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1. 发明专利

TWI571617B 編碼器、位置量測系統及微影裝置有权
简体标题：编码器、位置量测系统及微影设备
公开(公告)号：TWI571617B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW104137078
申请日：2015-11-10
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：皮爾瓦特歐諾 , PRIL, WOUTER ONNO , 巴特曼珍彼德 , BAARTMAN, JAN PETER , 庫伊科歐拉德艾可 , KOOIKER, ALLARD EELCO , 寇熹俊斯蘇珊娜裘漢娜安東內塔吉兒圖塔 , COSIJNS, SUZANNE JOHANNA ANTONETTA GEER , 通明布萊恩 , TONG-MINH, BRYAN
IPC分类号： G01D5/38 , G03F7/20
CPC分类号： G01D5/38 , G01B9/02 , G01B11/02 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70933

2. 发明专利

TWI476538B 定位測量系統及微影裝置有权
简体标题：定位测量系统及微影设备
公开(公告)号：TWI476538B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：TW097141665
申请日：2008-10-29
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：漢斯巴特 , BUTLER, HANS , 英格伯特斯安東尼斯法蘭西斯寇斯凡德派希 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G01D5/38 , G03F9/7015 , G03F9/7049 , G03F9/7084 , G03F9/7088

3. 发明专利

TWI476376B 雙程干涉式編碼器系統有权
简体标题：双程干涉式编码器系统
公开(公告)号：TWI476376B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：TW101141505
申请日：2012-11-08
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人： D E 古魯特彼德 , DE GROOT, PETER , 利森諾珍 , LIESENER, JAN
IPC分类号： G01D5/38 , G01B9/02
CPC分类号： G01D5/266 , G01D5/38 , G03F7/70775

4. 发明专利

TWI417680B 微影裝置及元件製造方法有权
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI417680B
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW099137507
申请日：2010-11-01
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：凡得帕司奇英及爾柏圖司安東尼司法蘭西斯卡司 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS , 優森伊莫爾喬依夫梅蘭妮 , EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE , 陸普斯特愛瑞克羅伊洛夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70775 , G01D5/38

5. 发明专利

TW201040504A 位移量測系統及其方法 DISPLACEMENT MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：位移量测系统及其方法 DISPLACEMENT MEASUREMENT SYSTEM AND METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201040504A
公开(公告)日：2010-11-16
申请号：TW098115384
申请日：2009-05-08
申请人：國立交通大學
发明人：徐桂珠 , 陳啟昌 , 詹佳樺 , 賴暎杰
IPC分类号： G01D
CPC分类号： G01B11/002 , G01D5/38
摘要：一種位移量測系統，包括一同調光源、一二維光柵、一光感測器及一訊號處理裝置。當同調光入射至二維光柵後，產生一零階光束及多個一階繞射光束。零階光束與其中的兩個一階繞射光束在光感測器上形成不同方向的干涉條紋。因此，當二維光柵移動時，位移量測系統藉由計算不同方向的干涉條紋之相位差，而獲得二維光柵於對應方向上的位移量。此外，當二維光柵旋轉時，位移量測系統藉由一階繞射光束之繞射圖形的旋轉角度，而獲得二維光柵的旋轉量。
简体摘要：一种位移量测系统，包括一同调光源、一二维光栅、一光传感器及一信号处理设备。当同调光入射至二维光栅后，产生一零阶光束及多个一阶绕射光束。零阶光束与其中的两个一阶绕射光束在光传感器上形成不同方向的干涉条纹。因此，当二维光栅移动时，位移量测系统借由计算不同方向的干涉条纹之相位差，而获得二维光栅于对应方向上的位移量。此外，当二维光栅旋转时，位移量测系统借由一阶绕射光束之绕射图形的旋转角度，而获得二维光栅的旋转量。

6. 发明专利

TW201018883A 編碼器审中-公开
简体标题：编码器
公开(公告)号：TW201018883A
公开(公告)日：2010-05-16
申请号：TW098135703
申请日：2009-10-22
申请人：尼康股份有限公司
发明人：牧野內進 , 渡邊昭宏
IPC分类号： G01D
CPC分类号： G01D5/38 , G01D5/34746
摘要：編碼器，從光源部(11)射出調變光，使從該調變光分離之第1光(L1)及第2光(L2)在移動光柵(14)干涉。編碼器中，從光源部(11)射出之光被電氣調變，第1光L1之光路長與第2光L2之光路長相異。
简体摘要：编码器，从光源部(11)射出调制光，使从该调制光分离之第1光(L1)及第2光(L2)在移动光栅(14)干涉。编码器中，从光源部(11)射出之光被电气调制，第1光L1之光路长与第2光L2之光路长相异。

