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1. 发明专利

TW201632864A 光學性氣體濃度測定方法及由該方法所進行之氣體濃度監測方法审中-公开
简体标题：光学性气体浓度测定方法及由该方法所进行之气体浓度监测方法
公开(公告)号：TW201632864A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104138514
申请日：2015-11-20
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED , 國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 須川成利 , SUGAWA, SHIGETOSHI , 黒田理人 , KURODA, RIHITO
IPC分类号： G01N21/27 , G01N21/33 , C23C16/52 , H01L21/205
CPC分类号： G01N21/27 , C23C16/18 , C23C16/52 , G01N21/314 , G01N21/3151 , G01N21/33 , G01N33/0027 , G01N2021/3155 , G01N2021/3159 , G01N2021/3181 , G01N2201/0627 , G01N2201/0696 , G01N2201/12 , H01L21/205
摘要：提供一種能夠藉由簡易之手段而直到極微量區域之濃度為止地來以非破壞性並正確且迅速地測定出特定之化學成分的濃度之濃度測定方法、以及能夠將被測定對象中之化學成分的濃度正確且迅速地一直到奈尺度之極微量濃度區域均以即時性而測定出來並能夠以各種態樣和型態而具體化的萬能性之濃度測定方法。將相對於被測定對象而光吸收率為相異之第1波長之光和第2波長之光，對於被測定對象而分別以分時(time sharing)法進行照射，將起因於各波長之光之該照射所致的光學性中介於被測定對象而來之各波長之光，藉由共通的受光感測器而受光，形成因應於該受光而從前述受光感測器所輸出的關連於第1波長之光之訊號和關連於第2波長之光之訊號之兩者間的差動訊號，基於該差動訊號，來導出在被測定對象中的化學成分之濃度。
简体摘要：提供一种能够借由简易之手段而直到极微量区域之浓度为止地来以非破坏性并正确且迅速地测定出特定之化学成分的浓度之浓度测定方法、以及能够将被测定对象中之化学成分的浓度正确且迅速地一直到奈尺度之极微量浓度区域均以实时性而测定出来并能够以各种态样和型态而具体化的万能性之浓度测定方法。将相对于被测定对象而光吸收率为相异之第1波长之光和第2波长之光，对于被测定对象而分别以分时(time sharing)法进行照射，将起因于各波长之光之该照射所致的光学性中介于被测定对象而来之各波长之光，借由共通的受光传感器而受光，形成因应于该受光而从前述受光传感器所输出的关连于第1波长之光之信号和关连于第2波长之光之信号之两者间的差动信号，基于该差动信号，来导出在被测定对象中的化学成分之浓度。

2. 发明专利

TWI441994B 電磁閥有权
简体标题：电磁阀
公开(公告)号：TWI441994B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW098110473
申请日：2009-03-30
申请人：國立大學法人東北大學 , NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 谷川毅 , TANIGAWA, TSUYOSHI , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE
IPC分类号： F16K31/02
CPC分类号： F16K31/0658 , F16K31/0675 , H01F7/1816 , H01F2007/1822

3. 发明专利

TWI474865B 氣化器有权
简体标题：气化器
公开(公告)号：TWI474865B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481

5. 发明专利

TW201321079A 氣化器审中-公开
简体标题：气化器
公开(公告)号：TW201321079A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481
摘要： [課題]提供一種可使氣化器內的壓力的行動安定的氣化器。[解決手段]本發明之氣化器係具備有：具備流入口及流出口的腔室；將該腔室內加熱的加熱裝置；被設在該腔室內，將該腔室內的液體材料區分成複數劃區的間隔壁構造體(13)；及被設在間隔壁構造體(13)的下部，容許以間隔壁構造體(13)所被區分的各劃區間的液體流通的液體流通部(20)，前述間隔壁構造體係具有格子狀、蜂巢狀、網孔狀、或管狀的間隔壁。
简体摘要： [课题]提供一种可使气化器内的压力的行动安定的气化器。[解决手段]本发明之气化器系具备有：具备流入口及流出口的腔室；将该腔室内加热的加热设备；被设在该腔室内，将该腔室内的液体材料区分成复数划区的间隔壁构造体(13)；及被设在间隔壁构造体(13)的下部，容许以间隔壁构造体(13)所被区分的各划区间的液体流通的液体流通部(20)，前述间隔壁构造体系具有格子状、蜂嵌套、网孔状、或管状的间隔壁。

