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1. 发明专利

TWI474865B 氣化器有权
简体标题：气化器
公开(公告)号：TWI474865B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481

2. 发明专利

TW201321079A 氣化器审中-公开
简体标题：气化器
公开(公告)号：TW201321079A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481
摘要： [課題]提供一種可使氣化器內的壓力的行動安定的氣化器。[解決手段]本發明之氣化器係具備有：具備流入口及流出口的腔室；將該腔室內加熱的加熱裝置；被設在該腔室內，將該腔室內的液體材料區分成複數劃區的間隔壁構造體(13)；及被設在間隔壁構造體(13)的下部，容許以間隔壁構造體(13)所被區分的各劃區間的液體流通的液體流通部(20)，前述間隔壁構造體係具有格子狀、蜂巢狀、網孔狀、或管狀的間隔壁。
简体摘要： [课题]提供一种可使气化器内的压力的行动安定的气化器。[解决手段]本发明之气化器系具备有：具备流入口及流出口的腔室；将该腔室内加热的加热设备；被设在该腔室内，将该腔室内的液体材料区分成复数划区的间隔壁构造体(13)；及被设在间隔壁构造体(13)的下部，容许以间隔壁构造体(13)所被区分的各划区间的液体流通的液体流通部(20)，前述间隔壁构造体系具有格子状、蜂嵌套、网孔状、或管状的间隔壁。

3. 发明专利

TWI592639B 液面計及液體原料氣化供給裝置有权
简体标题：液面计及液体原料气化供给设备
公开(公告)号：TWI592639B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW104137016
申请日：2015-11-10
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G01F23/22 , C23C16/455 , B01J4/00 , H01L21/31
CPC分类号： C23C16/45561 , B01J4/00 , C23C16/448 , C23C16/4481 , G01F23/22 , G01F23/247 , G01F23/26 , H01L21/31 , H01L21/67248

4. 发明专利

TWI503443B 原料氣化供應裝置有权
简体标题：原料气化供应设备
公开(公告)号：TWI503443B
公开(公告)日：2015-10-11
申请号：TW102143011
申请日：2013-11-26
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485 , C23C16/4481 , C23C16/4482 , C23C16/52 , F17C9/02 , F22B1/284 , F22B1/285

5. 发明专利

TW201829987A 液面計、具備彼之氣化器及液面檢測方法审中-公开
简体标题：液面计、具备彼之气化器及液面检测方法
公开(公告)号：TW201829987A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106145498
申请日：2017-12-25
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 中谷貴紀 , NAKATANI, TAKATOSHI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 永□正明 , NAGASE, MASAAKI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G01F23/24
摘要：本發明的液面計(20)是具備：　　電阻式測溫體(R11)；　　位於其上方的溫度測定體(R12)；　　檢測出電阻式測溫體及溫度測定體的溫度的溫度檢測部(27)；　　以電阻式測溫體及溫度測定體成為被預定的溫度差之方式決定流動至電阻式測溫體的電流值的電流控制部(28)；　　將被決定的電流值的電流流動至電阻式測溫體的電源部(22)；及　　檢查液面的位置的液面檢測部(29)，　　液面檢測部是依據流動至電阻式測溫體的電流值的被預定的一定期間的變化幅度的正負，及變化幅度是否為被預定的值以上，來檢查液面對於電阻式測溫體的相對位置的變化。藉此，不受電阻式測溫體的特性的偏差的影響，可精度佳檢測出液面的位置。
简体摘要：本发明的液面计(20)是具备：　　电阻式测温体(R11)；　　位于其上方的温度测定体(R12)；　　检测出电阻式测温体及温度测定体的温度的温度检测部(27)；　　以电阻式测温体及温度测定体成为被预定的温度差之方式决定流动至电阻式测温体的电流值的电流控制部(28)；　　将被决定的电流值的电流流动至电阻式测温体的电源部(22)；及　　检查液面的位置的液面检测部(29)，　　液面检测部是依据流动至电阻式测温体的电流值的被预定的一定期间的变化幅度的正负，及变化幅度是否为被预定的值以上，来检查液面对于电阻式测温体的相对位置的变化。借此，不受电阻式测温体的特性的偏差的影响，可精度佳检测出液面的位置。

6. 发明专利

TWI632609B 氣化供給裝置有权
简体标题：气化供给设备
公开(公告)号：TWI632609B
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW105112439
申请日：2016-04-21
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 中谷貴紀 , NAKATANI, TAKATOSHI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： H01L21/31 , H01L21/205 , C23C16/448

