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1. 发明专利

TW201920910A 用於測量光之裝置、系統及方法审中-公开
简体标题：用于测量光之设备、系统及方法
公开(公告)号：TW201920910A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107130776
申请日：2018-09-03
申请人：韓商韓國大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS KOREA CO., LTD.
发明人：金大亨 , KIM, DAI HYUNG , 鄭致雲 , JEONG, CHI WOON , 羅先欽 , NA, SEON HEUM
IPC分类号： G01J1/28 , H04N17/02
摘要：本發明係關於一種用於測量自檢測體接收之光之裝置、系統及方法。在測量自檢測體放出之光而獲得三激值等之經修正之影像的先前之複合系統中，由於利用分束器等光分歧機構，故有測量機之光感度降低、結果導致測量速度變慢之問題點。因而，本發明為了解決上述課題，而設為可使自檢測體發出且入射至光測量裝置之光不經由將光分歧為複數個並使其等指向互不相同之方向之光分歧機構而入射至第1測量機及第2測量機。且，為此本發明之特徵在於以下述之方式配置第1測量機與第2測量機，即：至第1測量機之第1光之光路徑中自共通測量區域內之一地點延長的第1光路徑區間、與至第2測量機之第2光之光路徑中自上述一地點延長的第2光路徑區間不相互重疊，而在大於0ﾟ小於180ﾟ之範圍內形成角。
简体摘要：本发明系关于一种用于测量自检测体接收之光之设备、系统及方法。在测量自检测体放出之光而获得三激值等之经修正之影像的先前之复合系统中，由于利用分束器等光分歧机构，故有测量机之光感度降低、结果导致测量速度变慢之问题点。因而，本发明为了解决上述课题，而设为可使自检测体发出且入射至光测量设备之光不经由将光分歧为复数个并使其等指向互不相同之方向之光分歧机构而入射至第1测量机及第2测量机。且，为此本发明之特征在于以下述之方式配置第1测量机与第2测量机，即：至第1测量机之第1光之光路径中自共通测量区域内之一地点延长的第1光路径区间、与至第2测量机之第2光之光路径中自上述一地点延长的第2光路径区间不相互重叠，而在大于0ﾟ小于180ﾟ之范围内形成角。

2. 外观设计

TWD195232S 試料分析機之部分有权
简体标题：试料分析机之部分
公开(公告)号：TWD195232S
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW107301723
申请日：2018-03-27
申请人：日商大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
设计人：長沢広也 , NAGASAWA, HIROYA , 若山育央 , WAKAYAMA, IKUO , 亀川和義 , KAMEKAWA, KAZUYOSHI

3. 发明专利

TW201830005A 光學特性測定裝置及光學特性測定方法审中-公开
简体标题：光学特性测定设备及光学特性测定方法
公开(公告)号：TW201830005A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106140651
申请日：2017-11-23
申请人：日商大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：岡本宗大 , OKAMOTO, SOTA , 佐佐木勇貴 , SASAKI, YUKI , 羅先欽 , NA, SEON HEUM
IPC分类号： G01N21/27 , G01M11/00 , G01B11/06
摘要：本發明的課題，是依據來自樣本的光可容易進行樣本之光學特性的測定。　　本發明的光學特性測量裝置(1、1A)，是具備：光學系(12)、檢出部(13)、以及解析部(14)。光學系，係將從樣本(2)入射的偵測光予以聚光。偵測部，係在樣本與光學系之間的光學距離為相互不同的狀態下，複數次將經由光學系所入射之樣本的偵測光進行分光，產生表示各個偵測光之光譜的複數的偵測資料(D1)。解析部，係解析偵測資料所表示的光譜，並測定樣本之預定的光學特性。解析部，係依據在複數的偵測資料中之偵測光的大小，特定出使用在光學特性之測定上的偵測資料，依據已特定出的偵測資料，來測定光學特性(S6、S6A)。
简体摘要：本发明的课题，是依据来自样本的光可容易进行样本之光学特性的测定。　　本发明的光学特性测量设备(1、1A)，是具备：光学系(12)、检出部(13)、以及解析部(14)。光学系，系将从样本(2)入射的侦测光予以聚光。侦测部，系在样本与光学系之间的光学距离为相互不同的状态下，复数次将经由光学系所入射之样本的侦测光进行分光，产生表示各个侦测光之光谱的复数的侦测数据(D1)。解析部，系解析侦测数据所表示的光谱，并测定样本之预定的光学特性。解析部，系依据在复数的侦测数据中之侦测光的大小，特定出使用在光学特性之测定上的侦测数据，依据已特定出的侦测数据，来测定光学特性(S6、S6A)。