6. 发明专利

TWI322342B 墊片型流孔組件及使用該墊片型流孔組件的壓力式流量控制裝置有权
简体标题：垫片型流孔组件及使用该垫片型流孔组件的压力式流量控制设备
公开(公告)号：TWI322342B
公开(公告)日：2010-03-21
申请号：TW095118127
申请日：2006-05-22
申请人：富士金股份有限公司 , 國立大學法人東北大學
发明人：大見忠弘 , 西野功二 , 土肥亮介 , 池田信一 , 永瀨正明 , 平田薰 , 杉田勝幸 , 篠原努 , 廣瀨隆 , 今井智一 , 吉田俊英 , 田中久士
IPC分类号： G05D , F16K
CPC分类号： F16K27/003 , F16L55/02718 , G01F1/36 , G01F15/001 , G01F15/005 , G05D7/0635
摘要：本發明的目的在於：在不必分解、組裝壓力式流量控制裝置的狀況下，藉由簡單地更換其流孔組件，而可輕易地執行控制流量的切換。
為達成上述目的，本發明是在具備流體供給用配管之連接部的入口側安裝用塊體(39)、與具備流體取出用配管之連接部的出口側安裝用塊體(43)之間，配設壓力式流量控制装置(A)之控制閥(2)的閥體(23)，藉由可各自分解地將該閥體(23)的流體入口側、與上述入口側安裝用塊體(39)的流體出口側；及上述閥體(23)的流體出口側、與上述出口側安裝用塊體(43)的流體入口側連結成氣密狀，而形成可供通過上述控制閥(2)之氣體流通的流路，並可自由裝卸地將壓力式流量控制裝置(A)的墊片型流孔組件(38)插入固定於設在上述閥體(23)之出口側的墊片型流孔組件插入孔(42c)、與設在出口側安裝用塊體(43)之流體入口側的墊片型流孔組件插入孔(43b)之間的構造。【創作特點】本發明，是解決傳統流孔組件及使用流孔組件的壓力式流量控制裝置中上述問題的發明，所謂傳統流孔組件及使用流孔組件的壓力式流量控制裝置的問題是指：(1)無法輕易地使用薄流孔組件板來製造具有特定孔徑及形態之穩定的流孔組件；(2)熔接型的流孔組件容易因熱應力而產生流孔的變形或流孔組件板的裂痕；(3)此外，在採用流孔組件的壓力式流量控制裝置中，無法僅變更流量運算迴路的變換率k，來對應流量範為的大幅擴大；(4)傳統的流孔組件更換方式，除了流孔組件的更換所需的步驟過於煩瑣之外，還具有外部洩漏的可能性高之類的問題，本發明可採用極薄的流孔組件板來獲得高精度且穩定的流量特性，並能簡單地朝流體通路內插入固定而在無洩漏的狀態下形成挾持固定，不僅如此，本發明的目的是提供一種：價格低廉且容易製造的流孔組件及使用該流孔組件的壓力式流量控制裝置，並且即使從工廠出貨之後，在現場也能更換流孔組件8而簡單且迅速地改變流量範圍(range)，不會形成來自於流孔組件8的外部洩漏，進而可大幅提高流量控制精度的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置。
申請專利範圍第1項之發明的墊片型流孔組件，其發明的基本構成是形成：將具備嵌合用突部(38a1)的流孔組件基座(38a)與具備嵌合用凹部(38b1)的流孔組件基座(38b)加以組合，並藉由將嵌合用突部(38a1)壓入嵌合用凹部(38b1)，而使並將流孔組件板(38c)於嵌合用突部(38a1)與嵌合用凹部(38b1)之間被挾持成氣密狀，並將兩流孔組件基座(38a)，(38b)的兩端面(38a3)，(38b3)作為墊片的密封面。
申請專利範圍第2項之發明的壓力式流量控制裝置，其發明的基本構成是形成：是具備控制閥、壓力檢測器、流孔組件、流量運算迴路及運算控制迴路的壓力式流量控制裝置(A)，其中上述的流孔組件為申請專利範圍第1項所記載的墊片型流孔組件。
申請專利範圍第3項的發明，如申請專利範圍第2項的壓力式流量控制裝置，其中形成壓力式流量控制裝置(A)的控制閥的閥體(23)是由：具有流體流動通路(40a)的入口側塊體(40)；和具備閥座(2b)的中央塊體(41)；及具備出口側流體通路(42a)的出口側塊體(42)連結成氣密狀所構成。
申請專利範圍第4項的發明，如申請專利範圍第3項的壓力式流量控制裝置，其中構成壓力式流量控制裝置(A)之流孔組件的設置位置，是設在控制閥之中央塊體(41)的流體出口側、與出口側安裝用塊體(42)的流體入口側之間。
申請專利範圍第5項之發明的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置，其發明的基本構成是形成：在具備流體供給用配管之連接部的入口側安裝用塊體39、與具備流體取出用配管之連接部的出口側安裝用塊體43之間配設壓力式流量控制裝置A之控制閥2的閥體23，藉由可各自分解地將該閥體23的流體入口側、與上述入口側安裝用塊體39的流體出口側；及上述閥體23的流體出口側、與上述出口側安裝用塊體43的流體入口側連結成氣密狀，而形成可供通過上述控制閥2之氣體形成流通的流路，並可自由裝卸地將壓力式流量控制裝置A的墊片型流孔組件38插入固定於設在上述閥體23之出口側的墊片型流孔組件插入孔42c、與設在出口側安裝用塊體43之流體入口側的墊片型流孔組件插入孔43b之間，上述墊片型流孔組件38，將具備嵌合用突部38a1的流孔組件基座38a；及具備嵌合用凹部38b1的流孔組件基座38b加以組合，並藉由將嵌合用突部38a1壓入嵌合用凹部38b1，而使流孔組件板38c於嵌合用突部38a1與嵌合用凹部38b1之間被挾持成氣密狀。
申請專利範圍第6項的發明，如申請專利範圍第5項的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置，其中形成壓力式流量控制裝置A之控制閥2的閥體23是由：具有流體流動通路40a的入口側塊體40；和具備閥座2b的中央塊體41；及具備出口側流體通路42a的出口側塊體42連結成氣密狀所構成。
申請專利範圍第7項的發明，如申請專利範圍第6項的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置，其中在中央塊體41設置可供壓力式流量控制裝置A之壓力檢測器6插入固定的壓力檢測器插入孔41e。
本發明申請專利範圍第1項的墊片型流孔組件38，由於是構成使流孔組件板38c嵌合於兩流孔組件基座38a、38b之間並緊密接合成氣密狀，因此即使是極薄的金屬板或者金屬薄膜，也能不產生變形地挾持於兩流孔組件基座38a、38b之間。
