专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201443480A 掃描透鏡及應用該掃瞄透鏡之干涉量測裝置审中-公开
简体标题：扫描透镜及应用该扫瞄透镜之干涉量测设备
公开(公告)号：TW201443480A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW102116255
申请日：2013-05-07
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G02B26/10 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02015 , G01B9/02049 , G01B9/02058 , G02B21/0056
摘要：本發明有關於一種掃瞄透鏡及應用該掃描透鏡之干涉量測裝置，其中掃描透鏡包括一透鏡組、一反射單元及一分光器，且反射單元位於透鏡組及分光器之間。在使用具有掃描透鏡的干涉量測裝置進行量測時，光束會穿過透鏡組並投射在分光器上，其中穿透分光器的光束為第一光束，而被分光器所反射的光束則為第二光束。第一光束投射在一待測物上，而第二光束則投射在反射單元上，其中反射單元所反射的第二光束及待測物反射或散射的第一光束會形成干涉，藉此將可透過干涉量測裝置完成待測物的量測。
简体摘要：本发明有关于一种扫瞄透镜及应用该扫描透镜之干涉量测设备，其中扫描透镜包括一透镜组、一反射单元及一分光器，且反射单元位于透镜组及分光器之间。在使用具有扫描透镜的干涉量测设备进行量测时，光束会穿过透镜组并投射在分光器上，其中穿透分光器的光束为第一光束，而被分光器所反射的光束则为第二光束。第一光束投射在一待测物上，而第二光束则投射在反射单元上，其中反射单元所反射的第二光束及待测物反射或散射的第一光束会形成干涉，借此将可透过干涉量测设备完成待测物的量测。

2. 发明专利

TW201617581A 干涉式光學成像裝置、其應用之系統及方法审中-公开
简体标题：干涉式光学成像设备、其应用之系统及方法
公开(公告)号：TW201617581A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104104362
申请日：2015-02-09
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG , 何端書 , HO, TUAN SHU , 蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B9/04 , G02B21/00 , A61B6/02
CPC分类号： G02B5/3083 , A61B5/0066 , A61B5/0077 , A61B5/441 , A61B5/443 , G02B21/0032 , G02B21/0056 , G02B21/008 , G02B21/0092 , G02B21/02 , G02B21/26 , G02B21/33
摘要：本發明提供了將全場光學同調斷層掃描(OCT)技術應用於三維皮膚組織成像的裝置和系統。公開了特殊設計的Mirau型物鏡以及允許OCT模式和正交偏振光譜成像(OPSI)模式的光學顯微鏡模塊。
简体摘要：本发明提供了将全场光学同调断层扫描(OCT)技术应用于三维皮肤组织成像的设备和系统。公开了特殊设计的Mirau型物镜以及允许OCT模式和正交偏振光谱成像(OPSI)模式的光学显微镜模块。

3. 发明专利

TWI490542B 掃描透鏡及應用該掃描透鏡之干涉量測裝置有权
简体标题：扫描透镜及应用该扫描透镜之干涉量测设备
公开(公告)号：TWI490542B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW102116255
申请日：2013-05-07
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G02B26/10 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02015 , G01B9/02049 , G01B9/02058 , G02B21/0056

4. 发明专利

TWI384165B 晶體光纖白光光源及其色溫調控方法有权
简体标题：晶体光纤白光光源及其色温调控方法
公开(公告)号：TWI384165B
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW098141154
申请日：2009-12-02
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：林晏聖 , LIN, YEN SHENG , 蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 鄭資頡 , CHENG, TZU CHIEH , 許光裕 , HSU, KUANG YU , 鄭東祐 , JHENG, DONG YO , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： F21V13/02 , F21S10/00 , F21Y101/02
CPC分类号： G02B6/0003 , G02B6/04

5. 发明专利

TWI553294B 干涉式光學成像裝置、其應用之系統及方法有权
简体标题：干涉式光学成像设备、其应用之系统及方法
公开(公告)号：TWI553294B
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：TW104104362
申请日：2015-02-09
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG , 何端書 , HO, TUAN SHU , 蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B9/04 , G02B21/00 , A61B6/02
CPC分类号： G02B5/3083 , A61B5/0066 , A61B5/0077 , A61B5/441 , A61B5/443 , G02B21/0032 , G02B21/0056 , G02B21/008 , G02B21/0092 , G02B21/02 , G02B21/26 , G02B21/33

