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41. 发明专利

TWI516746B 在干涉編碼系統中執行非諧循環錯誤補償的方法、裝置及計算機程式產品，以及微影系統有权
简体标题：在干涉编码系统中运行非谐循环错误补偿的方法、设备及计算机进程产品，以及微影系统
公开(公告)号：TWI516746B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW101141248
申请日：2012-11-07
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：德馬雷斯特法蘭克C , DEMAREST, FRANK C.
IPC分类号： G01D5/244 , G01D5/38
CPC分类号： G01B11/14 , G01B9/02059 , G01D5/38 , G03B27/58 , G03F7/70775 , G03F9/7049 , G03F9/7092 , H01L21/681

43. 发明专利

TWI463277B 測定裝置及方法、圖案形成裝置、曝光裝置及方法、以及元件製造方法有权
简体标题：测定设备及方法、图案形成设备、曝光设备及方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI463277B
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW096106384
申请日：2007-02-26
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：柴崎祐一 , SHIBAZAKI, YUICHI
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G01D5/38 , G03F7/70191 , G03F7/70341 , G03F7/70666 , G03F7/70775 , G03F9/7026

44. 发明专利

TWI463116B 編碼器有权
简体标题：编码器
公开(公告)号：TWI463116B
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW098145222
申请日：2009-12-28
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：牧野內進 , MAKINOUCHI, SUSUMU , 渡邊昭宏 , WATANABE, AKIHIRO , 今井亨 , IMAI, TORU
IPC分类号： G01D5/38
CPC分类号： G01D5/38 , G01D5/34746

45. 发明专利

TW201428430A 位置量測系統、用於位置量測系統之光柵及方法审中-公开
简体标题：位置量测系统、用于位置量测系统之光栅及方法
公开(公告)号：TW201428430A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102141322
申请日：2013-11-13
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：柯恩威廉赫曼捷度達安納 , KOENEN, WILLEM HERMAN GERTRUDA ANNA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7076 , G01D5/347 , G01D5/34776 , G01D5/38 , G02B5/1861 , G03F7/70133 , G03F7/70775 , G03F9/7049 , G03F9/7088
摘要：一種用於一位置量測系統之光柵，該光柵包括在一第一方向上之一第一光柵線陣列及在一第二方向上之一第二光柵線陣列。該第一陣列及該第二陣列將入射於該第一陣列及該第二陣列上之一量測光束繞射成在該第一方向上之至少一第一繞射光束及在該第二方向上之至少一第二繞射光束。該至少一第一繞射光束係用於在該第一方向上之位置量測，且該至少一第二繞射光束係用於在該第二方向上之位置量測。該量測光束具有一功率量，且該光柵經組態以使該功率量遍及該至少一第一繞射光束及該至少一第二繞射光束不均勻地分佈。
简体摘要：一种用于一位置量测系统之光栅，该光栅包括在一第一方向上之一第一光栅线数组及在一第二方向上之一第二光栅线数组。该第一数组及该第二数组将入射于该第一数组及该第二数组上之一量测光束绕射成在该第一方向上之至少一第一绕射光束及在该第二方向上之至少一第二绕射光束。该至少一第一绕射光束系用于在该第一方向上之位置量测，且该至少一第二绕射光束系用于在该第二方向上之位置量测。该量测光束具有一功率量，且该光栅经组态以使该功率量遍及该至少一第一绕射光束及该至少一第二绕射光束不均匀地分布。

46. 发明专利

TWI444592B 在干涉編碼器系統中之循環式錯誤補償之方法、裝置，以及電腦程式產品有权
简体标题：在干涉编码器系统中之循环式错误补偿之方法、设备，以及电脑进程产品
公开(公告)号：TWI444592B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW100145898
申请日：2011-12-13
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：德馬雷斯特法蘭克C , DEMAREST, FRANK C.
IPC分类号： G01B9/02
CPC分类号： G01D5/24476 , G01D5/38 , G03F7/70775

