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1. 发明专利

TWI592506B 承載器及氣相成長裝置有权
简体标题：承载器及气相成长设备
公开(公告)号：TWI592506B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW102122934
申请日：2013-06-27
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸CSE股份有限公司 , TNCSE LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/54
CPC分类号： C30B25/12 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C16/458 , C23C16/4583 , C23C16/4584

2. 发明专利

TWI527089B 氣相成長裝置有权
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TWI527089B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW099119845
申请日：2010-06-18
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸CSE股份有限公司 , TNCSE LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/18
CPC分类号： C23C14/505 , C23C16/4584 , H01L21/67109 , H01L21/68764 , H01L21/68771

3. 发明专利

TWI498445B 氣相成長裝置有权
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TWI498445B
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW099123259
申请日：2010-07-15
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸CSE股份有限公司 , TNCSE LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 松本功 , MATSUMOTO, KOH , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： C23C16/44 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/4586 , C23C16/45508

4. 发明专利

TWI633202B 氣相成長裝置有权
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TWI633202B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW102135291
申请日：2013-09-30
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸CSE股份有限公司 , TNCSE LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 生方映德 , UBUKATA, AKINORI , 山岡優哉 , YAMAOKA, YUYA , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： C23C16/54

5. 发明专利

TW201903199A 氣液反應裝置、反應管及成膜裝置审中-公开
简体标题：气液反应设备、反应管及成膜设备
公开(公告)号：TW201903199A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107117073
申请日：2018-05-18
申请人：國立大學法人東京農工大學 , NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKYO UNIVERSITY OF AGRICULTURE AND TECHNOLOGY , 日商大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 日商大陽日酸CSE股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CSE CORPORATION
发明人：纐纈明伯 , KOUKITU, AKINORI , 村上尚 , MURAKAMI, HISASHI , 山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 椎名一成 , SHIINA, KAZUSHIGE , 島村隼斗 , SHIMAMURA, HAYATO
IPC分类号： C23C16/455
摘要：提供一種氣液反應裝置，其包含：於内部空間的下部收容熔融金屬，使供給至内部空間的長邊方向的一端側的上部之含有N2氣及/或Ar氣的載流氣體與原料氣體的混合氣體A向長邊方向流動，同時藉由原料氣體與熔融金屬的氣液反應使生成氣體生成，將含有生成氣體與載流氣體的混合氣體B自長邊方向的另一端側的上部排出之氣液反應室；以及自與氣液反應室的内部空間接觸的頂板內側面向内部空間突出，該長邊方向的一端側的突出角度為鈍角，且具有使氣體通過該長邊方向的狹縫之突出元件。
简体摘要：提供一种气液反应设备，其包含：于内部空间的下部收容熔融金属，使供给至内部空间的长边方向的一端侧的上部之含有N2气及/或Ar气的载流气体与原料气体的混合气体A向长边方向流动，同时借由原料气体与熔融金属的气液反应使生成气体生成，将含有生成气体与载流气体的混合气体B自长边方向的另一端侧的上部排出之气液反应室；以及自与气液反应室的内部空间接触的顶板内侧面向内部空间突出，该长边方向的一端侧的突出角度为钝角，且具有使气体通过该长边方向的狭缝之突出组件。

6. 发明专利

TWI515329B 氣相成長裝置有权
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TWI515329B
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW101104658
申请日：2012-02-14
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 生方映德 , UBUKATA, AKINORI
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： C30B25/12 , C23C16/303 , C23C16/4584 , C23C16/52 , C30B25/16 , H01L21/67259 , H01L21/67288 , H01L21/68764 , H01L21/68771

7. 发明专利

TW201420807A 氣相成長裝置审中-公开
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TW201420807A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102135291
申请日：2013-09-30
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸EMC股份有限公司 , TN EMC LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 生方映德 , UBUKATA, AKINORI , 山岡優哉 , YAMAOKA, YUYA , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： C23C16/44 , H01L21/6719 , H01L21/67754 , H01L21/68742 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , H01L21/68792
摘要：本發明的目的係在提供一種生產力高且精簡的氣相成長裝置。本發明之氣相成長裝置1，係將原料氣體供應到設置在可上下分割成腔體本體3與腔體蓋4的腔體2內之基板5上而在前述基板5上使薄膜成長之氣相成長裝置1，其具有：基座7，係構成為圓板狀且以可裝卸之方式設置在前述腔體本體3側來保持前述基板5；基座蓋9，以將該基座7之基板保持部以外的部位予以覆蓋之方式載置在該基座7上；天花板11，係在與前述基座7之間隔著預定的間隔而相對所配置且形成前述原料氣體的流路；以及臨時安置裝置21，係在分割前述腔體2時所形成之前述腔體本體3的上方空間，將前述基座7、前述基座蓋9、前述天花板11中至少1個暫時地予以臨時安置。
简体摘要：本发明的目的系在提供一种生产力高且精简的气相成长设备。本发明之气相成长设备1，系将原料气体供应到设置在可上下分割成腔体本体3与腔体盖4的腔体2内之基板5上而在前述基板5上使薄膜成长之气相成长设备1，其具有：基座7，系构成为圆板状且以可装卸之方式设置在前述腔体本体3侧来保持前述基板5；基座盖9，以将该基座7之基板保持部以外的部位予以覆盖之方式载置在该基座7上；天花板11，系在与前述基座7之间隔着预定的间隔而相对所配置且形成前述原料气体的流路；以及临时安置设备21，系在分割前述腔体2时所形成之前述腔体本体3的上方空间，将前述基座7、前述基座盖9、前述天花板11中至少1个暂时地予以临时安置。