6. 发明专利

TWI408338B 干涉量測裝置及其量測方法有权
简体标题：干涉量测设备及其量测方法
公开(公告)号：TWI408338B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：TW098126993
申请日：2009-08-11
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 鄭東祐 , JHENG, DONG YO , 王譽達 , WANG, YU TA , 林晏聖 , LIN, YEN SHENG , 許光裕 , HSU, KUANG YU , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/00
CPC分类号： G01B9/02091 , G01B9/0209 , G01B2290/35 , G01B2290/65 , G01B2290/70

7. 发明专利

TW201120351A 晶體光纖白光光源及其色溫調控方法 WHITE LIGHT SOURCE WITH CRYSTAL FIBER AND METHOD FOR COLOR TEMPERATURE TUNING THEREOF 审中-公开
简体标题：晶体光纤白光光源及其色温调控方法 WHITE LIGHT SOURCE WITH CRYSTAL FIBER AND METHOD FOR COLOR TEMPERATURE TUNING THEREOF
公开(公告)号：TW201120351A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW098141154
申请日：2009-12-02
申请人：國立臺灣大學
发明人：林晏聖 , 蔡建中 , 鄭資頡 , 許光裕 , 鄭東祐 , 黃升龍
IPC分类号： F21V , F21S , F21Y
CPC分类号： G02B6/0003 , G02B6/04
摘要：本發明係關於一種白光光源,尤指一種晶體光纖白光光源及其色溫調控方法。其中,晶體光纖白光光源主要係利用一激發光源提供一第一色光,並以一漸變折射率透鏡將第一色光耦合至一晶體光纖,晶體光纖可吸收部分第一色光而產生一第二色光及一第三色光,藉以混合為具有高演色性係數之白光。晶體光纖係以釔鋁石榴石與一第一稀土族氧化物及一第二稀土族氧化物共摻雜製作,可藉由調整激發光聚焦點在晶體光纖端截面上的位置而調控輸出白光之色溫。
简体摘要：本发明系关于一种白光光源,尤指一种晶体光纤白光光源及其色温调控方法。其中,晶体光纤白光光源主要系利用一激发光源提供一第一色光,并以一渐变折射率透镜将第一色光耦合至一晶体光纤,晶体光纤可吸收部分第一色光而产生一第二色光及一第三色光,借以混合为具有高演色性系数之白光。晶体光纤系以钇铝石榴石与一第一稀土族氧化物及一第二稀土族氧化物共掺杂制作,可借由调整激发光聚焦点在晶体光纤端截面上的位置而调控输出白光之色温。

8. 发明专利

TW201105929A 干涉量測裝置及其量測方法 INTERFERENCE MEASURING DEVICE AND MEASURING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：干涉量测设备及其量测方法 INTERFERENCE MEASURING DEVICE AND MEASURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201105929A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW098126993
申请日：2009-08-11
申请人：國立臺灣大學
发明人：蔡建中 , 鄭東祐 , 王譽達 , 林晏聖 , 許光裕 , 黃升龍
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02091 , G01B9/0209 , G01B2290/35 , G01B2290/65 , G01B2290/70
摘要：本發明有關於一種干涉量測裝置,尤指一種低同調光之干涉量測裝置,主要包括有一光源模組、一分光器、一第一透鏡組及一第二透鏡組,其中光源模組所產生的光束會投射於分光器上,並以分光器將光束進行分光,以產生一第一光束及一第二光束,且第一光束及第二光束分別穿透第一透鏡組及第二透鏡組而投射在一反射模組及一待測物上,反射模組及待測物所反射與散射的光束將會在一偵測裝置形成一干涉圖案,藉此將以推算出待測物的輪廓與深度結構。
简体摘要：本发明有关于一种干涉量测设备,尤指一种低同调光之干涉量测设备,主要包括有一光源模块、一分光器、一第一透镜组及一第二透镜组,其中光源模块所产生的光束会投射于分光器上,并以分光器将光束进行分光,以产生一第一光束及一第二光束,且第一光束及第二光束分别穿透第一透镜组及第二透镜组而投射在一反射模块及一待测物上,反射模块及待测物所反射与散射的光束将会在一侦测设备形成一干涉图案,借此将以推算出待测物的轮廓与深度结构。

9. 发明专利

TWI403756B 三維同調斷層式共焦顯微成像裝置有权
简体标题：三维同调断层式共焦显微成像设备
公开(公告)号：TWI403756B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW099120029
申请日：2010-06-18
申请人：國立台灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 許光裕 , HSU, KUANG YU , 林晏聖 , LIN, YEN SHENG , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G02B21/00 , G02B21/36
CPC分类号： G01B9/02042 , G01B9/02005 , G01B9/02091 , G01B2290/45

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式