如此一來，藉由可使用具有更高精度之流孔的流孔組件板38c，並將兩流孔組件基座的外側端作為密封面來利用，故可使流孔組件38本身作為墊片而緊密地朝管路等鎖入固定。
本發明之申請專利範圍第2項的壓力式流量控制裝置，由於採用申請專利範圍第1項的墊片型流孔組件38，故可達成流孔組件38本身的高精度化，並可趨近完美地達成確保流孔組件38於安裝時的氣密性及防止變形。
在本發明之申請專利範圍第5項的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置中，由於可極為輕易地執行流孔組件的更換，並可趨近完美地確保流孔組件38於安裝時的氣密性及防止變形，因此可執行高精度的流量控制控制。
简体摘要：本发明的目的在于：在不必分解、组装压力式流量控制设备的状况下，借由简单地更换其流孔组件，而可轻易地运行控制流量的切换。为达成上述目的，本发明是在具备流体供给用配管之连接部的入口侧安装用块体(39)、与具备流体取出用配管之连接部的出口侧安装用块体(43)之间，配设压力式流量控制装置(A)之控制阀(2)的阀体(23)，借由可各自分解地将该阀体(23)的流体入口侧、与上述入口侧安装用块体(39)的流体出口侧；及上述阀体(23)的流体出口侧、与上述出口侧安装用块体(43)的流体入口侧链接成气密状，而形成可供通过上述控制阀(2)之气体流通的流路，并可自由装卸地将压力式流量控制设备(A)的垫片型流孔组件(38)插入固定于设在上述阀体(23)之出口侧的垫片型流孔组件插入孔(42c)、与设在出口侧安装用块体(43)之流体入口侧的垫片型流孔组件插入孔(43b)之间的构造。【创作特点】本发明，是解决传统流孔组件及使用流孔组件的压力式流量控制设备中上述问题的发明，所谓传统流孔组件及使用流孔组件的压力式流量控制设备的问题是指：(1)无法轻易地使用薄流孔组件板来制造具有特定孔径及形态之稳定的流孔组件；(2)熔接型的流孔组件容易因热应力而产生流孔的变形或流孔组件板的裂痕；(3)此外，在采用流孔组件的压力式流量控制设备中，无法仅变更流量运算回路的变换率k，来对应流量范为的大幅扩大；(4)传统的流孔组件更换方式，除了流孔组件的更换所需的步骤过于烦琐之外，还具有外部泄漏的可能性高之类的问题，本发明可采用极薄的流孔组件板来获得高精度且稳定的流量特性，并能简单地朝流体通路内插入固定而在无泄漏的状态下形成挟持固定，不仅如此，本发明的目的是提供一种：价格低廉且容易制造的流孔组件及使用该流孔组件的压力式流量控制设备，并且即使从工厂出货之后，在现场也能更换流孔组件8而简单且迅速地改变流量范围(range)，不会形成来自于流孔组件8的外部泄漏，进而可大幅提高流量控制精度的流孔组件交换型压力式流量控制设备。申请专利范围第1项之发明的垫片型流孔组件，其发明的基本构成是形成：将具备嵌合用突部(38a1)的流孔组件基座(38a)与具备嵌合用凹部(38b1)的流孔组件基座(38b)加以组合，并借由将嵌合用突部(38a1)压入嵌合用凹部(38b1)，而使并将流孔组件板(38c)于嵌合用突部(38a1)与嵌合用凹部(38b1)之间被挟持成气密状，并将两流孔组件基座(38a)，(38b)的两端面(38a3)，(38b3)作为垫片的密封面。申请专利范围第2项之发明的压力式流量控制设备，其发明的基本构成是形成：是具备控制阀、压力检测器、流孔组件、流量运算回路及运算控制回路的压力式流量控制设备(A)，其中上述的流孔组件为申请专利范围第1项所记载的垫片型流孔组件。申请专利范围第3项的发明，如申请专利范围第2项的压力式流量控制设备，其中形成压力式流量控制设备(A)的控制阀的阀体(23)是由：具有流体流动通路(40a)的入口侧块体(40)；和具备阀座(2b)的中央块体(41)；及具备出口侧流体通路(42a)的出口侧块体(42)链接成气密状所构成。申请专利范围第4项的发明，如申请专利范围第3项的压力式流量控制设备，其中构成压力式流量控制设备(A)之流孔组件的设置位置，是设在控制阀之中央块体(41)的流体出口侧、与出口侧安装用块体(42)的流体入口侧之间。申请专利范围第5项之发明的流孔组件交换型压力式流量控制设备，其发明的基本构成是形成：在具备流体供给用配管之连接部的入口侧安装用块体39、与具备流体取出用配管之连接部的出口侧安装用块体43之间配设压力式流量控制设备A之控制阀2的阀体23，借由可各自分解地将该阀体23的流体入口侧、与上述入口侧安装用块体39的流体出口侧；及上述阀体23的流体出口侧、与上述出口侧安装用块体43的流体入口侧链接成气密状，而形成可供通过上述控制阀2之气体形成流通的流路，并可自由装卸地将压力式流量控制设备A的垫片型流孔组件38插入固定于设在上述阀体23之出口侧的垫片型流孔组件插入孔42c、与设在出口侧安装用块体43之流体入口侧的垫片型流孔组件插入孔43b之间，上述垫片型流孔组件38，将具备嵌合用突部38a1的流孔组件基座38a；及具备嵌合用凹部38b1的流孔组件基座38b加以组合，并借由将嵌合用突部38a1压入嵌合用凹部38b1，而使流孔组件板38c于嵌合用突部38a1与嵌合用凹部38b1之间被挟持成气密状。申请专利范围第6项的发明，如申请专利范围第5项的流孔组件交换型压力式流量控制设备，其中形成压力式流量控制设备A之控制阀2的阀体23是由：具有流体流动通路40a的入口侧块体40；和具备阀座2b的中央块体41；及具备出口侧流体通路42a的出口侧块体42链接成气密状所构成。申请专利范围第7项的发明，如申请专利范围第6项的流孔组件交换型压力式流量控制设备，其中在中央块体41设置可供压力式流量控制设备A之压力检测器6插入固定的压力检测器插入孔41e。本发明申请专利范围第1项的垫片型流孔组件38，由于是构成使流孔组件板38c嵌合于两流孔组件基座38a、38b之间并紧密接合成气密状，因此即使是极薄的金属板或者金属薄膜，也能不产生变形地挟持于两流孔组件基座38a、38b之间。如此一来，借由可使用具有更高精度之流孔的流孔组件板38c，并将两流孔组件基座的外侧端作为密封面来利用，故可使流孔组件38本身作为垫片而紧密地朝管路等锁入固定。本发明之申请专利范围第2项的压力式流量控制设备，由于采用申请专利范围第1项的垫片型流孔组件38，故可达成流孔组件38本身的高精度化，并可趋近完美地达成确保流孔组件38于安装时的气密性及防止变形。在本发明之申请专利范围第5项的流孔组件交换型压力式流量控制设备中，由于可极为轻易地运行流孔组件的更换，并可趋近完美地确保流孔组件38于安装时的气密性及防止变形，因此可运行高精度的流量控制控制。