8. 发明专利

TW201406983A 承載器及氣相成長裝置审中-公开
简体标题：承载器及气相成长设备
公开(公告)号：TW201406983A
公开(公告)日：2014-02-16
申请号：TW102122934
申请日：2013-06-27
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 大陽日酸EMC股份有限公司 , TN EMC LTD.
发明人：山口晃 , YAMAGUCHI, AKIRA , 內山康右 , UCHIYAMA, KOSUKE
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/54
CPC分类号： C30B25/12 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C16/458 , C23C16/4583 , C23C16/4584
摘要：本發明係一種承載器，係可旋轉地設置在腔室內，具有複數個基板載置部供載置要堆積薄膜之基板並使該基板能自轉，該承載器係在內周部具有開口部並形成圓圈狀，該開口部係供插入用以旋轉承載器之旋轉軸，在外周部及/或前述開口部之周緣部具有複數個向直徑方向延伸之切口。
简体摘要：本发明系一种承载器，系可旋转地设置在腔室内，具有复数个基板载置部供载置要堆积薄膜之基板并使该基板能自转，该承载器系在内周部具有开口部并形成圆圈状，该开口部系供插入用以旋转承载器之旋转轴，在外周部及/或前述开口部之周缘部具有复数个向直径方向延伸之切口。

9. 发明专利

TW201110198A 氣相成長裝置审中-公开
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TW201110198A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：TW099119845
申请日：2010-06-18
申请人：大陽日酸股份有限公司 , 大陽日酸EMC股份有限公司
发明人：山口晃 , 內山康右
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： C23C14/505 , C23C16/4584 , H01L21/67109 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要：一種自公轉型之氣相成長裝置,可以使外齒輪和內齒輪自動地成為咬合狀態,且,在複數外齒輪構件(設置成可以在圓盤狀基座之外周部周方向旋轉)和環狀固定內齒輪構件(具備有與該外齒輪構件咬合之內齒輪)至少任一齒輪構件之齒側面設置有導引斜面,當該兩個齒輪構件從非咬合狀態位置移動至咬合狀態位置時,與另一齒輪構件的齒輪面抵接,以將該兩個齒輪構件導引至咬合狀態。
简体摘要：一种自公转型之气相成长设备,可以使外齿轮和内齿轮自动地成为咬合状态,且,在复数外齿轮构件(设置成可以在圆盘状基座之外周部周方向旋转)和环状固定内齿轮构件(具备有与该外齿轮构件咬合之内齿轮)至少任一齿轮构件之齿侧面设置有导引斜面,当该两个齿轮构件从非咬合状态位置移动至咬合状态位置时,与另一齿轮构件的齿轮面抵接,以将该两个齿轮构件导引至咬合状态。

10. 发明专利

TW201241230A 氣相成長裝置审中-公开
简体标题：气相成长设备
公开(公告)号：TW201241230A
公开(公告)日：2012-10-16
申请号：TW101104658
申请日：2012-02-14
申请人：大陽日酸股份有限公司
发明人：山口晃 , 生方映德
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C30B25/12 , C23C16/303 , C23C16/4584 , C23C16/52 , C30B25/16 , H01L21/67259 , H01L21/67288 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要：一種氣相成長裝置，具備有可以高精確度測定基板狀態之測定手段，該氣相成長裝置是在處理室內具備有載置台和複數基板保持構件之自公轉型之氣相成長裝置，在設於處理室之雷射光透過部外面，固定有測定手段具備有：雷射光源，對被保持在基板保持構件且利用載置台之旋轉進行自公轉之基板面，於垂直方向連續地照射雷射光；及受光部，用以接收基板面所反射之雷射光；同時具備有判定手段，當以受光部所接收光之反射光之變動量大於預先設定之變動量時，判定該基板為異常狀態。
简体摘要：一种气相成长设备，具备有可以高精确度测定基板状态之测定手段，该气相成长设备是在处理室内具备有载置台和复数基板保持构件之自公转型之气相成长设备，在设于处理室之激光光透过部外面，固定有测定手段具备有：激光光源，对被保持在基板保持构件且利用载置台之旋转进行自公转之基板面，于垂直方向连续地照射激光光；及受光部，用以接收基板面所反射之激光光；同时具备有判定手段，当以受光部所接收光之反射光之变动量大于预先设置之变动量时，判定该基板为异常状态。

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