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1. 发明专利

TW201617581A 干涉式光學成像裝置、其應用之系統及方法审中-公开
简体标题：干涉式光学成像设备、其应用之系统及方法
公开(公告)号：TW201617581A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104104362
申请日：2015-02-09
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG , 何端書 , HO, TUAN SHU , 蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B9/04 , G02B21/00 , A61B6/02
CPC分类号： G02B5/3083 , A61B5/0066 , A61B5/0077 , A61B5/441 , A61B5/443 , G02B21/0032 , G02B21/0056 , G02B21/008 , G02B21/0092 , G02B21/02 , G02B21/26 , G02B21/33
摘要：本發明提供了將全場光學同調斷層掃描(OCT)技術應用於三維皮膚組織成像的裝置和系統。公開了特殊設計的Mirau型物鏡以及允許OCT模式和正交偏振光譜成像(OPSI)模式的光學顯微鏡模塊。
简体摘要：本发明提供了将全场光学同调断层扫描(OCT)技术应用于三维皮肤组织成像的设备和系统。公开了特殊设计的Mirau型物镜以及允许OCT模式和正交偏振光谱成像(OPSI)模式的光学显微镜模块。

2. 发明专利

TWI490542B 掃描透鏡及應用該掃描透鏡之干涉量測裝置有权
简体标题：扫描透镜及应用该扫描透镜之干涉量测设备
公开(公告)号：TWI490542B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW102116255
申请日：2013-05-07
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G02B26/10 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02015 , G01B9/02049 , G01B9/02058 , G02B21/0056

3. 发明专利

TWI384165B 晶體光纖白光光源及其色溫調控方法有权
简体标题：晶体光纤白光光源及其色温调控方法
公开(公告)号：TWI384165B
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW098141154
申请日：2009-12-02
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：林晏聖 , LIN, YEN SHENG , 蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 鄭資頡 , CHENG, TZU CHIEH , 許光裕 , HSU, KUANG YU , 鄭東祐 , JHENG, DONG YO , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： F21V13/02 , F21S10/00 , F21Y101/02
CPC分类号： G02B6/0003 , G02B6/04

4. 发明专利

TW201132929A 低同調干涉光學成像裝置 APPARATUS FOR LOW COHERENCE OPTICAL IMAGING 审中-公开
简体标题：低同调干涉光学成像设备 APPARATUS FOR LOW COHERENCE OPTICAL IMAGING
公开(公告)号：TW201132929A
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW099109291
申请日：2010-03-29
申请人：國立臺灣大學
发明人：王譽達 , 許博凱 , 黃升龍
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02028 , G01B9/0203 , G01B9/02091
摘要：本發明係有關於一種低同調干涉光學成像裝置，尤指一種可同時取得樣本不同深度之資訊之低同調干涉光學成像裝置。其主要係利用一相位轉換反射單元，或光束位移單元與一光束曲折單元之組合，令反射後之參考光束於一橫截面上不同位置具有不同的相位。當參考光束與取樣光束在光感測器上產生干涉時，可於同一時間獲得來自樣本不同深度的資訊。利用本發明之低同調干涉光學成像裝置及其成像方法，可有效減少裝置構件、縮小裝置體積及降低製作成本。由於可減少一個維度的掃描時間，故可大幅提高裝置之掃描速度。
简体摘要：本发明系有关于一种低同调干涉光学成像设备，尤指一种可同时取得样本不同深度之信息之低同调干涉光学成像设备。其主要系利用一相位转换反射单元，或光束位移单元与一光束曲折单元之组合，令反射后之参考光束于一横截面上不同位置具有不同的相位。当参考光束与采样光束在光传感器上产生干涉时，可于同一时间获得来自样本不同深度的信息。利用本发明之低同调干涉光学成像设备及其成像方法，可有效减少设备构件、缩小设备体积及降低制作成本。由于可减少一个维度的扫描时间，故可大幅提高设备之扫描速度。

