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1. 发明专利

TW202004123A 用於主動深度系統之光分佈审中-公开
简体标题：用于主动深度系统之光分布
公开(公告)号：TW202004123A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108110131
申请日：2019-03-22
申请人：美商高通公司 , QUALCOMM INCORPORATED
发明人：林德納阿爾布雷希特約翰尼斯 , LINDNER, ALBRECHT JOHANNES , 阿塔納索夫卡林米特科夫 , ATANASSOV, KALIN MITKOV , 維羅爾史蒂芬麥克 , VERRALL, STEPHEN MICHAEL
IPC分类号： G01B11/22 , G01B11/25
摘要：本發明之態樣係關於用於結構化光深度系統之系統及方法。一實例主動深度系統可包括：一接收器，其用以接收所傳輸光之反射；及一傳輸器，其包括一或多個光源以傳輸呈一空間分佈的光。所傳輸光之該空間分佈可包括一第一複數個光點之一第一區域及一第二複數個光點之一第二區域。當該空間分佈之一中心與該第一區域之一中心之間的一第一距離小於該空間分佈之該中心與該第二區域之該中心之間的一第二距離時，該第一複數個光點之一第一密度大於該第二複數個光點之一第二密度。
简体摘要：本发明之态样系关于用于结构化光深度系统之系统及方法。一实例主动深度系统可包括：一接收器，其用以接收所传输光之反射；及一传输器，其包括一或多个光源以传输呈一空间分布的光。所传输光之该空间分布可包括一第一复数个光点之一第一区域及一第二复数个光点之一第二区域。当该空间分布之一中心与该第一区域之一中心之间的一第一距离小于该空间分布之该中心与该第二区域之该中心之间的一第二距离时，该第一复数个光点之一第一密度大于该第二复数个光点之一第二密度。

2. 发明专利

TW201719111A 量測系統审中-公开
简体标题：量测系统
公开(公告)号：TW201719111A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW104138851
申请日：2015-11-23
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：魏祥鈞 , WEI, HSIANG-CHUN , 顧逸霞 , KU, YI-SHA , 卓嘉弘 , CHO, CHIA-HUNG , 吳潔瑜 , WU, CHIEH-YU , 羅竣威 , LO, CHUN-WEI , 劉志祥 , LIU, CHIH-HSIANG
IPC分类号： G01B11/22
CPC分类号： G01B11/22 , G01B11/0616 , G01B11/2441 , G01B2210/56 , H01L22/12
摘要：一種量測系統，用以對待測物的表面結構進行量測。待測物的表面具有薄膜與穿孔，穿孔深度大於薄膜厚度。量測系統包含光源、第一分光鏡、第一光圈、物鏡組、第二光圈、光譜儀與分析模組。第一分光鏡設置於光源的出光方向上。第一光圈設置於光源與第一分光鏡之間。物鏡組設置於第一分光鏡與待測物之間。第二光圈設置於物鏡組與第一分光鏡之間。光譜儀設置於第一分光鏡相對於待測物的另一側。分析模組電性連接光譜儀。
简体摘要：一种量测系统，用以对待测物的表面结构进行量测。待测物的表面具有薄膜与穿孔，穿孔深度大于薄膜厚度。量测系统包含光源、第一分光镜、第一光圈、物镜组、第二光圈、光谱仪与分析模块。第一分光镜设置于光源的出光方向上。第一光圈设置于光源与第一分光镜之间。物镜组设置于第一分光镜与待测物之间。第二光圈设置于物镜组与第一分光镜之间。光谱仪设置于第一分光镜相对于待测物的另一侧。分析模块电性连接光谱仪。

3. 发明专利

TW201634902A 形狀測量裝置及加工裝置审中-公开
简体标题：形状测量设备及加工设备
公开(公告)号：TW201634902A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW105106338
申请日：2016-03-02
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：市原浩一 , ICHIHARA, KOICHI , 高娜 , GAO, NA
IPC分类号： G01B11/22
摘要：本發明提供一種形狀測量裝置及加工裝置，該形狀測量裝置能夠以高精度對測量對象物之表面形狀進行測量。本發明之形狀測量裝置係藉由將3個位移計配設成一列之檢測儀來對測量對象物進行掃描，並對前述測量對象物之表面形狀進行測量，該形狀測量裝置具備：包覆機構，設置在前述檢測儀並覆蓋前述3個位移計，且在前述3個位移計與前述測量對象物之間具有開口；及送風機構，向前述包覆機構的內部進行送風。
简体摘要：本发明提供一种形状测量设备及加工设备，该形状测量设备能够以高精度对测量对象物之表面形状进行测量。本发明之形状测量设备系借由将3个位移计配设成一列之检测仪来对测量对象物进行扫描，并对前述测量对象物之表面形状进行测量，该形状测量设备具备：包覆机构，设置在前述检测仪并覆盖前述3个位移计，且在前述3个位移计与前述测量对象物之间具有开口；及送风机构，向前述包覆机构的内部进行送风。

