专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI490542B 掃描透鏡及應用該掃描透鏡之干涉量測裝置有权
简体标题：扫描透镜及应用该扫描透镜之干涉量测设备
公开(公告)号：TWI490542B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW102116255
申请日：2013-05-07
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G02B26/10 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02015 , G01B9/02049 , G01B9/02058 , G02B21/0056

2. 发明专利

TW201250225A 包含可調整耦合之干涉式感測裝置及相關聯之方法 INTERFEROMETRIC SENSING APPARATUS INCLUDING ADJUSTABLE COUPLING AND ASSOCIATED METHODS 审中-公开
简体标题：包含可调整耦合之干涉式传感设备及相关联之方法 INTERFEROMETRIC SENSING APPARATUS INCLUDING ADJUSTABLE COUPLING AND ASSOCIATED METHODS
公开(公告)号：TW201250225A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101115660
申请日：2012-05-02
申请人：賀利實公司
发明人：蒙哥瑪利羅伯特M , 卡敏蘭迪L , 米德頓查爾斯法蘭克林四世 , 東帝詹姆士G
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01B9/02049 , A61B5/0084 , A61B5/1075 , A61B5/6886 , A61B2562/0233 , A61B2562/223 , G01B9/0205 , G01B9/02068 , G01B11/0666 , G01H9/004 , G01N29/043 , G01N29/2418
摘要：一種感測裝置包括：一激發源，其經組態以在一標的物中誘發波；及一光纖干涉儀，其經組態以感測該標的物中之該等誘發波。該光纖干涉儀包括具有一探針段端部之一探針段及經組態以准許設定該探針段端部與該標的物之間的一間隙之一可調整耦合器。一控制器耦合至該可調整耦合器且經組態以設定該探針段端部與該標的物之間的該間隙。
简体摘要：一种传感设备包括：一激发源，其经组态以在一标的物中诱发波；及一光纤干涉仪，其经组态以传感该标的物中之该等诱发波。该光纤干涉仪包括具有一探针段端部之一探针段及经组态以准许设置该探针段端部与该标的物之间的一间隙之一可调整耦合器。一控制器耦合至该可调整耦合器且经组态以设置该探针段端部与该标的物之间的该间隙。

3. 发明专利

TW201527712A 光學位置測量裝置审中-公开
简体标题：光学位置测量设备
公开(公告)号：TW201527712A
公开(公告)日：2015-07-16
申请号：TW103130408
申请日：2014-09-03
申请人：強那斯海登翰博士有限公司 , DR. JOHANNES HEIDENHAIN GMBH
发明人：何塞菲沃夫崗 , HOLZAPFEL, WOLFGANG , 德瑞斯契裘格 , DRESCHER, JOERG , 凱歐納羅伯特 , KELLNER, ROBERT , 曼斯納馬克思 , MEISSNER, MARKUS
IPC分类号： G01B11/14 , G01D5/26 , G01J1/04
CPC分类号： G01B11/14 , G01B9/02049 , G01B9/02083 , G01D5/38
摘要：本發明關於用來偵測可彼此相對移動的二物體之位置的位置測量裝置，其具有接合於二物體中的一者的測量標準，以及用於掃描測量標準的掃描系統，該掃描系統係接合於二物體中的另一者。掃描系統允許同時決定物體之沿著第一側向位移方向和沿著垂直位移方向的位置。為此，在部分的掃描系統上，形成二條掃描束路徑，其中能夠在各情形下從干涉部分射線束而在輸出端產生一組相位移訊號。附帶而言，經由掃描系統，形成至少第三條掃描束路徑，藉此有可能決定物體之沿著第二側向位移方向的位置。來自光源的束能夠經由用於所有三條掃描束路徑之共同的第一光導和耦入光學器材而供應給掃描系統。三條掃描束路徑中所產生的干涉部分射線束能夠經由共同的耦出光學器材而耦合到供應這些射線束給偵測器系統的第二光導中。
简体摘要：本发明关于用来侦测可彼此相对移动的二物体之位置的位置测量设备，其具有接合于二物体中的一者的测量标准，以及用于扫描测量标准的扫描系统，该扫描系统系接合于二物体中的另一者。扫描系统允许同时决定物体之沿着第一侧向位移方向和沿着垂直位移方向的位置。为此，在部分的扫描系统上，形成二条扫描束路径，其中能够在各情形下从干涉部分射线束而在输出端产生一组相位移信号。附带而言，经由扫描系统，形成至少第三条扫描束路径，借此有可能决定物体之沿着第二侧向位移方向的位置。来自光源的束能够经由用于所有三条扫描束路径之共同的第一光导和耦入光学器材而供应给扫描系统。三条扫描束路径中所产生的干涉部分射线束能够经由共同的耦出光学器材而耦合到供应这些射线束给侦测器系统的第二光导中。