7. 发明专利

TW201009527A 使用壓力式流量控制裝置之流體的非連續式流量切換控制方法审中-公开
简体标题：使用压力式流量控制设备之流体的非连续式流量切换控制方法
公开(公告)号：TW201009527A
公开(公告)日：2010-03-01
申请号：TW098113498
申请日：2009-04-23
申请人：富士金股份有限公司 , 國立大學法人東北大學 , 東京威力科創股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 西野功二 , 土肥亮介 , 永瀨正明 , 杉田勝幸 , 平田薰 , 廣瀨隆 , 篠原努 , 池田信一 , 吉田俊英 , 田中久士
IPC分类号： G05D , G01F
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/42 , G01F7/005 , Y10T137/0379
摘要：以切換成第2流量區與第1流量區來進行流體的流量控制之使用壓力式流量控制裝置之流量控制方法中，擴大在特定的誤差範圍內能夠控制的流量範圍，並更為縮小可控制的最小流量。本發明為使用流量範圍可變型壓力式流量控制裝置之流體的流量控制方法，係將壓力式流量控制裝置之控制閥的下游側與流體供應用管路之間之流體通路，構成為至少2個以上的並聯狀流體通路，並且將流體流量特性為不同的孔口分別中介存在於通往前述各並聯狀流體通路，在第1流量區之流體的流量控制時，使前述第1流量區的流體往一方的孔口流通，且在第2流量區之流體的流量控制時，使前述第2流量區的流體往至少另一方的孔口流通，其係以使前述小流量的第1流量區之流體的最大控制流量較前述大流量的第2流量區之最大控制流量的10%還小之方式來選擇前述各孔口的流量特性，將在特定的流量控制誤差內能夠進行流量控制之第1流量區的最小流量予以降低。
简体摘要：以切换成第2流量区与第1流量区来进行流体的流量控制之使用压力式流量控制设备之流量控制方法中，扩大在特定的误差范围内能够控制的流量范围，并更为缩小可控制的最小流量。本发明为使用流量范围可变型压力式流量控制设备之流体的流量控制方法，系将压力式流量控制设备之控制阀的下游侧与流体供应用管路之间之流体通路，构成为至少2个以上的并联状流体通路，并且将流体流量特性为不同的孔口分别中介存在于通往前述各并联状流体通路，在第1流量区之流体的流量控制时，使前述第1流量区的流体往一方的孔口流通，且在第2流量区之流体的流量控制时，使前述第2流量区的流体往至少另一方的孔口流通，其系以使前述小流量的第1流量区之流体的最大控制流量较前述大流量的第2流量区之最大控制流量的10%还小之方式来选择前述各孔口的流量特性，将在特定的流量控制误差内能够进行流量控制之第1流量区的最小流量予以降低。

