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1. 发明专利

TWI603053B 膜厚測定方法及膜厚測定裝置有权
简体标题：膜厚测定方法及膜厚测定设备
公开(公告)号：TWI603053B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW102128473
申请日：2013-08-08
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：田口都一 , TAGUCHI, KUNIKAZU , 岡本宗大 , OKAMOTO, SOUTA
IPC分类号： G01B11/06

2. 发明专利

TWI495854B 光學測定裝置、光學測定系統以及光纖結合器有权
简体标题：光学测定设备、光学测定系统以及光纤结合器
公开(公告)号：TWI495854B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW100106164
申请日：2011-02-24
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：大久保和明 , OHKUBO, KAZUAKI , 田口都一 , TAGUCHI, KUNIKAZU
IPC分类号： G01J3/02 , G01J3/28 , G01N21/25 , G01N21/27
CPC分类号： G01N21/55 , G01J3/02 , G01J3/0218 , G01J3/0251 , G01J3/0254 , G01J3/0262 , G01J3/10 , G01N21/255 , G01N21/59 , G01N2201/0655

3. 发明专利

TW201414983A 膜厚測定方法及膜厚測定裝置审中-公开
简体标题：膜厚测定方法及膜厚测定设备
公开(公告)号：TW201414983A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102128473
申请日：2013-08-08
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：田口都一 , TAGUCHI, KUNIKAZU , 岡本宗大 , OKAMOTO, SOUTA
IPC分类号： G01B11/06
摘要：本發明關於一種膜厚測量方法，用以測量試料中各測定對象膜的厚度，試料包括基準膜以及多個測定對象膜，測定對象膜形成於基準膜的一側和另一側。基準膜在第一波長範圍及第二波長範圍的透射率有差異，其中第一波長範圍的透射率係比第二波長範圍的透射率還低。此方法係測定通過試料之光於第一波長範圍及第二波長範圍的反射光譜，並根據第一波長範圍的反射光譜，計算基準膜一側之各測定對象膜的厚度。再根據形成於基準膜一側之各測定對象膜的厚度與第二波長範圍的反射光譜，計算形成於基準膜另一側之各測定對象膜的厚度。
简体摘要：本发明关于一种膜厚测量方法，用以测量试料中各测定对象膜的厚度，试料包括基准膜以及多个测定对象膜，测定对象膜形成于基准膜的一侧和另一侧。基准膜在第一波长范围及第二波长范围的透射率有差异，其中第一波长范围的透射率系比第二波长范围的透射率还低。此方法系测定通过试料之光于第一波长范围及第二波长范围的反射光谱，并根据第一波长范围的反射光谱，计算基准膜一侧之各测定对象膜的厚度。再根据形成于基准膜一侧之各测定对象膜的厚度与第二波长范围的反射光谱，计算形成于基准膜另一侧之各测定对象膜的厚度。

4. 发明专利

TWI452257B 狀態量測裝置及狀態量測方法有权
简体标题：状态量测设备及状态量测方法
公开(公告)号：TWI452257B
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：TW098111945
申请日：2009-04-10
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：田口都一 , TAGUCHI, KUNIKAZU , 大川內真 , OKAWAUCHI, MAKOTO
IPC分类号： G01B11/06 , G01B9/02 , G01J9/02

5. 发明专利

TW201903388A 光學測定裝置及光學測定方法审中-公开
简体标题：光学测定设备及光学测定方法
公开(公告)号：TW201903388A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107119159
申请日：2018-06-04
申请人：日商大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：井上展幸 , INOUE, NOBUYUKI , 田口都一 , TAGUCHI, KUNIKAZU
IPC分类号： G01N21/41 , G01M11/00
摘要：光學測定裝置，包括照射光學系統，對於測量對象直線狀照射具有既定波長範圍的測量光；以及測量光學系統，接收利用測量光的照射從測量對象產生的透過光或反射光的直線狀測量干擾光；以及處理裝置。測量光學系統，包括繞射格子，將測量干擾光往與上述測量干擾光的長邊方向直交的方向波長展開；以及攝影部，接收以繞射格子波長展開的測量干擾光，輸出2次元影像。處理裝置，包含第1算出手段，連結至對應照射測量光的測量對象的各測定點之2次元影像上的區域，算出對應從各測量點往測量光學系統的入射角的補正要素；以及第2算出手段，對2次元影像內包含的各畫素值，應用對應的補正要素之後，算出測量對象的光學特性。
简体摘要：光学测定设备，包括照射光学系统，对于测量对象直线状照射具有既定波长范围的测量光；以及测量光学系统，接收利用测量光的照射从测量对象产生的透过光或反射光的直线状测量干扰光；以及处理设备。测量光学系统，包括绕射格子，将测量干扰光往与上述测量干扰光的长边方向直交的方向波长展开；以及摄影部，接收以绕射格子波长展开的测量干扰光，输出2次元影像。处理设备，包含第1算出手段，链接至对应照射测量光的测量对象的各测定点之2次元影像上的区域，算出对应从各测量点往测量光学系统的入射角的补正要素；以及第2算出手段，对2次元影像内包含的各像素值，应用对应的补正要素之后，算出测量对象的光学特性。