4. 发明专利

TW201443480A 掃描透鏡及應用該掃瞄透鏡之干涉量測裝置审中-公开
简体标题：扫描透镜及应用该扫瞄透镜之干涉量测设备
公开(公告)号：TW201443480A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW102116255
申请日：2013-05-07
申请人：國立臺灣大學 , NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY
发明人：蔡建中 , TSAI, CHIEN CHUNG , 黃升龍 , HUANG, SHENG LUNG
IPC分类号： G02B26/10 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02015 , G01B9/02049 , G01B9/02058 , G02B21/0056
摘要：本發明有關於一種掃瞄透鏡及應用該掃描透鏡之干涉量測裝置，其中掃描透鏡包括一透鏡組、一反射單元及一分光器，且反射單元位於透鏡組及分光器之間。在使用具有掃描透鏡的干涉量測裝置進行量測時，光束會穿過透鏡組並投射在分光器上，其中穿透分光器的光束為第一光束，而被分光器所反射的光束則為第二光束。第一光束投射在一待測物上，而第二光束則投射在反射單元上，其中反射單元所反射的第二光束及待測物反射或散射的第一光束會形成干涉，藉此將可透過干涉量測裝置完成待測物的量測。
简体摘要：本发明有关于一种扫瞄透镜及应用该扫描透镜之干涉量测设备，其中扫描透镜包括一透镜组、一反射单元及一分光器，且反射单元位于透镜组及分光器之间。在使用具有扫描透镜的干涉量测设备进行量测时，光束会穿过透镜组并投射在分光器上，其中穿透分光器的光束为第一光束，而被分光器所反射的光束则为第二光束。第一光束投射在一待测物上，而第二光束则投射在反射单元上，其中反射单元所反射的第二光束及待测物反射或散射的第一光束会形成干涉，借此将可透过干涉量测设备完成待测物的量测。

5. 发明专利

TW544508B 可移動之x/y座標測量台失效
简体标题：可移动之x/y座标测量台
公开(公告)号：TW544508B
公开(公告)日：2003-08-01
申请号：TW088122029
申请日：1999-12-17
申请人：萊卡微縮系統維茲勒股份有限公司
发明人：厄爾里契卡克吉恩斯基
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02027 , G01B5/0016 , G01B9/02021 , G01B9/02049 , G01B9/02052 , G01B9/0207 , H01L21/681 , Y10S269/902
摘要：本發明敘述一種可移動之X/Y座標測量台(4)，它具有待測基材之容器，以及有兩個垂直配置，被用來做干涉儀位置決定之測量鏡(13mx,13my)。可移動之測量台(4)、攜者測量鏡(13mx,13my)之鏡體(6)、以及基材(9)之容器被形成為分別之零仵。除此之外，鏡體(6)在測量鏡(13mx,13my)所劃界之表面區域中，有三個支持點各在上側及下側，故它僅以下支持點而被支持在測量台上，而僅以上支持點攜帶者基材(9)之容器。因而固定在位置上的基材容器(9)重量不會負面影響到鏡子之幾何形狀。最佳為兩個測量鏡(13mx,13my)與由相當低膨脹係數材料所製成之鏡體(6)形成一體。測量台(4)及鏡體(6)中之框架狀開口適於反光式應用及導光式兩者之應用。
简体摘要：本发明叙述一种可移动之X/Y座标测量台(4)，它具有待测基材之容器，以及有两个垂直配置，被用来做干涉仪位置决定之测量镜(13mx,13my)。可移动之测量台(4)、携者测量镜(13mx,13my)之镜体(6)、以及基材(9)之容器被形成为分别之零仵。除此之外，镜体(6)在测量镜(13mx,13my)所划界之表面区域中，有三个支持点各在上侧及下侧，故它仅以下支持点而被支持在测量台上，而仅以上支持点携带者基材(9)之容器。因而固定在位置上的基材容器(9)重量不会负面影响到镜子之几何形状。最佳为两个测量镜(13mx,13my)与由相当低膨胀系数材料所制成之镜体(6)形成一体。测量台(4)及镜体(6)中之框架状开口适于反光式应用及导光式两者之应用。