8. 发明专利

TWI320520B 流量範圍可變型流量控制裝置有权
简体标题：流量范围可变型流量控制设备
公开(公告)号：TWI320520B
公开(公告)日：2010-02-11
申请号：TW095123000
申请日：2006-06-26
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 國立大學法人東北大學
发明人：大見忠弘 , 齋藤雅仁 , 日野昭一 , 嶋津強 , 三浦和幸 , 西野功二 , 永瀨正明 , 杉田勝幸 , 平田薰 , 土肥亮介 , 廣瀨隆 , 篠原努 , 池田信一 , 今井智一 , 吉田俊英 , 田中久士
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0641 , G01F1/363 , G01F1/6842 , G01F1/6847 , G01F5/005 , G01F7/005 , G05D7/0635 , G05D7/0647 , G05D23/1927 , Y10T137/0379 , Y10T137/7759 , Y10T137/776 , Y10T137/8593 , Y10T137/86734 , Y10T137/86815 , Y10T137/87265 , Y10T137/87314 , Y10T137/8741 , Y10T137/87499 , Y10T137/87684
摘要：本發明係可藉由1台流量控制裝置進行流量域更廣之流體的高精度流量控制，藉此達成流量控制裝置小型化及設備費用削減之目的。
本發明係於使用孔口上游側壓力P1及孔口下游側壓力P2，將流通於孔口8之流體流量設為Qc=KP1(K為比例常數)或Qc=KP2 m (P1-P2) n (K為比例常數，m與n為常數)進行運算之壓力式流量控制裝置中，將該壓力式流量控制裝置之控制閥的下游側與流體供給用管路之間的流體通路設為至少2個以上並聯狀流體通路，同時分別使朝向前述各並聯狀流體通路之流體流量特性不同的孔口介於其中，在小流量域之流體的流量控制方面係使前述小流量域之流體朝一方之孔口流通，此外在大流量域之流體的流量控制方面係使前述大流量域之流體切換而朝另一方之孔口流通。【創作特點】但是，壓力式流量控制裝置若為尤其在臨界條件下，將流量Qc設為Qc=KP1而進行運算控制的方式之第7圖(a)所示之裝置時，隨著孔口二次側壓力P2(亦即為氣體供給目的地之反應室裝置等)的上升，流量控制範圍會隨之漸漸變小。其係基於由於孔口一次側壓力P1係按照流量設定值而被控制為特定壓力值，因此在P2/P1符合臨界膨脹條件之狀態下，當孔口二次側壓力P2上升時，孔口一次側壓力P1的調整範圍，亦即由P1所產生之流量Qc的控制範圍必然會變窄所致。
此外，流體之流通狀態不符合前述臨界條件時，由於流量控制精度大幅降低，結果使半導體製品的品質產生參差不齊。
換言之，在臨界條件下進行流體之流量控制之型式的壓力式流量控制裝置中，由於孔口二次側之壓力上升而可進行流量控制的範圍，會比從前之熱式質量流量控制裝置或所謂差壓式流量控制裝置大幅變窄。
結果，變成必須設置2個流量控制範圍不同的壓力式流量控制裝置，導致半導體製造裝置等之製造成本上升。
本發明係為解決以下所述之從前之流體流量控制裝置中如上所述之問題者，亦即(1)當必須為較大之流量控制範圍時，為了確保預定的控制精度，必須以並聯狀設置複數個流量範圍不同之流量控制裝置，以切換使用該等流量控制裝置，而難以削減流量控制裝置的費用，(2)當為臨界條件下以流量控制為基本之壓力式流量控制裝置時，孔口2次側的壓力上升，同時流量控制範圍遞減，為了處理該問題，必須設置複數個流量範圍不同之流量控制裝置等，發明之主要目的在提供一種適當切換控制流量控制裝置內部之流體通路，藉此使用一台流量控制裝置，即可跨及較大的流量控制範圍來進行高精度之流體的流量控制的流量範圍可變型流量控制裝置。
申請專利範圍第1項之發明係以以下作為發明之基本構成：至少設置小流量用與大流量用之流體通路作為朝向流量控制裝置之流量檢測部的流體通路，通過前述小流量用流體通路，使小流量域之流體朝流量檢測部流通，同時將流量控制部之檢測位準切換成適於檢測小流量域之檢測位準，此外，通過前述大流量用流體通路，使大流量域之流體朝前述流量檢測部流通，同時將流量控制部之檢測位準切換成適於檢測大流量域之流量的檢測位準，藉此分別切換大流量域與小流量域的流體，而進行流量控制。
