一方向時，可以使淨化氣體或原料氣體之流量保持為一定，其中在支持圓盤狀之基座13而使其旋轉之中空驅動軸12內部，同軸配置原料氣體供給管20，在中空驅動軸和原料氣體供給管之間形成淨化氣體流路21，同時在將淨化氣體從淨化氣體流路導入流動通道18外周方向之淨化氣體導入噴嘴中，使氣體導入路徑19c相對基座上面為平行方向，且將上下尺寸形成一定。
简体摘要：一种自公转型之气相成长设备，系在将原料气体导入方向和基座旋转导入方向设置为同一方向时，可以使净化气体或原料气体之流量保持为一定，其中在支持圆盘状之基座13而使其旋转之中空驱动轴12内部，同轴配置原料气体供给管20，在中空驱动轴和原料气体供给管之间形成净化气体流路21，同时在将净化气体从净化气体流路导入流动信道18外周方向之净化气体导入喷嘴中，使气体导入路径19c相对基座上面为平行方向，且将上下尺寸形成一定。

6. 发明专利

TWI592506B 承載器及氣相成長裝置有权
简体标题：承载器及气相成长设备
公开(公告)号：TWI592506B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW102122934
申请日：2013-06-27
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸CSE股份有限公司 , TNCSE LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/54
CPC分类号： C30B25/12 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C16/458 , C23C16/4583 , C23C16/4584

7. 发明专利

TWI515329B 氣相成長裝置有权
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TWI515329B
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW101104658
申请日：2012-02-14
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 生方映德 , UBUKATA, AKINORI
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： C30B25/12 , C23C16/303 , C23C16/4584 , C23C16/52 , C30B25/16 , H01L21/67259 , H01L21/67288 , H01L21/68764 , H01L21/68771

8. 发明专利

TWI527089B 氣相成長裝置有权
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TWI527089B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW099119845
申请日：2010-06-18
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸CSE股份有限公司 , TNCSE LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/18
CPC分类号： C23C14/505 , C23C16/4584 , H01L21/67109 , H01L21/68764 , H01L21/68771

9. 发明专利

TWI498445B 氣相成長裝置有权
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TWI498445B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW099123259
申请日：2010-07-15
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸CSE股份有限公司 , TNCSE LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 松本功 , MATSUMOTO, KOH , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/4586 , C23C16/45508

10. 发明专利

TW201903199A 氣液反應裝置、反應管及成膜裝置审中-公开
简体标题：气液反应设备、反应管及成膜设备
公开(公告)号：TW201903199A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107117073
申请日：2018-05-18
申请人：國立大學法人東京農工大學 , NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKYO UNIVERSITY OF AGRICULTURE AND TECHNOLOGY , 日商大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 日商大陽日酸CSE股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CSE CORPORATION
发明人：纐纈明伯 , KOUKITU, AKINORI , 村上尚 , MURAKAMI, HISASHI , 山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 椎名一成 , SHIINA, KAZUSHIGE , 島村隼斗 , SHIMAMURA, HAYATO
IPC分类号： C23C16/455
摘要：提供一種氣液反應裝置，其包含：於内部空間的下部收容熔融金屬，使供給至内部空間的長邊方向的一端側的上部之含有N2氣及/或Ar氣的載流氣體與原料氣體的混合氣體A向長邊方向流動，同時藉由原料氣體與熔融金屬的氣液反應使生成氣體生成，將含有生成氣體與載流氣體的混合氣體B自長邊方向的另一端側的上部排出之氣液反應室；以及自與氣液反應室的内部空間接觸的頂板內側面向内部空間突出，該長邊方向的一端側的突出角度為鈍角，且具有使氣體通過該長邊方向的狹縫之突出元件。
简体摘要：提供一种气液反应设备，其包含：于内部空间的下部收容熔融金属，使供给至内部空间的长边方向的一端侧的上部之含有N2气及/或Ar气的载流气体与原料气体的混合气体A向长边方向流动，同时借由原料气体与熔融金属的气液反应使生成气体生成，将含有生成气体与载流气体的混合气体B自长边方向的另一端侧的上部排出之气液反应室；以及自与气液反应室的内部空间接触的顶板内侧面向内部空间突出，该长边方向的一端侧的突出角度为钝角，且具有使气体通过该长边方向的狭缝之突出组件。

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