4. 发明专利

TW201351308A 非接觸式醫療導覽系統及其控制方法审中-公开
简体标题：非接触式医疗导览系统及其控制方法
公开(公告)号：TW201351308A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW101121534
申请日：2012-06-15
申请人：黃聖方 , HUANG, SHENG FANG
发明人：黃聖方 , HUANG, SHENG FANG
IPC分类号： G06K9/78 , G01B11/22 , G06F17/30 , G06F3/0482
摘要：本發明實施例提供一種非接觸式醫療導覽控制方法，包括下列步驟：當目標進入預設感測範圍時，感測目標之第一肢體動作，並對應產生第一影像資料與第一深度感應資料；根據第一影像資料與第一深度感應資料判斷目標是否為操作者；當判定目標為操作者時，感測操作者之第二肢體動作，並產生第二影像資料與第二深度感應資料；對第二影像資料與第二深度感應資料進行影像辨識，以分析操作者之第二肢體動作，並產生一影像辨識資料；根據影像辨識資料，產生具有醫療導覽資訊的一操作介面資料；顯示對應操作介面資料之操作介面於顯示裝置。
简体摘要：本发明实施例提供一种非接触式医疗导览控制方法，包括下列步骤：当目标进入默认传感范围时，传感目标之第一肢体动作，并对应产生第一影像数据与第一深度感应数据；根据第一影像数据与第一深度感应数据判断目标是否为操作者；当判定目标为操作者时，传感操作者之第二肢体动作，并产生第二影像数据与第二深度感应数据；对第二影像数据与第二深度感应数据进行影像辨识，以分析操作者之第二肢体动作，并产生一影像辨识数据；根据影像辨识数据，产生具有医疗导览信息的一操作界面数据；显示对应操作界面数据之操作界面于显示设备。

5. 发明专利

TWI418762B 低同調干涉光學成像裝置有权
简体标题：低同调干涉光学成像设备
公开(公告)号：TWI418762B
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：TW099109291
申请日：2010-03-29
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：王譽達 , WANG, YU TA , 許博凱 , HSU, PO KAI , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/22
CPC分类号： G01B9/0209 , G01B9/02028 , G01B9/0203 , G01B9/02091

6. 发明专利

TWI390648B 樣本檢查裝置有权
简体标题：样本检查设备
公开(公告)号：TWI390648B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW095115198
申请日：2006-04-28
申请人：荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人：金馬利文 , KIMBA, TOSHIFUMI
IPC分类号： H01L21/66 , G01B11/22
CPC分类号： H01J37/21 , H01J2237/216 , H01J2237/2482 , H01J2237/2817

7. 发明专利

TWI694237B 結構光投射器及結構光深度感測器有权
简体标题：结构光投射器及结构光深度传感器
公开(公告)号：TWI694237B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW108102775
申请日：2019-01-24
申请人：大陸商業成科技(成都)有限公司 , INTERFACE TECHNOLOGY (CHENGDU) CO., LTD. , 大陸商業成光電(深圳)有限公司 , INTERFACE OPTOELECTRONICS (SHENZHEN) CO., LTD. , 英特盛科技股份有限公司 , GENERAL INTERFACE SOLUTION LIMITED
发明人：謝依珊 , HSIEH, YI-SAN
IPC分类号： G01B11/22 , G01B11/25 , G02B17/08

8. 发明专利

TWI600876B 量測系統有权
简体标题：量测系统
公开(公告)号：TWI600876B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW104138851
申请日：2015-11-23
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：魏祥鈞 , WEI, HSIANG-CHUN , 顧逸霞 , KU, YI-SHA , 卓嘉弘 , CHO, CHIA-HUNG , 吳潔瑜 , WU, CHIEH-YU , 羅竣威 , LO, CHUN-WEI , 劉志祥 , LIU, CHIH-HSIANG
IPC分类号： G01B11/22
CPC分类号： G01B11/22 , G01B11/0616 , G01B11/2441 , G01B2210/56 , H01L22/12

9. 实用新型

TWM530943U 電路板孔銅厚度與背鑽孔深度光學檢測設備有权
简体标题：电路板孔铜厚度与背钻孔深度光学检测设备
公开(公告)号：TWM530943U
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW105211054
申请日：2016-07-22
申请人：周圓有限公司 , JOU YUAN COMPANY
发明人：簡万菘 , CHIEN, WAN SUNG
IPC分类号： G01B11/22

10. 发明专利

TW201614189A 結構化的光成像系統及方法审中-公开
简体标题：结构化的光成像系统及方法
公开(公告)号：TW201614189A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW104120353
申请日：2015-06-24
申请人：新加坡恒立私人有限公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：奧吉爾蒂埃里 , OGGIER, THIERRY
IPC分类号： G01B11/22 , G01B11/25
CPC分类号： H04N13/128 , G01B11/2513 , H01S5/423 , H04N5/378 , H04N13/20 , H04N13/296 , H04N2013/0081
摘要：本發明係關於結構光成像系統及方法。該結構光成像系統及方法適於包括具有至少兩組光發射器的投射器以及具有像素陣列的影像感測器，其中控制器被組態成使得各組能獨立地操作。在一變型中，該影像感測器的各像素分配一個儲存節點給該至少兩組光發射器之各組。
简体摘要：本发明系关于结构光成像系统及方法。该结构光成像系统及方法适于包括具有至少两组光发射器的投射器以及具有像素数组的影像传感器，其中控制器被组态成使得各组能独立地操作。在一变型中，该影像传感器的各像素分配一个存储节点给该至少两组光发射器之各组。

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