申請專利範圍第2項之發明係以以下作為發明之基本構成：係使用孔口上游側壓力P1及或孔口下游側壓力P2，將流通於孔口8之流體流量設為Qc=KP1(K為比例常數)或Qc=KP2 m (P1-P2) n (K為比例常數，m與n為常數)進行運算之壓力式流量控制裝置，其特徵為構成為：將該壓力式流量控制裝置之控制閥的下游側與流體供給用管路之間的流體通路設為至少2個以上並聯狀流體通路，同時分別使朝向前述各並聯狀流體通路之流體流量特性不同的孔口介於其中，在小流量域之流體的流量控制方面係使前述小流量域之流體朝一方之孔口流通，此外在大流量域之流體的流量控制方面係使前述大流量域之流體至少朝另一方之孔口流通。
申請專利範圍第3項之發明係於申請專利範圍第2項之發明中，構成為：將並聯狀流體通路數量設為2個，而且將孔口設為大流量用孔口與小流量用孔口等2個，並藉由設在大流量用孔口之流體通路的切換閥的動作，將流體流量的控制範圍切換成小流量域與大流量域。
申請專利範圍第4項之發明係於申請專利範圍第2項之發明中，構成為：將孔口設為大流量用孔口、中流量用孔口與小流量用孔口等3種，並藉由使No1切換用閥與No2切換用閥與大流量用孔口以串聯狀介於一方的流體通路，此外使小流量用孔口與中流量用孔口介於另一方的流體通路，再者，使用以連通前述兩切換閥間的通路、與用以連通小流量用孔口與中流量用孔口間之通路相連通。
申請專利範圍第5項之發明係於申請專利範圍第2項之發明中，將流通於壓力式流量控制裝置孔口的流體設為臨界條件下的流體。
申請專利範圍第6項之發明係以以下作為發明之基本構成：係由流量控制閥、層流元件裝置部與流量感測器部等所構成，以流量感測部進行檢測與流體之質量流量成正比的溫度變化，根據該檢測溫度，對流量控制閥進行開閉控制，藉此使特定之設定流量的流體流出的熱式質量流量控制裝置，其特徵為構成為：將至流量控制閥為止的流體通路設為至少2個以上之並聯的流體通路，同時分別使朝向前述各並聯狀流體通路之粗細不同的層流元件及流量感測器介於其中，在小流量域之流體的流量控制方面係使前述小流量域之流體朝一方之層流元件流通，此外在大流量域之流體的流量控制方面係使前述大流量域之流體朝另一方之層流元件流通。
申請專利範圍第7項之發明係於申請專利範圍第6項之發明中，構成為：將並聯狀流體通路數量設為2個，而且將層流元件設為大流量用之粗層流元件與小流量用之細層流元件等2個，同時藉由分別設在各流體通路之切換閥的動作，將流體流量的控制範圍切換成小流量域與大流量域。
由於形成適當組合由大流量用孔口8c與小流量用孔口8a(或大流量用孔口8c與中流量用孔口8b與小流量用孔口8a)所為之流量控制，藉此進行流量控制的構成，因此可跨及廣大範圍之流量域，進行誤差為1%設定點(set point)以下之高精度的流量控制。
此外，藉由操作切換閥，可自動進行流量控制域之切換選擇，且亦不會導致操作複雜化。
再者，當以臨界條件下之流量流量控制為基本時，由於活用流量因數(flow factor)F.F，亦可容易對應氣體種類的變更，且可適用於各種流體供給設備之流量控制。
简体摘要：本发明系可借由1台流量控制设备进行流量域更广之流体的高精度流量控制，借此达成流量控制设备小型化及设备费用削减之目的。本发明系于使用孔口上游侧压力P1及孔口下游侧压力P2，将流通于孔口8之流体流量设为Qc=KP1(K为比例常数)或Qc=KP2 m (P1-P2) n (K为比例常数，m与n为常数)进行运算之压力式流量控制设备中，将该压力式流量控制设备之控制阀的下游侧与流体供给用管路之间的流体通路设为至少2个以上并联状流体通路，同时分别使朝向前述各并联状流体通路之流体流量特性不同的孔口介于其中，在小流量域之流体的流量控制方面系使前述小流量域之流体朝一方之孔口流通，此外在大流量域之流体的流量控制方面系使前述大流量域之流体切换而朝另一方之孔口流通。【创作特点】但是，压力式流量控制设备若为尤其在临界条件下，将流量Qc设为Qc=KP1而进行运算控制的方式之第7图(a)所示之设备时，随着孔口二次侧压力P2(亦即为气体供给目的地之反应室设备等)的上升，流量控制范围会随之渐渐变小。其系基于由于孔口一次侧压力P1系按照流量设置值而被控制为特定压力值，因此在P2/P1符合临界膨胀条件之状态下，当孔口二次侧压力P2上升时，孔口一次侧压力P1的调整范围，亦即由P1所产生之流量Qc的控制范围必然会变窄所致。此外，流体之流通状态不符合前述临界条件时，由于流量控制精度大幅降低，结果使半导体制品的品质产生参差不齐。