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1. 发明专利

TW201132929A 低同調干涉光學成像裝置 APPARATUS FOR LOW COHERENCE OPTICAL IMAGING 审中-公开
简体标题：低同调干涉光学成像设备 APPARATUS FOR LOW COHERENCE OPTICAL IMAGING
公开(公告)号：TW201132929A
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW099109291
申请日：2010-03-29
申请人：國立臺灣大學
发明人：王譽達 , 許博凱 , 黃升龍
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02028 , G01B9/0203 , G01B9/02091
摘要：本發明係有關於一種低同調干涉光學成像裝置，尤指一種可同時取得樣本不同深度之資訊之低同調干涉光學成像裝置。其主要係利用一相位轉換反射單元，或光束位移單元與一光束曲折單元之組合，令反射後之參考光束於一橫截面上不同位置具有不同的相位。當參考光束與取樣光束在光感測器上產生干涉時，可於同一時間獲得來自樣本不同深度的資訊。利用本發明之低同調干涉光學成像裝置及其成像方法，可有效減少裝置構件、縮小裝置體積及降低製作成本。由於可減少一個維度的掃描時間，故可大幅提高裝置之掃描速度。
简体摘要：本发明系有关于一种低同调干涉光学成像设备，尤指一种可同时取得样本不同深度之信息之低同调干涉光学成像设备。其主要系利用一相位转换反射单元，或光束位移单元与一光束曲折单元之组合，令反射后之参考光束于一横截面上不同位置具有不同的相位。当参考光束与采样光束在光传感器上产生干涉时，可于同一时间获得来自样本不同深度的信息。利用本发明之低同调干涉光学成像设备及其成像方法，可有效减少设备构件、缩小设备体积及降低制作成本。由于可减少一个维度的扫描时间，故可大幅提高设备之扫描速度。

2. 发明专利

TWI418762B 低同調干涉光學成像裝置有权
简体标题：低同调干涉光学成像设备
公开(公告)号：TWI418762B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：TW099109291
申请日：2010-03-29
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：王譽達 , WANG, YU TA , 許博凱 , HSU, PO KAI , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/22
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02028 , G01B9/0203 , G01B9/02091

3. 发明专利

TWI494540B 低同調干涉光學成像裝置有权
简体标题：低同调干涉光学成像设备
公开(公告)号：TWI494540B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW102137599
申请日：2010-03-29
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：王譽達 , WANG, YU TA , 許博凱 , HSU, PO KAI , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/22

4. 发明专利

TWI408338B 干涉量測裝置及其量測方法有权
简体标题：干涉量测设备及其量测方法
公开(公告)号：TWI408338B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：TW098126993
申请日：2009-08-11
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 鄭東祐 , JHENG, DONG YO , 王譽達 , WANG, YU TA , 林晏聖 , LIN, YEN SHENG , 許光裕 , HSU, KUANG YU , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/00
CPC分类号： G01B9/02091 , G01B9/0209 , G01B2290/35 , G01B2290/65 , G01B2290/70

5. 发明专利

TW201403026A 低同調干涉光學成像裝置审中-公开
简体标题：低同调干涉光学成像设备
公开(公告)号：TW201403026A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102137599
申请日：2010-03-29
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：王譽達 , WANG, YU TA , 許博凱 , HSU, PO KAI , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/22
摘要：本發明係有關於一種低同調干涉光學成像裝置，尤指一種可同時取得樣本不同深度之資訊之低同調干涉光學成像裝置。其主要係利用一光束位移單元與一光束曲折單元之組合，令反射後之參考光束於一橫截面上不同位置具有不同的相位。當參考光束與取樣光束在光感測器上產生干涉時，可於同一時間獲得來自樣本不同深度的資訊。利用本發明之低同調干涉光學成像裝置及其成像方法，可有效減少裝置構件、縮小裝置體積及降低製作成本。由於可減少一個維度的掃描時間，故可大幅提高裝置之掃描速度。
简体摘要：本发明系有关于一种低同调干涉光学成像设备，尤指一种可同时取得样本不同深度之信息之低同调干涉光学成像设备。其主要系利用一光束位移单元与一光束曲折单元之组合，令反射后之参考光束于一横截面上不同位置具有不同的相位。当参考光束与采样光束在光传感器上产生干涉时，可于同一时间获得来自样本不同深度的信息。利用本发明之低同调干涉光学成像设备及其成像方法，可有效减少设备构件、缩小设备体积及降低制作成本。由于可减少一个维度的扫描时间，故可大幅提高设备之扫描速度。

6. 发明专利

TW201105929A 干涉量測裝置及其量測方法 INTERFERENCE MEASURING DEVICE AND MEASURING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：干涉量测设备及其量测方法 INTERFERENCE MEASURING DEVICE AND MEASURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201105929A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW098126993
申请日：2009-08-11
申请人：國立臺灣大學
发明人：蔡建中 , 鄭東祐 , 王譽達 , 林晏聖 , 許光裕 , 黃升龍
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02091 , G01B9/0209 , G01B2290/35 , G01B2290/65 , G01B2290/70
摘要：本發明有關於一種干涉量測裝置,尤指一種低同調光之干涉量測裝置,主要包括有一光源模組、一分光器、一第一透鏡組及一第二透鏡組,其中光源模組所產生的光束會投射於分光器上,並以分光器將光束進行分光,以產生一第一光束及一第二光束,且第一光束及第二光束分別穿透第一透鏡組及第二透鏡組而投射在一反射模組及一待測物上,反射模組及待測物所反射與散射的光束將會在一偵測裝置形成一干涉圖案,藉此將以推算出待測物的輪廓與深度結構。
简体摘要：本发明有关于一种干涉量测设备,尤指一种低同调光之干涉量测设备,主要包括有一光源模块、一分光器、一第一透镜组及一第二透镜组,其中光源模块所产生的光束会投射于分光器上,并以分光器将光束进行分光,以产生一第一光束及一第二光束,且第一光束及第二光束分别穿透第一透镜组及第二透镜组而投射在一反射模块及一待测物上,反射模块及待测物所反射与散射的光束将会在一侦测设备形成一干涉图案,借此将以推算出待测物的轮廓与深度结构。

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