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41. 发明专利

TWI401465B 鏡片鍍膜治具及鏡片鍍膜方法失效
简体标题：镜片镀膜治具及镜片镀膜方法
公开(公告)号：TWI401465B
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：TW096138132
申请日：2007-10-12
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：凌維成 , LING, WEI CHENG
IPC分类号： G02B1/10 , B05D5/00 , B05C13/00

43. 实用新型

TWM581009U 基板噴塗設備有权
简体标题：基板喷涂设备
公开(公告)号：TWM581009U
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW108202509
申请日：2019-02-27
申请人：群翊工業股份有限公司
发明人：陳安順
IPC分类号： B05C9/04 , B05C13/00 , B05B13/02 , B05D1/02 , B05D7/04 , H05K3/28 , H05K10/00

44. 实用新型

TWM571770U 自動塗佈設備之移載機構有权
简体标题：自动涂布设备之移载机构
公开(公告)号：TWM571770U
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW107208029
申请日：2018-06-14
申请人：蘇俊秀
发明人：蘇俊秀
IPC分类号： B05C13/00

45. 实用新型

TWM566115U 螺帽塗膠機之定位載盤有权
简体标题：螺帽涂胶机之定位载盘
公开(公告)号：TWM566115U
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW107206841
申请日：2018-05-24
申请人：豪塗扣科技有限公司
发明人：林銀德
IPC分类号： B05C13/00

46. 实用新型

TWM558126U 自動點膠治具及其加工設備有权
简体标题：自动点胶治具及其加工设备
公开(公告)号：TWM558126U
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：TW106219464
申请日：2017-12-29
申请人：茂林光電科技股份有限公司 , GLOBAL LIGHTING TECHNOLOGIES INC.
发明人：林孝良 , LIN, HSIAO LIANG , 卓文彥 , CHO, WEN YEN , 卓怡宏 , CHUO, YI HUNG , 黃翊瑋 , HUANG, I WEI , 詹德瑋 , ZHAN, DE WEI
IPC分类号： B05C9/08 , B05C13/00

47. 发明专利

TW201801802A 用於在磊晶反應器中處理半導體晶圓的裝置及用於生產具有磊晶層的半導體晶圓的方法审中-公开
简体标题：用于在磊晶反应器中处理半导体晶圆的设备及用于生产具有磊晶层的半导体晶圆的方法
公开(公告)号：TW201801802A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106122737
申请日：2017-07-06
申请人：世創電子材料公司 , SILTRONIC AG
发明人：摩斯派翠克 , MOOS, PATRICK , 賀卻特哈納斯 , HECHT, HANNES
IPC分类号： B05C13/00 , H01L21/20
CPC分类号： H01L21/68742 , C30B25/12 , H01L21/68785 , H01L21/68792
摘要：一種用於在磊晶反應器中處理半導體晶圓的裝置及一種用於生產具有磊晶層的半導體晶圓的方法。該裝置包括：一基座；延伸穿過該基座的縱向孔；一晶圓提升軸；晶圓提升銷，該等晶圓提升銷被引導通過該等縱向孔；一基座承載軸；基座承載臂；基座支撐銷；引導套筒，該等引導套筒被錨固在該等基座承載臂中；以及引導元件，該等引導元件從該引導套筒突出，且在上端處具有插入該等晶圓提升銷的擴孔，以及該等引導元件可經由該晶圓提升軸而與該等晶圓提升銷一起被升高及降低。
简体摘要：一种用于在磊晶反应器中处理半导体晶圆的设备及一种用于生产具有磊晶层的半导体晶圆的方法。该设备包括：一基座；延伸穿过该基座的纵向孔；一晶圆提升轴；晶圆提升销，该等晶圆提升销被引导通过该等纵向孔；一基座承载轴；基座承载臂；基座支撑销；引导套筒，该等引导套筒被锚固在该等基座承载臂中；以及引导组件，该等引导组件从该引导套筒突出，且在上端处具有插入该等晶圆提升销的扩孔，以及该等引导组件可经由该晶圆提升轴而与该等晶圆提升销一起被升高及降低。