换言之，在临界条件下进行流体之流量控制之型式的压力式流量控制设备中，由于孔口二次侧之压力上升而可进行流量控制的范围，会比从前之热式质量流量控制设备或所谓差压式流量控制设备大幅变窄。结果，变成必须设置2个流量控制范围不同的压力式流量控制设备，导致半导体制造设备等之制造成本上升。本发明系为解决以下所述之从前之流体流量控制设备中如上所述之问题者，亦即(1)当必须为较大之流量控制范围时，为了确保预定的控制精度，必须以并联状设置复数个流量范围不同之流量控制设备，以切换使用该等流量控制设备，而难以削减流量控制设备的费用，(2)当为临界条件下以流量控制为基本之压力式流量控制设备时，孔口2次侧的压力上升，同时流量控制范围递减，为了处理该问题，必须设置复数个流量范围不同之流量控制设备等，发明之主要目的在提供一种适当切换控制流量控制设备内部之流体通路，借此使用一台流量控制设备，即可跨及较大的流量控制范围来进行高精度之流体的流量控制的流量范围可变型流量控制设备。申请专利范围第1项之发明系以以下作为发明之基本构成：至少设置小流量用与大流量用之流体通路作为朝向流量控制设备之流量检测部的流体通路，通过前述小流量用流体通路，使小流量域之流体朝流量检测部流通，同时将流量控制部之检测位准切换成适于检测小流量域之检测位准，此外，通过前述大流量用流体通路，使大流量域之流体朝前述流量检测部流通，同时将流量控制部之检测位准切换成适于检测大流量域之流量的检测位准，借此分别切换大流量域与小流量域的流体，而进行流量控制。申请专利范围第2项之发明系以以下作为发明之基本构成：系使用孔口上游侧压力P1及或孔口下游侧压力P2，将流通于孔口8之流体流量设为Qc=KP1(K为比例常数)或Qc=KP2 m (P1-P2) n (K为比例常数，m与n为常数)进行运算之压力式流量控制设备，其特征为构成为：将该压力式流量控制设备之控制阀的下游侧与流体供给用管路之间的流体通路设为至少2个以上并联状流体通路，同时分别使朝向前述各并联状流体通路之流体流量特性不同的孔口介于其中，在小流量域之流体的流量控制方面系使前述小流量域之流体朝一方之孔口流通，此外在大流量域之流体的流量控制方面系使前述大流量域之流体至少朝另一方之孔口流通。申请专利范围第3项之发明系于申请专利范围第2项之发明中，构成为：将并联状流体通路数量设为2个，而且将孔口设为大流量用孔口与小流量用孔口等2个，并借由设在大流量用孔口之流体通路的切换阀的动作，将流体流量的控制范围切换成小流量域与大流量域。申请专利范围第4项之发明系于申请专利范围第2项之发明中，构成为：将孔口设为大流量用孔口、中流量用孔口与小流量用孔口等3种，并借由使No1切换用阀与No2切换用阀与大流量用孔口以串联状介于一方的流体通路，此外使小流量用孔口与中流量用孔口介于另一方的流体通路，再者，使用以连通前述两切换阀间的通路、与用以连通小流量用孔口与中流量用孔口间之通路相连通。申请专利范围第5项之发明系于申请专利范围第2项之发明中，将流通于压力式流量控制设备孔口的流体设为临界条件下的流体。申请专利范围第6项之发明系以以下作为发明之基本构成：系由流量控制阀、层流组件设备部与流量传感器部等所构成，以流量传感部进行检测与流体之质量流量成正比的温度变化，根据该检测温度，对流量控制阀进行开闭控制，借此使特定之设置流量的流体流出的热式质量流量控制设备，其特征为构成为：将至流量控制阀为止的流体通路设为至少2个以上之并联的流体通路，同时分别使朝向前述各并联状流体通路之粗细不同的层流组件及流量传感器介于其中，在小流量域之流体的流量控制方面系使前述小流量域之流体朝一方之层流组件流通，此外在大流量域之流体的流量控制方面系使前述大流量域之流体朝另一方之层流组件流通。申请专利范围第7项之发明系于申请专利范围第6项之发明中，构成为：将并联状流体通路数量设为2个，而且将层流组件设为大流量用之粗层流组件与小流量用之细层流组件等2个，同时借由分别设在各流体通路之切换阀的动作，将流体流量的控制范围切换成小流量域与大流量域。由于形成适当组合由大流量用孔口8c与小流量用孔口8a(或大流量用孔口8c与中流量用孔口8b与小流量用孔口8a)所为之流量控制，借此进行流量控制的构成，因此可跨及广大范围之流量域，进行误差为1%设置点(set point)以下之高精度的流量控制。此外，借由操作切换阀，可自动进行流量控制域之切换选择，且亦不会导致操作复杂化。再者，当以临界条件下之流量流量控制为基本时，由于活用流量因子(flow factor)F.F，亦可容易对应气体种类的变更，且可适用于各种流体供给设备之流量控制。

