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    • 7. 发明专利
    • 硼酸鹽系鹼產生劑及含有該鹼產生劑的鹼反應性組成物
    • 硼酸盐系碱产生剂及含有该碱产生剂的碱反应性组成物
    • TW201538512A
    • 2015-10-16
    • TW104102269
    • 2015-01-23
    • 和光純藥工業股份有限公司WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 酒井信彦SAKAI, NOBUHIKO簗場康佑YANABA, KOSUKE
    • C07F5/02C09K3/00C08K5/55G03F7/029
    • C07F9/22C07C229/26C07C279/02C07C279/04C07C279/16C07C279/18C07C279/26C07C2601/14C07D233/50C07D487/04C07F5/027C07F9/065C07F9/5337C07F9/5721C07F9/6584C07F9/65848G03F7/0045
    • 本發明之課題是提供一種化合物、包含該等化合物的鹼產生劑以及含有該鹼產生劑與鹼反應性化合物之鹼反應性組成物,該化合物係在與環氧系化合物等的鹼反應性化合物混合的狀態長期間保存時,也不會與該鹼反應性化合物反應,可成為保存安定性高的組成物,並且,可由光(活性能量射線)的照射或加熱而產生強鹼(胍類、雙胍類、膦氮烯類或鏻類)的化合物。 本發明係關於通式(A)所示之化合物,包含該化合物的鹼產生劑,以及其特徵係含有該鹼產生劑及鹼反應性化合物的鹼反應性組成物等。 (式中,R1表示烷基;可經鹵原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳炔基;烯基;2-呋喃基乙炔基;2-硫苯基乙炔基;或2,6-二噻環己基(2,6-dithianyl),R2至R4各自獨 立地表示烷基;可經鹵原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳炔基;可經鹵原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳基;呋喃基;噻吩基;或N-烷基取代吡咯基,Z+表示具有胍鎓基、雙胍鎓基或膦氮烯鎓基的銨陽離子,或鏻陽離子。)
    • 本发明之课题是提供一种化合物、包含该等化合物的碱产生剂以及含有该碱产生剂与碱反应性化合物之碱反应性组成物,该化合物系在与环氧系化合物等的碱反应性化合物混合的状态长期间保存时,也不会与该碱反应性化合物反应,可成为保存安定性高的组成物,并且,可由光(活性能量射线)的照射或加热而产生强碱(胍类、双胍类、膦氮烯类或鏻类)的化合物。 本发明系关于通式(A)所示之化合物,包含该化合物的碱产生剂,以及其特征系含有该碱产生剂及碱反应性化合物的碱反应性组成物等。 (式中,R1表示烷基;可经卤原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳炔基;烯基;2-呋喃基乙炔基;2-硫苯基乙炔基;或2,6-二噻环己基(2,6-dithianyl),R2至R4各自独 立地表示烷基;可经卤原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳炔基;可经卤原子、烷基、烷氧基、或烷硫基取代的芳基;呋喃基;噻吩基;或N-烷基取代吡咯基,Z+表示具有胍鎓基、双胍鎓基或膦氮烯鎓基的铵阳离子,或鏻阳离子。)