6. 发明专利

TWI526679B 分光特性檢測方法有权
简体标题：分光特性检测方法
公开(公告)号：TWI526679B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW101104843
申请日：2012-02-15
申请人：大塚電子股份有限公司 , OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD.
发明人：佐野弘幸 , SANO, HIROYUKI , 田口都一 , TAGUCHI, KUNIKAZU
IPC分类号： G01J3/28
CPC分类号： G01J3/0291 , G01J3/0218 , G01J3/0232 , G01J3/0262 , G01J3/027 , G01J3/18 , G01J3/2803

7. 发明专利

TW201003035A 狀態量測裝置及狀態量測方法审中-公开
简体标题：状态量测设备及状态量测方法
公开(公告)号：TW201003035A
公开(公告)日：2010-01-16
申请号：TW098111945
申请日：2009-04-10
申请人：大塚電子股份有限公司
发明人：田口都一 , 大川內真
IPC分类号： G01B , G01J
摘要：為了使吸光度產生週期性地變動的干涉相位角的影響減低至零，極力減低s偏光成份，將以p偏光成份為主體的光以既定的入射角照射被測定物（OBJ）。入射角為包含在膜（24）與基板（22）的介面，以及在膜（24）與真空的介面，p偏光成份的振幅反射率分別為最小值的入射角的既定範圍內的值。
简体摘要：为了使吸光度产生周期性地变动的干涉相位角的影响减低至零，极力减低s偏光成份，将以p偏光成份为主体的光以既定的入射角照射被测定物（OBJ）。入射角为包含在膜（24）与基板（22）的界面，以及在膜（24）与真空的界面，p偏光成份的振幅反射率分别为最小值的入射角的既定范围内的值。

8. 发明专利

TW201245676A 分光特性檢測方法及分光特性檢測裝置 SPECTRAL CHARACTERISTIC MEASUREMENT METHOD AND SPECTRAL CHARACTERISTIC MEASUREMENT APPARATUS 审中-公开
简体标题：分光特性检测方法及分光特性检测设备 SPECTRAL CHARACTERISTIC MEASUREMENT METHOD AND SPECTRAL CHARACTERISTIC MEASUREMENT APPARATUS
公开(公告)号：TW201245676A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW101104843
申请日：2012-02-15
申请人：大塚電子股份有限公司
发明人：佐野弘幸 , 田口都一
IPC分类号： G01J
CPC分类号： G01J3/0291 , G01J3/0218 , G01J3/0232 , G01J3/0262 , G01J3/027 , G01J3/18 , G01J3/2803
摘要：提供以更高精度檢測被檢測光的分光特性之分光特性檢測方法。分光特性檢測方法，包括入射光步驟，對第1波長範圍內具有檢出感度之分光檢測器，入射其波長範圍為第1波長範圍一部分的第2波長範圍之光；取得特性資訊步驟，分光檢測器檢測的第1光譜中，從對應第2波長範圍以外的範圍之部分，取得顯示迷光成分的特性資訊；以及取得圖案步驟，第1波長範圍中到第2波長範圍為止外插處理特性資訊，取得顯示分光檢測器中產生的迷光成分之圖案。
简体摘要：提供以更高精度检测被检测光的分光特性之分光特性检测方法。分光特性检测方法，包括入射光步骤，对第1波长范围内具有检出感度之分光检测器，入射其波长范围为第1波长范围一部分的第2波长范围之光；取得特性信息步骤，分光检测器检测的第1光谱中，从对应第2波长范围以外的范围之部分，取得显示迷光成分的特性信息；以及取得图案步骤，第1波长范围中到第2波长范围为止外插处理特性信息，取得显示分光检测器中产生的迷光成分之图案。

9. 发明专利

TW201213779A 光學測定裝置、光學測定系統以及光纖結合器 OPTICAL MEASUREMENT APPARATUS, OPTICAL MEASUREMENT SYSTEM, AND FIBER COUPLER 审中-公开
简体标题：光学测定设备、光学测定系统以及光纤结合器 OPTICAL MEASUREMENT APPARATUS, OPTICAL MEASUREMENT SYSTEM, AND FIBER COUPLER
公开(公告)号：TW201213779A
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW100106164
申请日：2011-02-24
申请人：大塚電子股份有限公司
发明人：大久保和明 , 田口都一
IPC分类号： G01J , G01N
CPC分类号： G01N21/55 , G01J3/02 , G01J3/0218 , G01J3/0251 , G01J3/0254 , G01J3/0262 , G01J3/10 , G01N21/255 , G01N21/59 , G01N2201/0655
摘要：光學測定裝置係包含：分光測定器(50)；第1光纖(20)，用以傳送測定對象的光；半球部(1)，在內壁具有光擴散反射層(1a)；及平面部(2)，以閉塞半球部的開口部的方式予以配置且在半球部的內壁側具有鏡面反射層(2a)。平面部係包含用以將通過第1光纖所射出的光導至藉由半球部與平面部所形成的積分空間內的第1窗(5)。光學測定裝置係另外包含第2光纖(30)，其用以將積分空間內的光通過平面部的第2窗(6)而傳送至分光測定器。
简体摘要：光学测定设备系包含：分光测定器(50)；第1光纤(20)，用以发送测定对象的光；半球部(1)，在内壁具有光扩散反射层(1a)；及平面部(2)，以闭塞半球部的开口部的方式予以配置且在半球部的内壁侧具有镜面反射层(2a)。平面部系包含用以将通过第1光纤所射出的光导至借由半球部与平面部所形成的积分空间内的第1窗(5)。光学测定设备系另外包含第2光纤(30)，其用以将积分空间内的光通过平面部的第2窗(6)而发送至分光测定器。

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