7. 发明专利

TW201705279A 氣化供給裝置审中-公开
简体标题：气化供给设备
公开(公告)号：TW201705279A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105112439
申请日：2016-04-21
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 中谷貴紀 , NAKATANI, TAKATOSHI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： H01L21/31 , H01L21/205 , C23C16/448
CPC分类号： B01J4/008 , B01J4/00 , B01J7/02 , C23C16/448 , C23C16/4485 , C23C16/52 , H01L21/205 , H01L21/31 , H01L21/32135 , H01L21/6708
摘要：本發明的課題是在於提供一種可解除從氣化器內通往流量控制裝置的氣體流路內被液體充滿的狀態不佳的氣化供給裝置。其解決手段是具備：氣化器(2)，其係將液體(L)加熱而使氣化；流量控制裝置(3)，其係控制從氣化器送出的氣體的流量；第1控制閥(5)，其係在往氣化器(2)的液體的供給路(4)中介入；壓力檢測器(6)，其係用以檢測出在氣化器(2)被氣化送往流量控制裝置(3)的氣體的壓力；液體檢測部(7A)，其係測定超過氣化器(2)內的預定量的液體的參數；及控制裝置(8)，其係以能夠根據壓力檢測器(6)之檢測出的壓力值來對氣化器(2)供給預定量的液體(L)之方式控制第1控制閥(5)，且在液體檢測部(7)檢測到液體時，控制成關閉第1控制閥(5)。
简体摘要：本发明的课题是在于提供一种可解除从气化器内通往流量控制设备的气体流路内被液体充满的状态不佳的气化供给设备。其解决手段是具备：气化器(2)，其系将液体(L)加热而使气化；流量控制设备(3)，其系控制从气化器送出的气体的流量；第1控制阀(5)，其系在往气化器(2)的液体的供给路(4)中介入；压力检测器(6)，其系用以检测出在气化器(2)被气化送往流量控制设备(3)的气体的压力；液体检测部(7A)，其系测定超过气化器(2)内的预定量的液体的参数；及控制设备(8)，其系以能够根据压力检测器(6)之检测出的压力值来对气化器(2)供给预定量的液体(L)之方式控制第1控制阀(5)，且在液体检测部(7)检测到液体时，控制成关闭第1控制阀(5)。

8. 发明专利

TWI695244B 流體控制系統及流量測定方法有权
简体标题：流体控制系统及流量测定方法
公开(公告)号：TWI695244B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW107126296
申请日：2018-07-30
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/06 , G01F1/34 , G01F1/68

9. 发明专利

TW201441412A 原料氣化供應裝置审中-公开
简体标题：原料气化供应设备
公开(公告)号：TW201441412A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW102143011
申请日：2013-11-26
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/4485 , C23C16/4481 , C23C16/4482 , C23C16/52 , F17C9/02 , F22B1/284 , F22B1/285
摘要：本發明係無論是固體原料或液體原料，都能讓大多數的原料氣體不引起熱分解地成為期望之高溫、高蒸氣壓的原料氣體，藉此可將高純度且期望濃度的原料氣體以高精度進行流量控制的同時，穩定供應給處理室。本發明之原料氣體供應裝置，係具備：原料接收槽、將從液體接收槽壓送來的液體加以氣化的氣化器、來自氣化器之原料氣體流量加以調整的流量控制裝置、以及用來加熱氣化器和高溫型壓力式流量控制裝置和與此等連接之流路的期望部分的加熱裝置，而且至少對將前述原料接收槽和氣化器和流量控制裝置和前述各機器裝置間加以連結的流路及將介設在流路的開關閥中任一者之金屬表面的各液體接觸部或氣體接觸部，進行Al2O3鈍化處理或Cr2O3鈍化處理或FeF2鈍化處理。
简体摘要：本发明系无论是固体原料或液体原料，都能让大多数的原料气体不引起热分解地成为期望之高温、高蒸气压的原料气体，借此可将高纯度且期望浓度的原料气体以高精度进行流量控制的同时，稳定供应给处理室。本发明之原料气体供应设备，系具备：原料接收槽、将从液体接收槽压送来的液体加以气化的气化器、来自气化器之原料气体流量加以调整的流量控制设备、以及用来加热气化器和高温型压力式流量控制设备和与此等连接之流路的期望部分的加热设备，而且至少对将前述原料接收槽和气化器和流量控制设备和前述各机器设备间加以链接的流路及将介设在流路的开关阀中任一者之金属表面的各液体接触部或气体接触部，进行Al2O3钝化处理或Cr2O3钝化处理或FeF2钝化处理。

10. 发明专利

TW201910956A 流體控制系統及流量測定方法审中-公开
简体标题：流体控制系统及流量测定方法
公开(公告)号：TW201910956A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107126296
申请日：2018-07-30
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 澤田洋平 , SAWADA, YOHEI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G05D7/06 , G01F1/34 , G01F1/68
摘要：流體控制系統(1)是具備：　　被設在流量控制器(10)的下游側的第1閥(21)；　　被設在第1閥(21)的下游側，具有第2閥(22)的流量測定裝置(30)；　　被設在第2閥(22)的開閉檢測器(26)；及　　控制第1閥(21)及第2閥(22)的開閉動作的控制部(25)，　　控制部(25)會按照開閉檢測器(26)所輸出的訊號來控制第1閥(21)的開閉。
简体摘要：流体控制系统(1)是具备：　　被设在流量控制器(10)的下游侧的第1阀(21)；　　被设在第1阀(21)的下游侧，具有第2阀(22)的流量测定设备(30)；　　被设在第2阀(22)的开闭检测器(26)；及　　控制第1阀(21)及第2阀(22)的开闭动作的控制部(25)，　　控制部(25)会按照开闭检测器(26)所输出的信号来控制第1阀(21)的开闭。

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