9. 发明专利

TW200951333A 電磁閥审中-公开
简体标题：电磁阀
公开(公告)号：TW200951333A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW098110473
申请日：2009-03-30
申请人：國立大學法人東北大學 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 西野功二 , 谷川毅 , 山路道雄 , 池田信一 , 土肥亮介
IPC分类号： F16K
CPC分类号： F16K31/0658 , F16K31/0675 , H01F7/1816 , H01F2007/1822
摘要：提供一種將進行驅動之專用電源小型化並謀求了省空間化之電磁閥。提供一種可瞬間進行開閉之電磁閥，其特徵為：係將具備有低直流內部電阻以及低等效串聯電阻之電性雙層電容器作為動力電源。電性雙層電容器，係為單胞之電性特性為靜電電容1~5F、額定電壓2.1~2.7V、直流內部電阻0.01~0.1Ω、且在1KHz下之等效串聯電阻為0.03~0.09Ω者，並具備有由比表面積為1~500m 2 /g之玻璃碳所成的分極性電極。
简体摘要：提供一种将进行驱动之专用电源小型化并谋求了省空间化之电磁阀。提供一种可瞬间进行开闭之电磁阀，其特征为：系将具备有低直流内部电阻以及低等效串联电阻之电性双层电容器作为动力电源。电性双层电容器，系为单胞之电性特性为静电电容1~5F、额定电压2.1~2.7V、直流内部电阻0.01~0.1Ω、且在1KHz下之等效串联电阻为0.03~0.09Ω者，并具备有由比表面积为1~500m 2 /g之玻璃碳所成的分极性电极。

10. 发明专利

TWI687658B 流體控制器的異常檢測裝置、異常檢測系統、異常檢測方法及流體控制器有权
简体标题：流体控制器的异常检测设备、异常检测系统、异常检测方法及流体控制器
公开(公告)号：TWI687658B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW107104994
申请日：2018-02-12
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：原田章弘 , HARADA, AKIHIRO , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 川田幸司 , KAWADA, KOJI , 杉田勝幸 , SUGITA, KATSUYUKI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 篠原努 , SHINOHARA, TSUTOMU , 丹野竜太郎 , TANNO, RYUTARO , 河内勇人 , KAWAUCHI, YUTO
IPC分类号： G01F15/02 , G05D16/20

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