4. 发明专利

TWI610064B 配光特性量測裝置以及配光特性量測方法有权
简体标题：配光特性量测设备以及配光特性量测方法
公开(公告)号：TWI610064B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW102129419
申请日：2013-08-16
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：江南世志 , ENAMI, YOSHI
IPC分类号： G01J1/04 , G01J1/42
CPC分类号： G01J1/4257 , G01J1/0242 , G01J2001/4247

5. 发明专利

TWI603053B 膜厚測定方法及膜厚測定裝置有权
简体标题：膜厚测定方法及膜厚测定设备
公开(公告)号：TWI603053B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW102128473
申请日：2013-08-08
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：田口都一 , TAGUCHI, KUNIKAZU , 岡本宗大 , OKAMOTO, SOUTA
IPC分类号： G01B11/06

6. 发明专利

TW201734430A 預傾角的測定裝置和預傾角的測定方法审中-公开
简体标题：预倾角的测定设备和预倾角的测定方法
公开(公告)号：TW201734430A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105142200
申请日：2016-12-20
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：杉田一紘 , SUGITA, KAZUHIRO , 稻野大輔 , INANO, DAISUKE , 今坂真子 , IMASAKA, MACHIKO
IPC分类号： G01N21/21 , G02F1/13
摘要：本發明提供能抑制誤差的預傾角測定裝置及預傾角測定方法。預傾角測定裝置（1）包括：透射測定投光部（2），其向液晶基板（LC）的測定位置（M）照射偏振的測定光；透射測定受光部（3），其接收測定光的透射光，獲取透射光的偏振狀態；傾斜測定投光部（41），其向液晶基板（LC）的測定位置（M）照射傾斜檢測用光（L1）；傾斜測定受光部（43），其接收傾斜檢測用光（L1）的反射光（L2），獲取反射光（L2）的受光位置；以及控制部（10），其根據反射光（L2）的受光位置，算出液晶基板（LC）的測定位置（M）的傾角，根據測定光的照射角度、液晶基板（LC）的測定位置（M）的傾角和透射光的偏振狀態，算出液晶基板（LC）中所含的液晶分子的預傾角。
简体摘要：本发明提供能抑制误差的预倾角测定设备及预倾角测定方法。预倾角测定设备（1）包括：透射测定投光部（2），其向液晶基板（LC）的测定位置（M）照射偏振的测定光；透射测定受光部（3），其接收测定光的透射光，获取透射光的偏振状态；倾斜测定投光部（41），其向液晶基板（LC）的测定位置（M）照射倾斜检测用光（L1）；倾斜测定受光部（43），其接收倾斜检测用光（L1）的反射光（L2），获取反射光（L2）的受光位置；以及控制部（10），其根据反射光（L2）的受光位置，算出液晶基板（LC）的测定位置（M）的倾角，根据测定光的照射角度、液晶基板（LC）的测定位置（M）的倾角和透射光的偏振状态，算出液晶基板（LC）中所含的液晶分子的预倾角。

7. 发明专利

TWI560430B 光學量測系統、光學量測方法及光學量測系統的鏡板有权
简体标题：光学量测系统、光学量测方法及光学量测系统的镜板
公开(公告)号：TWI560430B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW101137603
申请日：2012-10-12
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD. , 藍菲光學股份有限公司 , LABSPHERE, INC.
发明人：大久保和明 , OHKUBO, KAZUAKI , 麥基格雷格 , MCKEE, GREG
IPC分类号： G01J1/02 , G01J1/00
CPC分类号： G01J1/0407 , F21V7/10 , G01J1/0295 , G01J1/42 , G01J2001/0481 , G01J2001/4247

8. 发明专利

TWI443311B 光學特性檢測裝置有权
简体标题：光学特性检测设备
公开(公告)号：TWI443311B
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW097141751
申请日：2008-10-30
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：永嶌拓 , TAKU NAGASHIMA , 水口勉 , TSUTOMU MIZUGUCHI , 大嶋浩正 , KOSEI OSHIMA
IPC分类号： G01J1/02