5. 发明专利

TW201411207A 雙纖衣晶體光纖及其製作方法审中-公开
简体标题：双纤衣晶体光纤及其制作方法
公开(公告)号：TW201411207A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW101133840
申请日：2012-09-14
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：許光裕 , HSU, KUANG YU , 楊牧翰 , YANG, MU HAN , 鄭東祐 , JHENG, DONG YO , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G02B6/02 , G02B6/036 , H01S3/067
CPC分类号： C30B13/24 , C30B29/20 , C30B29/28 , C30B29/607 , C30B29/62 , C30B33/00 , G02B1/02 , G02B6/036 , G02B6/03622 , H01S3/1636 , H01S3/1643
摘要：本發明提供一種雙纖衣晶體光纖及其製作方法，其利用一雷射加熱基座生長法將一石榴石晶體或一藍寶石晶體之單晶棒提拉為一預定直徑之晶體光纖，將晶體光纖置入於一內纖衣玻璃毛細管中，利用雷射加熱基座生長法加熱內纖衣玻璃毛細管以軟化熔融包覆於晶體光纖之外層，而生長成一單纖衣晶體光纖，將單纖衣晶體光纖置入於一外纖衣玻璃毛細管中，利用雷射加熱基座生長法加熱外纖衣玻璃毛細管以軟化熔融包覆於單纖衣晶體光纖之外層，而生長成一雙纖衣晶體光纖，則，本發明應用在高功率雷射時，可以使用纖衣激發方式，讓高功率激發雷射耦合到內纖衣層，可有效改善高功率雷射的散熱以及效率問題。
简体摘要：本发明提供一种双纤衣晶体光纤及其制作方法，其利用一激光加热基座生长法将一石榴石晶体或一蓝宝石晶体之单晶棒提拉为一预定直径之晶体光纤，将晶体光纤置入于一内纤衣玻璃毛细管中，利用激光加热基座生长法加热内纤衣玻璃毛细管以软化熔融包覆于晶体光纤之外层，而生长成一单纤衣晶体光纤，将单纤衣晶体光纤置入于一外纤衣玻璃毛细管中，利用激光加热基座生长法加热外纤衣玻璃毛细管以软化熔融包覆於单纤衣晶体光纤之外层，而生长成一双纤衣晶体光纤，则，本发明应用在高功率激光时，可以使用纤衣激发方式，让高功率激发激光耦合到内纤衣层，可有效改善高功率激光的散热以及效率问题。

6. 发明专利

TW201403026A 低同調干涉光學成像裝置审中-公开
简体标题：低同调干涉光学成像设备
公开(公告)号：TW201403026A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102137599
申请日：2010-03-29
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：王譽達 , WANG, YU TA , 許博凱 , HSU, PO KAI , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/22
摘要：本發明係有關於一種低同調干涉光學成像裝置，尤指一種可同時取得樣本不同深度之資訊之低同調干涉光學成像裝置。其主要係利用一光束位移單元與一光束曲折單元之組合，令反射後之參考光束於一橫截面上不同位置具有不同的相位。當參考光束與取樣光束在光感測器上產生干涉時，可於同一時間獲得來自樣本不同深度的資訊。利用本發明之低同調干涉光學成像裝置及其成像方法，可有效減少裝置構件、縮小裝置體積及降低製作成本。由於可減少一個維度的掃描時間，故可大幅提高裝置之掃描速度。
简体摘要：本发明系有关于一种低同调干涉光学成像设备，尤指一种可同时取得样本不同深度之信息之低同调干涉光学成像设备。其主要系利用一光束位移单元与一光束曲折单元之组合，令反射后之参考光束于一横截面上不同位置具有不同的相位。当参考光束与采样光束在光传感器上产生干涉时，可于同一时间获得来自样本不同深度的信息。利用本发明之低同调干涉光学成像设备及其成像方法，可有效减少设备构件、缩小设备体积及降低制作成本。由于可减少一个维度的扫描时间，故可大幅提高设备之扫描速度。

7. 发明专利

TW201235657A 晶體光纖、具有晶體光纖之拉曼光譜儀及其檢測方法审中-公开
简体标题：晶体光纤、具有晶体光纤之拉曼光谱仪及其检测方法
公开(公告)号：TW201235657A
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW100105934
申请日：2011-02-23
申请人：國立臺灣大學
发明人：黃碧鈴 , 許光裕 , 王政凱 , 孫繼文 , 黃升龍
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01J3/0218 , G01J3/0245 , G01J3/10 , G01J3/44 , H01S3/06716 , H01S3/09415 , H01S3/1623 , H01S3/1625 , H01S3/1636 , H01S5/32341
摘要：本發明有關於一種晶體光纖、具有晶體光纖之拉曼光譜儀及其檢測方法，主要將兩種不同濃度的過渡金屬摻雜在藍寶石晶體內以形成晶體光纖。在使用時可使得適當波長的激發光源穿過晶體光纖，以產生一窄頻光源及一寬頻光源，並將窄頻光源及寬頻光源投射至待測物上，待測物將會產生一拉曼放射光，其中寬頻光源的波長分佈範圍涵蓋拉曼放射光的波長分佈範圍，並使得寬頻光源中部分波長的強度增加，而有利於使用者對拉曼放射光進行檢測。
简体摘要：本发明有关于一种晶体光纤、具有晶体光纤之拉曼光谱仪及其检测方法，主要将两种不同浓度的过渡金属掺杂在蓝宝石晶体内以形成晶体光纤。在使用时可使得适当波长的激发光源穿过晶体光纤，以产生一窄频光源及一宽带光源，并将窄频光源及宽带光源投射至待测物上，待测物将会产生一拉曼放射光，其中宽带光源的波长分布范围涵盖拉曼放射光的波长分布范围，并使得宽带光源中部分波长的强度增加，而有利于用户对拉曼放射光进行检测。