7. 发明专利

TW534977B 在光學位置偵測器中獲致相位移之光柵失配失效
简体标题：在光学位置侦测器中获致相位移之光栅失配
公开(公告)号：TW534977B
公开(公告)日：2003-06-01
申请号：TW090111065
申请日：2001-05-09
申请人：北美億恒科技公司
发明人：史帝芬法恩渥斯 , 柯克庫克
IPC分类号： G01B , G02B
CPC分类号： G01D5/38
摘要：一光學位置偵測器，含有一個發光二極體光源、二個偵測器，以及一個與一參考光柵頻率為頻率失配之繞射光柵。依據一用於反射性系統之實施例，光源及二個偵測器係安裝在單一載體(body)上，單一繞射光柵則置於光源及偵測器之上。而因係以單一光柵用於全部三元件，故無緊密控制源光柵與每一偵測器光柵間的位置及相位差之必要。所選取的單一光柵空間頻率，是那種異於參考光柵頻率，而仍產生具最大化振幅且帶有所需之相位移者。對於本發明之系統，以往需緊密容差之兩道調正不再是必要的。另外，對覆蓋兩偵測器之光柵，本來在其間導入一離散的相位步階(discrete phase step)，此一製造特徵也是不必要的。在一第二實施例中，對於一透射性系統，有一光源帶有一源光柵安裝在一載體上，還有二個偵測器安裝在另一載體上；其間置有參考光柵。一單一光柵施用於該二偵測器之上，而僅有偵測器光柵與參考光柵失配。
简体摘要：一光学位置侦测器，含有一个发光二极管光源、二个侦测器，以及一个与一参考光栅频率为频率失配之绕射光栅。依据一用于反射性系统之实施例，光源及二个侦测器系安装在单一载体(body)上，单一绕射光栅则置于光源及侦测器之上。而因系以单一光栅用于全部三组件，故无紧密控制源光栅与每一侦测器光栅间的位置及相位差之必要。所选取的单一光栅空间频率，是那种异于参考光栅频率，而仍产生具最大化振幅且带有所需之相位移者。对于本发明之系统，以往需紧密容差之两道调正不再是必要的。另外，对覆盖两侦测器之光栅，本来在其间导入一离散的相位步阶(discrete phase step)，此一制造特征也是不必要的。在一第二实施例中，对于一透射性系统，有一光源带有一源光栅安装在一载体上，还有二个侦测器安装在另一载体上；其间置有参考光栅。一单一光栅施用于该二侦测器之上，而仅有侦测器光栅与参考光栅失配。

8. 发明专利

TW201632839A 編碼器、位置量測系統及微影裝置审中-公开
简体标题：编码器、位置量测系统及微影设备
公开(公告)号：TW201632839A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104137078
申请日：2015-11-10
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：皮爾瓦特歐諾 , PRIL, WOUTER ONNO , 巴特曼珍彼德 , BAARTMAN, JAN PETER , 庫伊科歐拉德艾可 , KOOIKER, ALLARD EELCO , 寇熹俊斯蘇珊娜裘漢娜安東內塔吉兒圖塔 , COSIJNS, SUZANNE JOHANNA ANTONETTA GEER , 通明布萊恩 , TONG-MINH, BRYAN
IPC分类号： G01D5/38 , G03F7/20
CPC分类号： G01D5/38 , G01B9/02 , G01B11/02 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70933
摘要：一種編碼器包含一光學組件以及具有一第一表面部分及一第二表面部分之一圍封器件。第一表面部分經配置以自周圍環境接收第一輻射光束。第二表面部分經配置以自周圍環境接收第二輻射光束。光學組件經配置以組合第一輻射光束與第二輻射光束。圍封器件經配置以沿著第一路徑來傳播第一輻射光束。第一路徑係在第一表面部分與光學組件之間。圍封器件經配置以沿著第二路徑來傳播第二輻射光束。第二路徑係在第二表面部分與光學組件之間。圍封器件經配置以圍封一空間，以便將第一路徑及第二路徑與周圍環境隔離。
简体摘要：一种编码器包含一光学组件以及具有一第一表面部分及一第二表面部分之一围封器件。第一表面部分经配置以自周围环境接收第一辐射光束。第二表面部分经配置以自周围环境接收第二辐射光束。光学组件经配置以组合第一辐射光束与第二辐射光束。围封器件经配置以沿着第一路径来传播第一辐射光束。第一路径系在第一表面部分与光学组件之间。围封器件经配置以沿着第二路径来传播第二辐射光束。第二路径系在第二表面部分与光学组件之间。围封器件经配置以围封一空间，以便将第一路径及第二路径与周围环境隔离。

9. 发明专利

TW201627636A 干涉編碼器系統审中-公开
简体标题：干涉编码器系统
公开(公告)号：TW201627636A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104133473
申请日：2015-10-13
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：利森諾珍 , LIESENER, JAN
IPC分类号： G01D5/347 , G01D5/26
CPC分类号： G01D5/38 , G01D5/266
摘要：一種編碼器干涉術系統包含一編碼器光學尺，其配置成接收一量測光束且使該量測光束繞射。該系統尚包含一個或更多光學元件，其佈設且配置成自該編碼器光學尺接收一第一繞射量測光束及一第二繞射量測光束，且使該第一繞射量測光束及該第二繞射量測光束改向朝該編碼器光學尺，使得該第一繞射量測光束及該第二繞射量測光束在於該編碼器光學尺處之一第二繞射後，沿具有一角分離α之非平行光束路徑傳播。該系統尚包含配置成接收該第一繞射量測光束之一第一偵測器，及配置成接收該第二繞射量測光束之一第二偵測器。
简体摘要：一种编码器干涉术系统包含一编码器光学尺，其配置成接收一量测光束且使该量测光束绕射。该系统尚包含一个或更多光学组件，其布设且配置成自该编码器光学尺接收一第一绕射量测光束及一第二绕射量测光束，且使该第一绕射量测光束及该第二绕射量测光束改向朝该编码器光学尺，使得该第一绕射量测光束及该第二绕射量测光束在于该编码器光学尺处之一第二绕射后，沿具有一角分离α之非平行光束路径传播。该系统尚包含配置成接收该第一绕射量测光束之一第一侦测器，及配置成接收该第二绕射量测光束之一第二侦测器。

10. 发明专利

TWI493151B 位置偵測裝置有权
简体标题：位置侦测设备
公开(公告)号：TWI493151B
公开(公告)日：2015-07-21
申请号：TW100120705
申请日：2011-06-14
申请人：德馬吉森精機股份有限公司 , DMG MORI SEIKI CO., LTD.
发明人：黑田明博 , KURODA, AKIHIRO
IPC分类号： G01B11/00 , G01D5/38
CPC分类号： G01D5/38 , G01D5/34746

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