6. 发明专利

TWI467126B 熱穩定光感測器基座有权
简体标题：热稳定光传感器基座
公开(公告)号：TWI467126B
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW101141504
申请日：2012-11-08
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：巴達米微微克G , BADAMI, VIVEK G.
IPC分类号： G01B11/04 , G03F7/20
CPC分类号： G01B11/14 , G01B9/02049 , G01D5/34753 , G03F7/70258 , G03F7/70775 , G03F7/70825 , G03F7/7085 , G03F7/70858

7. 发明专利

TW201335567A 熱穩定光感測器基座审中-公开
简体标题：热稳定光传感器基座
公开(公告)号：TW201335567A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW101141504
申请日：2012-11-08
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：巴達米微微克G , BADAMI, VIVEK G.
IPC分类号： G01B11/04 , G03F7/20
CPC分类号： G01B11/14 , G01B9/02049 , G01D5/34753 , G03F7/70258 , G03F7/70775 , G03F7/70825 , G03F7/7085 , G03F7/70858
摘要：揭露一種設備，包含一機械參考機座以及一堅硬物體，該堅硬物體藉由二或更多限制件而機械式耦接至該參考機座。至少兩個該等限制件的剛性是不同於彼此，且在該堅硬物體經過一範圍之溫度的熱膨脹期間，該等限制件的相對位置與剛性會導致該堅硬物體上的一指定點相對於該參考機座維持固定。
简体摘要：揭露一种设备，包含一机械参考机座以及一坚硬物体，该坚硬物体借由二或更多限制件而机械式耦接至该参考机座。至少两个该等限制件的刚性是不同于彼此，且在该坚硬物体经过一范围之温度的热膨胀期间，该等限制件的相对位置与刚性会导致该坚硬物体上的一指定点相对于该参考机座维持固定。

8. 发明专利

TW316289B 用於測量旋轉參考框內物體位移量變化的方法及干涉測量裝置失效
简体标题：用于测量旋转参考框内物体位移量变化的方法及干涉测量设备
公开(公告)号：TW316289B
公开(公告)日：1997-09-21
申请号：TW086100274
申请日：1997-01-13
申请人：惠普公司
发明人：强J.柏格曼
IPC分类号： G01B
CPC分类号： G01B9/02011 , G01B9/02002 , G01B9/02007 , G01B9/02049 , G01B2290/70
摘要：在所申請之用於改良之交流電型干涉測量裝置之本發明中，放置於一旋轉參考框內一物體在位置上之改變係經計量。此旋轉參考框累加以固定參考框為準之一時限上之旋轉角度。一四分之一波片和一包含一偏振分束器之干涉儀，一參考路線反射鏡，以及一計量路線反射器均係裝置於此旋轉參考框內。此計量路線反射係安裝於物體，俾使沿著對此旋轉參考系統之旋轉軸線正交之軸線其徑向位置上之改變係可予以計量。在一較佳實施例中，固定參考框內之構件係一雙頻率雷射源，一固定四分之一波片，一接收器，用以產生含表示旋轉干涉儀之計量和參考路線之間光程段改變之訊息之一測量信號，自雷射源之光束之雙頻率中之差異，以及旋轉角度和一信號處理機。此信號處理機接收此測量信號，代表雷射源之不同頻率之一參考信號，以及來自含對旋轉角度呈比例之信息之旋轉編碼器之信號。此信號處理機產生一代表位置上改變之計量之一信號。在另一實施例中，此旋轉編碼器係由添加之光學構件所取代，此構件自動地產生含有關旋轉角度和自雷射源之光束之雙頻率上之差異之信息之光信號。
简体摘要：在所申请之用于改良之交流电型干涉测量设备之本发明中，放置于一旋转参考框内一物体在位置上之改变系经计量。此旋转参考框累加以固定参考框为准之一时限上之旋转角度。一四分之一波片和一包含一偏振分束器之干涉仪，一参考路线反射镜，以及一计量路线反射器均系设备于此旋转参考框内。此计量路线反射系安装于物体，俾使沿着对此旋转参考系统之旋转轴线正交之轴线其径向位置上之改变系可予以计量。在一较佳实施例中，固定参考框内之构件系一双频率激光源，一固定四分之一波片，一接收器，用以产生含表示旋转干涉仪之计量和参考路线之间光程段改变之消息之一测量信号，自激光源之光束之双频率中之差异，以及旋转角度和一信号处理机。此信号处理机接收此测量信号，代表激光源之不同频率之一参考信号，以及来自含对旋转角度呈比例之信息之旋转编码器之信号。此信号处理机产生一代表位置上改变之计量之一信号。在另一实施例中，此旋转编码器系由添加之光学构件所取代，此构件自动地产生含有关旋转角度和自激光源之光束之双频率上之差异之信息之光信号。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式