48. 发明专利

TW201720737A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201720737A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105122451
申请日：2016-07-15
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：池田文彥 , IKEDA, FUMIHIKO
IPC分类号： B65G49/06 , H01L21/677 , B65G49/07 , B05D3/00 , B05C13/00
摘要：本發明於一面自使基板上浮之上浮載台搬送基板一面對搬送中之基板實施處理之基板處理裝置中，藉由使基板之排列處理及基板向上浮載台之移載處理適切化而縮短基板處理裝置之工作時間。本發明之基板處理裝置具備：上浮載台，其使基板上浮；搬送機構，其自上浮載台接收基板並搬送；處理機構，其對由搬送機構搬送之基板實施處理；及移載機構，其將基板移載至上浮載台；且移載機構具備：接納上浮部，其使搬送而來之基板上浮並予以接納；排列部，其使藉由接納上浮部而上浮之基板排列；保持部，其保持藉由排列部而排列之基板；及驅動部，其使保持部移動至上浮載台。
简体摘要：本发明于一面自使基板上浮之上浮载台搬送基板一面对搬送中之基板实施处理之基板处理设备中，借由使基板之排列处理及基板向上浮载台之移载处理适切化而缩短基板处理设备之工作时间。本发明之基板处理设备具备：上浮载台，其使基板上浮；搬送机构，其自上浮载台接收基板并搬送；处理机构，其对由搬送机构搬送之基板实施处理；及移载机构，其将基板移载至上浮载台；且移载机构具备：接纳上浮部，其使搬送而来之基板上浮并予以接纳；排列部，其使借由接纳上浮部而上浮之基板排列；保持部，其保持借由排列部而排列之基板；及驱动部，其使保持部移动至上浮载台。

49. 发明专利

TW201622833A 作業裝置审中-公开
简体标题：作业设备
公开(公告)号：TW201622833A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW105102056
申请日：2010-08-31
申请人：武藏工業股份有限公司 , MUSASHI ENGINEERING, INC.
发明人：生島和正 , IKUSHIMA, KAZUMASA
IPC分类号： B05C13/00 , B23Q7/16
CPC分类号： B23Q7/00 , B23P19/00 , B23Q7/14
摘要：本發明提供一種作業裝置，係可作為具有工件搬送機構的全自動型作業用裝置使用，亦可作為依手動進行工件裝卸的半自動型裝置(桌上型機器人)使用，而可有彈性地因應生產量。本發明的作業裝置，係具備有配設有用以搬送工件之搬送單元之台架；與可裝卸自如地配設於台架之桌上型作業裝置單元的全自動型作業裝置者；其特徵在於：該桌上型作業裝置單元係具備有：用以保持工件的工件保持部、作業頭、以及使工件保持部與作業頭進行相對移動之相對移動機構；且，可單獨地對由工件保持部所保持的工件進行預定作業，以及工件保持部係具有：與搬送單元連接的搬送位置、及離開搬送單元並對工件施行所需作業的作業位置。
简体摘要：本发明提供一种作业设备，系可作为具有工件搬送机构的全自动型作业用设备使用，亦可作为依手动进行工件装卸的半自动型设备(桌面型机器人)使用，而可有弹性地因应生产量。本发明的作业设备，系具备有配设有用以搬送工件之搬送单元之台架；与可装卸自如地配设于台架之桌面型作业设备单元的全自动型作业设备者；其特征在于：该桌面型作业设备单元系具备有：用以保持工件的工件保持部、作业头、以及使工件保持部与作业头进行相对移动之相对移动机构；且，可单独地对由工件保持部所保持的工件进行预定作业，以及工件保持部系具有：与搬送单元连接的搬送位置、及离开搬送单元并对工件施行所需作业的作业位置。

50. 发明专利

TW201541131A 顯示裝置及其加工機台审中-公开
简体标题：显示设备及其加工机台
公开(公告)号：TW201541131A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW103114666
申请日：2014-04-23
申请人：群創光電股份有限公司 , INNOLUX CORPORATION
发明人：潘泰吉 , PAN, TAI CHI , 陳麗鈴 , CHEN, LI LING , 陳柏村 , CHEN, BO TSUEN
IPC分类号： G02B6/00 , G02B1/10 , G02F1/13357 , B05C13/00
CPC分类号： G02B6/0036 , G02B6/0016 , G02B6/0065
摘要：一種顯示裝置及其加工機台。顯示裝置包括一背光模組以及一顯示面板。背光模組包括一導光元件及至少一粗糙結構。導光元件具有一出光面以及至少一側面，出光面與側面係相鄰且共用一側邊。粗糙結構形成於側面上，粗糙結構具有一表面粗糙度係為0.01~10微米。顯示面板對應於出光面設置。
简体摘要：一种显示设备及其加工机台。显示设备包括一背光模块以及一显示皮肤。背光模块包括一导光组件及至少一粗糙结构。导光组件具有一出光面以及至少一侧面，出光面与侧面系相邻且共享一侧边。粗糙结构形成于侧面上，粗糙结构具有一表面粗糙度系为0.01~10微米。显示皮肤对应于出光面设置。

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