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1. 发明专利

TWI622084B 移動體驅動方法及移動體驅動系統、圖案形成方法及裝置、曝光方法及裝置、元件製造方法、以及校正方法有权
简体标题：移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及设备、曝光方法及设备、组件制造方法、以及校正方法
公开(公告)号：TWI622084B
公开(公告)日：2018-04-21
申请号：TW106117477
申请日：2007-09-03
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：柴崎祐一 , SHIBAZAKI, YUICHI
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70775 , G01B21/042 , G03F7/70341 , G03F7/70483 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70975 , G03F9/70 , G03F9/7046 , G03F9/7049 , H01L21/68 , H01L21/681 , Y10T29/49002

2. 发明专利

TW201812986A 微影裝置及支撐結構审中-公开
简体标题：微影设备及支撑结构
公开(公告)号：TW201812986A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106129243
申请日：2017-08-29
申请人：荷蘭商ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：賈治安德魯 , JUDGE, ANDREW
IPC分类号： H01L21/683 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70991 , G03F7/70716 , G03F7/709 , G03F7/70916 , H01L21/68785
摘要：一種微影裝置，其可包括：一固定框架，其具有一第一電導體；及一支撐結構，其經組態以支撐一物件。該支撐結構以可移動方式耦接至該框架且具有一第二電導體。該微影裝置亦可包括一導電流體，該導電流體將該第一電導體電耦接至該第二電導體。
简体摘要：一种微影设备，其可包括：一固定框架，其具有一第一电导体；及一支撑结构，其经组态以支撑一对象。该支撑结构以可移动方式耦接至该框架且具有一第二电导体。该微影设备亦可包括一导电流体，该导电流体将该第一电导体电耦接至该第二电导体。

3. 发明专利

TW201812430A 浸沒曝光設備、浸沒曝光方法和元件製造方法审中-公开
简体标题：浸没曝光设备、浸没曝光方法和组件制造方法
公开(公告)号：TW201812430A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW107100503
申请日：2004-04-09
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：比納德麥克比斯克 , BINNARD, MICHAEL BISK
IPC分类号： G03B27/32 , G03B27/42 , G03B27/58 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/52 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733
摘要：一種在浸沒式微影機(10)中之工件(208)的交換期間、將浸沒流體(212)維持於鄰近投影透鏡(16)之間隙中的裝置和方法係被揭示。該裝置和方法係包含一個被構型以將一影像投射在一工件(208)上的光學組件(16)，以及一個包含一工件桌台(204)的平台組件(202)，該工件桌台(204)係被構型以支承工件(208)為鄰近於光學組件(16)。一個環境系統(26)係被提供以將一浸沒流體(212)提供至以及移離一個介於光學組件(16)與平台組件(202)上之工件(208)間的間隙處。在工件(208)的曝光完成之時，一個交換系統(216)係將工件(208)移離並更換以一第二工件。一浸沒流體容納系統(214)係被提供以於第一工件(208)之移除以及第二工件之更換期間將浸沒流體(212)維持於間隙中。
简体摘要：一种在浸没式微影机(10)中之工件(208)的交换期间、将浸没流体(212)维持于邻近投影透镜(16)之间隙中的设备和方法系被揭示。该设备和方法系包含一个被构型以将一影像投射在一工件(208)上的光学组件(16)，以及一个包含一工件桌台(204)的平台组件(202)，该工件桌台(204)系被构型以支承工件(208)为邻近于光学组件(16)。一个环境系统(26)系被提供以将一浸没流体(212)提供至以及移离一个介于光学组件(16)与平台组件(202)上之工件(208)间的间隙处。在工件(208)的曝光完成之时，一个交换系统(216)系将工件(208)移离并更换以一第二工件。一浸没流体容纳系统(214)系被提供以于第一工件(208)之移除以及第二工件之更换期间将浸没流体(212)维持于间隙中。

4. 发明专利

TW201810499A 固持裝置、運送裝置、微影設備及物品的製造方法审中-公开
简体标题：固持设备、运送设备、微影设备及物品的制造方法
公开(公告)号：TW201810499A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106117678
申请日：2017-05-26
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：田中英雄 , TANAKA, HIDEO
IPC分类号： H01L21/677 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/7075
摘要：一種用來固持一基材的固持裝置包括一基座，其包括一進氣孔及一和該進氣孔相聯通的排氣流路、一移動件，其可藉由和一基材接觸而移動於一重力方向上、以及一判定單元，其被建構來根據一排氣單元所排放之排氣流路的壓力改變來判定一移動件是否固持一基材。
简体摘要：一种用来固持一基材的固持设备包括一基座，其包括一进气孔及一和该进气孔相联通的排气流路、一移动件，其可借由和一基材接触而移动于一重力方向上、以及一判定单元，其被建构来根据一排气单元所排放之排气流路的压力改变来判定一移动件是否固持一基材。