47. 发明专利

TW201416803A 平台系統及包含此平台系統的微影裝置审中-公开
简体标题：平台系统及包含此平台系统的微影设备
公开(公告)号：TW201416803A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW102133245
申请日：2013-09-13
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：畢瑞恩斯洛德安東尼斯凱薩琳娜瑪利亞 , BEERENS, RUUD ANTONIUS CATHARINA MARIA , 瑞登羅布喬漢希鐸 , RUTTEN, ROB JOHAN THEODOOR , 威斯特雷肯禎史蒂芬克里斯丁 , WESTERLAKEN, JAN STEVEN CHRISTIAAN , 薩爾柯恩賈可布喬哈奈馬瑞亞 , ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA , 凡黎紗李查亨利克斯雅卓安尼斯 , VAN LIESHOUT, RICHARD HENRICUS ADRIANUS , 凡德派希英格伯特斯安東尼斯法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G01D5/34 , G01D5/38 , G03F7/70775 , G03F7/70933
摘要：一種平台系統，其包括：一可移動平台；及一編碼器，其用於量測該平台之一位置，其中該編碼器包括用於發射一編碼器光束之一發射器、用於與該編碼器光束相互作用之一光柵，及用於偵測已與該光柵相互作用之該編碼器光束之一偵測器，該編碼器光束在使用時沿著一光學路徑傳播；一淨洗罩蓋，其至少部分地圍封該光學路徑；及一淨洗介質供應器件，其用於將一淨洗介質供應至該淨洗罩蓋中。
简体摘要：一种平台系统，其包括：一可移动平台；及一编码器，其用于量测该平台之一位置，其中该编码器包括用于发射一编码器光束之一发射器、用于与该编码器光束相互作用之一光栅，及用于侦测已与该光栅相互作用之该编码器光束之一侦测器，该编码器光束在使用时沿着一光学路径传播；一净洗罩盖，其至少部分地围封该光学路径；及一净洗介质供应器件，其用于将一净洗介质供应至该净洗罩盖中。

48. 发明专利

TWI425318B 移動體裝置、曝光裝置和曝光方法以及元件製造方法有权
简体标题：移动体设备、曝光设备和曝光方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI425318B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW096120954
申请日：2007-06-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：牧野內進 , MAKINOUCHI, SUSUMU , 今井亨 , IMAI, TORU , 渡邉昭宏 , WATANABE, AKIHIRO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G01D5/38 , G01D5/266 , G03F7/70716 , G03F7/70775

49. 发明专利

TWI390184B 位移量測系統及其方法有权
简体标题：位移量测系统及其方法
公开(公告)号：TWI390184B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW098115384
申请日：2009-05-08
申请人：國立交通大學 , NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY
发明人：徐桂珠 , HSU, KUEI CHU , 陳啟昌 , CHEN, CHII CHANG , 詹佳樺 , CHAN, CHIA HUA , 賴暎杰 , LAI, YIN CHIEH
IPC分类号： G01D5/38
CPC分类号： G01B11/002 , G01D5/38

50. 发明专利

TW201142244A 位移量測方法及位移量測裝置审中-公开
简体标题：位移量测方法及位移量测设备
公开(公告)号：TW201142244A
公开(公告)日：2011-12-01
申请号：TW099133905
申请日：2010-10-05
申请人：太陽誘電股份有限公司
发明人：池田正人 , 小山勝弘
IPC分类号： G01B , B62M
CPC分类号： B62M6/50 , G01D5/38
摘要：本發明之目的係提供一種位移量測方法及位移量測裝置，其可進行不受光學元件之傾斜精度之影響、構成簡單且可小型化、受繞射光柵之面方向之位置偏移之影響亦較小、且可調整光學解析度之位移量測。藉由準直透鏡14使來自雷射光源12之雷射光13成為平行光15，藉由第1繞射光柵16使該平行光15分成直進光與繞射光而行進，且穿過與第1繞射光柵16對向之可動側之第2繞射光柵18。然後，以光感測器20接收包括藉由第2繞射光柵18而繞射之繞射光在內之沿著藉由第1繞射光柵16所產生之特定次數之繞射光之光軸的繞射光，並進行光量檢測，自與第2繞射光柵18之移動量對應之干涉條紋或其信號來測定上述平行光之光軸方向之位移。藉此，本發明之位移量測不受光學元件之傾斜精度之影響，構成簡單且可小型化，亦不易受位置偏移之影響，且可調整光學解析度。
简体摘要：本发明之目的系提供一种位移量测方法及位移量测设备，其可进行不受光学组件之倾斜精度之影响、构成简单且可小型化、受绕射光栅之面方向之位置偏移之影响亦较小、且可调整光学分辨率之位移量测。借由准直透镜14使来自激光光源12之激光光13成为平行光15，借由第1绕射光栅16使该平行光15分成直进光与绕射光而行进，且穿过与第1绕射光栅16对向之可动侧之第2绕射光栅18。然后，以光传感器20接收包括借由第2绕射光栅18而绕射之绕射光在内之沿着借由第1绕射光栅16所产生之特定次数之绕射光之光轴的绕射光，并进行光量检测，自与第2绕射光栅18之移动量对应之干涉条纹或其信号来测定上述平行光之光轴方向之位移。借此，本发明之位移量测不受光学组件之倾斜精度之影响，构成简单且可小型化，亦不易受位置偏移之影响，且可调整光学分辨率。

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