8. 发明专利

TW201105929A 干涉量測裝置及其量測方法 INTERFERENCE MEASURING DEVICE AND MEASURING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：干涉量测设备及其量测方法 INTERFERENCE MEASURING DEVICE AND MEASURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201105929A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW098126993
申请日：2009-08-11
申请人：國立臺灣大學
发明人：蔡建中 , 鄭東祐 , 王譽達 , 林晏聖 , 許光裕 , 黃升龍
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02091 , G01B9/0209 , G01B2290/35 , G01B2290/65 , G01B2290/70
摘要：本發明有關於一種干涉量測裝置,尤指一種低同調光之干涉量測裝置,主要包括有一光源模組、一分光器、一第一透鏡組及一第二透鏡組,其中光源模組所產生的光束會投射於分光器上,並以分光器將光束進行分光,以產生一第一光束及一第二光束,且第一光束及第二光束分別穿透第一透鏡組及第二透鏡組而投射在一反射模組及一待測物上,反射模組及待測物所反射與散射的光束將會在一偵測裝置形成一干涉圖案,藉此將以推算出待測物的輪廓與深度結構。
简体摘要：本发明有关于一种干涉量测设备,尤指一种低同调光之干涉量测设备,主要包括有一光源模块、一分光器、一第一透镜组及一第二透镜组,其中光源模块所产生的光束会投射于分光器上,并以分光器将光束进行分光,以产生一第一光束及一第二光束,且第一光束及第二光束分别穿透第一透镜组及第二透镜组而投射在一反射模块及一待测物上,反射模块及待测物所反射与散射的光束将会在一侦测设备形成一干涉图案,借此将以推算出待测物的轮廓与深度结构。

9. 发明专利

TWI600806B 摻鈦藍寶石晶體光纖之製作方法有权
简体标题：掺钛蓝宝石晶体光纤之制作方法
公开(公告)号：TWI600806B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105100397
申请日：2010-08-27
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：許光裕 , HSU, KUANG YU , 鄭東祐 , JHENG, DONG YO , 廖奕涵 , LIAO, YI HAN , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： C30B13/24 , G02B6/02 , H01S3/16

10. 发明专利

TW201443480A 掃描透鏡及應用該掃瞄透鏡之干涉量測裝置审中-公开
简体标题：扫描透镜及应用该扫瞄透镜之干涉量测设备
公开(公告)号：TW201443480A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW102116255
申请日：2013-05-07
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G02B26/10 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02015 , G01B9/02049 , G01B9/02058 , G02B21/0056
摘要：本發明有關於一種掃瞄透鏡及應用該掃描透鏡之干涉量測裝置，其中掃描透鏡包括一透鏡組、一反射單元及一分光器，且反射單元位於透鏡組及分光器之間。在使用具有掃描透鏡的干涉量測裝置進行量測時，光束會穿過透鏡組並投射在分光器上，其中穿透分光器的光束為第一光束，而被分光器所反射的光束則為第二光束。第一光束投射在一待測物上，而第二光束則投射在反射單元上，其中反射單元所反射的第二光束及待測物反射或散射的第一光束會形成干涉，藉此將可透過干涉量測裝置完成待測物的量測。
简体摘要：本发明有关于一种扫瞄透镜及应用该扫描透镜之干涉量测设备，其中扫描透镜包括一透镜组、一反射单元及一分光器，且反射单元位于透镜组及分光器之间。在使用具有扫描透镜的干涉量测设备进行量测时，光束会穿过透镜组并投射在分光器上，其中穿透分光器的光束为第一光束，而被分光器所反射的光束则为第二光束。第一光束投射在一待测物上，而第二光束则投射在反射单元上，其中反射单元所反射的第二光束及待测物反射或散射的第一光束会形成干涉，借此将可透过干涉量测设备完成待测物的量测。

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