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    • 2. 发明专利
    • 導光板之對位校正應用方法及導光板之對位校正系統
    • 导光板之对位校正应用方法及导光板之对位校正系统
    • TW202026683A
    • 2020-07-16
    • TW108100598
    • 2019-01-07
    • 茂林光學股份有限公司GLT OPTICAL INC.
    • 邱信融CHIU, SHEN-JUNG
    • G02B6/00B81C1/00
    • 本發明提供一種導光板之對位校正應用方法及對位校正系統,以搬移並堆疊複數導光板使其形成一導光板加工組,並移動導光板加工組至一承載平台進行拋光加工,於拋光加工完成後,檢測導光板加工組取得為(,)之一堆疊偏移向量,其中,位於最頂側與位於最底側之導光板,兩片導光板位置間的偏移量為(△d1,△d2),導光板加工組之總片數為N。而後將堆疊偏移向量回授至一校正平台,讓後續之導光板放置在一放置載板前,位移馬達即依據糾偏信號與堆疊偏移向量驅動放置載板位移與旋轉,以承接導光板並堆疊形成新一批之導光板加工組。藉此,續以堆疊之導光板加工組透過再次校正而可提升堆疊位置精準度。
    • 本发明提供一种导光板之对位校正应用方法及对位校正系统,以搬移并堆栈复数导光板使其形成一导光板加工组,并移动导光板加工组至一承载平台进行抛光加工,于抛光加工完成后,检测导光板加工组取得为(,)之一堆栈偏移矢量,其中,位于最顶侧与位于最底侧之导光板,两片导光板位置间的偏移量为(△d1,△d2),导光板加工组之总片数为N。而后将堆栈偏移矢量回授至一校正平台,让后续之导光板放置在一放置载板前,位移马达即依据纠偏信号与堆栈偏移矢量驱动放置载板位移与旋转,以承接导光板并堆栈形成新一批之导光板加工组。借此,续以堆栈之导光板加工组透过再次校正而可提升堆栈位置精准度。
    • 5. 发明专利
    • 使用各向異性光學膜之導光積層體,及使用該導光積層體的顯示裝置用面狀照明裝置
    • 使用各向异性光学膜之导光积层体,及使用该导光积层体的显示设备用面状照明设备
    • TW202021797A
    • 2020-06-16
    • TW108129649
    • 2019-08-20
    • 日商巴川製紙所股份有限公司TOMOEGAWA CO., LTD.
    • 加藤昌央KATO, MASAO杉山仁英SUGIYAMA, MASAHIDE
    • B32B7/023G02B5/02G02B6/00F21S2/00F21V8/00
    • 本發明之課題為提供一種導光積層體、及使用該導光積層體的顯示裝置用面狀照明裝置,該導光積層體具有以下特性:周圍環境較暗時,使用光源係具有與導光板單獨時相同的射出特性(擴散性),周圍環境明亮時,即使不使用光源時亦充分明亮(辨識性高)。本發明之解決手段為一種導光積層體,係包含導光板、及至少1個各向異性光學膜,前述導光板係具有供光射入前述導光板內部之射入面、及供從前述射入面射入的光在前述導光板內反射及折射後射出之射出面,前述各向異性光學膜為直線穿透率會按照光射入前述各向異性光學膜的角度而改變的膜,前述直線穿透率為所射入之光之直線方向的穿透光量/射入光之光量,前述各向異性光學膜係直接或隔著其他層而積層於前述射出面,前述各向異性光學膜係包含基質區域、及含有複數個構造體之構造區域,在來自前述射出面的光之射出強度變得最大之方向中所射出之光在射入前述各向異性光學膜時,前述各向異性光學膜之直線穿透率超過30%。
    • 本发明之课题为提供一种导光积层体、及使用该导光积层体的显示设备用面状照明设备,该导光积层体具有以下特性:周围环境较暗时,使用光源系具有与导光板单独时相同的射出特性(扩散性),周围环境明亮时,即使不使用光源时亦充分明亮(辨识性高)。本发明之解决手段为一种导光积层体,系包含导光板、及至少1个各向异性光学膜,前述导光板系具有供光射入前述导光板内部之射入面、及供从前述射入面射入的光在前述导光板内反射及折射后射出之射出面,前述各向异性光学膜为直线穿透率会按照光射入前述各向异性光学膜的角度而改变的膜,前述直线穿透率为所射入之光之直线方向的穿透光量/射入光之光量,前述各向异性光学膜系直接或隔着其他层而积层于前述射出面,前述各向异性光学膜系包含基质区域、及含有复数个构造体之构造区域,在来自前述射出面的光之射出强度变得最大之方向中所射出之光在射入前述各向异性光学膜时,前述各向异性光学膜之直线穿透率超过30%。