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1. 发明专利

TW201111542A 氣相成長裝置审中-公开
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TW201111542A
公开(公告)日：2011-04-01
申请号：TW099123259
申请日：2010-07-15
申请人：大陽日酸股份有限公司 , 大陽日酸EMC股份有限公司
发明人：山口晃 , 松本功 , 內山康右
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/4586 , C23C16/45508
摘要：一種自公轉型之氣相成長裝置，係在將原料氣體導入方向和基座旋轉導入方向設定為同一方向時，可以使淨化氣體或原料氣體之流量保持為一定，其中在支持圓盤狀之基座13而使其旋轉之中空驅動軸12內部，同軸配置原料氣體供給管20，在中空驅動軸和原料氣體供給管之間形成淨化氣體流路21，同時在將淨化氣體從淨化氣體流路導入流動通道18外周方向之淨化氣體導入噴嘴中，使氣體導入路徑19c相對基座上面為平行方向，且將上下尺寸形成一定。
简体摘要：一种自公转型之气相成长设备，系在将原料气体导入方向和基座旋转导入方向设置为同一方向时，可以使净化气体或原料气体之流量保持为一定，其中在支持圆盘状之基座13而使其旋转之中空驱动轴12内部，同轴配置原料气体供给管20，在中空驱动轴和原料气体供给管之间形成净化气体流路21，同时在将净化气体从净化气体流路导入流动信道18外周方向之净化气体导入喷嘴中，使气体导入路径19c相对基座上面为平行方向，且将上下尺寸形成一定。

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