9. 发明专利

TW201421001A 分光特性量測裝置以及分光特性量測方法审中-公开
简体标题：分光特性量测设备以及分光特性量测方法
公开(公告)号：TW201421001A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102130408
申请日：2013-08-26
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：佐野弘幸 , SANO, HIROYUKI , 入江優 , IRIE, SUGURU , 水口勉 , MIZUGUCHI, TSUTOMU
IPC分类号： G01J3/28
CPC分类号： G01J3/28 , G01J3/18 , G01J2003/2869
摘要：分光特性量測裝置係包含：分光器，係因應於波長使所射入之光在空間上分散；及檢測部(25)，係用以對藉該分光器所分散的光進行受光。檢測部(25)係包含：第1波長範圍之成分所射入的第1檢測區域(25a)；及比第1波長範圍更長波長側之第2波長範圍之成分所射入的第2檢測區域(25b)。分光特性量測裝置係包含修正因量測對象之光而在檢測部所產生之雜散光的修正部。修正部(100)係根據關於雜散光圖案之在第1波長範圍之波長的第1變化量、與關於檢測部之在第1檢測區域所檢測出的結果所含之波長的第2變化量，修正雜散光圖案，藉此，算出因量測對象之光所產生的雜散光成分。
简体摘要：分光特性量测设备系包含：分光器，系因应于波长使所射入之光在空间上分散；及检测部(25)，系用以对藉该分光器所分散的光进行受光。检测部(25)系包含：第1波长范围之成分所射入的第1检测区域(25a)；及比第1波长范围更长波长侧之第2波长范围之成分所射入的第2检测区域(25b)。分光特性量测设备系包含修正因量测对象之光而在检测部所产生之杂散光的修正部。修正部(100)系根据关于杂散光图案之在第1波长范围之波长的第1变化量、与关于检测部之在第1检测区域所检测出的结果所含之波长的第2变化量，修正杂散光图案，借此，算出因量测对象之光所产生的杂散光成分。

10. 发明专利

TW201418674A 光學測量裝置审中-公开
简体标题：光学测量设备
公开(公告)号：TW201418674A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102123930
申请日：2013-07-04
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：大久保和明 , OHKUBO, KAZUAKI , 白岩久志 , SHIRAIWA, HISASHI
IPC分类号： G01J1/00
CPC分类号： G01J1/06 , G01J1/0223 , G01J1/0403 , G01J1/0488 , G01J1/4257 , G01J2001/4247
摘要：光學測量裝置(1)係包含：中空之圓筒狀構件(2)，係在一方之平面具有第1開口(10)，而且在另一方之平面具有第2開口(18)；轉動機構(52、54)，係用以沿著是圓筒狀構件之中心軸的第1軸使圓筒狀構件轉動；支撐部(20、22)，係用以在係第1軸上，而且係所照射之光通過第1開口並射入圓筒狀構件之內部的位置的量測位置，配置光源(30)；第1反射部(12)，係配置於圓筒狀構件之內部，並使從光源經由第1開口所射入的光反射；第2反射部(14)，係使圓筒狀構件之內部的光反射，並使該光經由第2開口，沿著第1軸向圓筒狀構件之外部傳播；及至少一個之第3反射部(16)，係用以使以第1反射部所反射的光向第2反射部射入。
简体摘要：光学测量设备(1)系包含：中空之圆筒状构件(2)，系在一方之平面具有第1开口(10)，而且在另一方之平面具有第2开口(18)；转动机构(52、54)，系用以沿着是圆筒状构件之中心轴的第1轴使圆筒状构件转动；支撑部(20、22)，系用以在系第1轴上，而且系所照射之光通过第1开口并射入圆筒状构件之内部的位置的量测位置，配置光源(30)；第1反射部(12)，系配置于圆筒状构件之内部，并使从光源经由第1开口所射入的光反射；第2反射部(14)，系使圆筒状构件之内部的光反射，并使该光经由第2开口，沿着第1轴向圆筒状构件之外部传播；及至少一个之第3反射部(16)，系用以使以第1反射部所反射的光向第2反射部射入。

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