5. 发明专利

TW201802620A 曝光裝置、平面顯示器之製造方法、及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、平面显示器之制造方法、及组件制造方法
公开(公告)号：TW201802620A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106132437
申请日：2013-04-03
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：青木保夫 , AOKI, YASUO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G02F1/1333
摘要：本發明之基板載台裝置(PST)，於重量抵消裝置(50)所具有之臂部(54)前端固定有與X樑(25)所具有之X固定子(82)對向、對重量抵消裝置(50)產生磁吸力之X可動子(56)。重量抵消裝置(50)，藉由該磁吸力將本身重量及重量抵消裝置(50)所支承之微動載台(30)等重量之一部分透過基架(14)傳至地面(11)上。從而減輕加於防振裝置(34)之偏載重。
简体摘要：本发明之基板载台设备(PST)，于重量抵消设备(50)所具有之臂部(54)前端固定有与X梁(25)所具有之X固定子(82)对向、对重量抵消设备(50)产生磁吸力之X可动子(56)。重量抵消设备(50)，借由该磁吸力将本身重量及重量抵消设备(50)所支承之微动载台(30)等重量之一部分透过基架(14)传至地面(11)上。从而减轻加于防振设备(34)之偏载重。

6. 发明专利

TWI610148B 曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法有权
简体标题：曝光设备、曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI610148B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106106920
申请日：2008-07-17
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：荒井大 , ARAI, DAI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002

7. 发明专利

TW201800875A 微影裝置审中-公开
简体标题：微影设备
公开(公告)号：TW201800875A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106117086
申请日：2017-05-24
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：巴特勒漢司 , BUTLER, HANS , 凡德派希英格伯特斯安東尼斯法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS , 迪威特保羅寇尼亨利 , DE WIT, PAUL CORNE HENRI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/44
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F7/70808
摘要：本發明提供一種微影裝置，其包含一基板台、一投影系統、一編碼器系統、一量測框架及一量測系統。該基板台具有用於固持一基板之一固持表面。該投影系統係用於將一影像投影於該基板上。該編碼器系統係用於提供表示該基板台之一位置之一信號。該量測系統係用於量測該微影裝置之一性質。該固持表面係沿著一平面。該投影系統處於該平面之一第一側處。該量測框架經配置以支撐在不同於該第一側的該平面之一第二側處的該編碼器系統之至少部分及該量測系統之至少部分。
简体摘要：本发明提供一种微影设备，其包含一基板台、一投影系统、一编码器系统、一量测框架及一量测系统。该基板台具有用于固持一基板之一固持表面。该投影系统系用于将一影像投影于该基板上。该编码器系统系用于提供表示该基板台之一位置之一信号。该量测系统系用于量测该微影设备之一性质。该固持表面系沿着一平面。该投影系统处于该平面之一第一侧处。该量测框架经配置以支撑在不同于该第一侧的该平面之一第二侧处的该编码器系统之至少部分及该量测系统之至少部分。

8. 发明专利

TWI607292B 曝光裝置、曝光方法、元件製造方法有权
简体标题：曝光设备、曝光方法、组件制造方法
公开(公告)号：TWI607292B
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW105104740
申请日：2004-06-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：大和壯一 , OWA, SOICHI , 馬込伸貴 , MAGOME, NOBUTAKA , 蛭川茂 , HIRUKAWA, SHIGERU , 工藤芳彦 , KUDO, YOSHIHIKO , 井上次郎 , INOUE, JIRO , 河野博高 , KOHNO, HIROTAKA , 根井正洋 , NEI, MASAHIRO , 今井基勝 , IMAI, MOTOKATSU , 長坂博之 , NAGASAKA, HIROYUKI , 白石健一 , SHIRAISHI, KENICHI , 西井康文 , NISHII, YASUFUMI , 高岩宏明 , TAKAIWA, HIROAKI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/58 , G03F7/2041 , G03F7/707 , G03F7/70716

9. 发明专利

TW201738666A 曝光裝置、移動體裝置、平板顯示器之製造方法、及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、移动体设备、平板显示器之制造方法、及组件制造方法
公开(公告)号：TW201738666A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW106125099
申请日：2011-09-06
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：青木保夫 , AOKI, YASUO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70775 , F16C29/008 , F16C39/04 , F16C39/06 , G03F7/70716 , G03F7/70816 , G03F7/709 , H02K7/09 , H02K16/00 , H02K41/031 , H02K2201/18
摘要：於基板載台(PST)，在Y粗動載台(23Y)移動於Y軸方向時，X粗動載台(23X)、重量消除裝置(40)及X導件(102)與Y粗動載台(23Y)一體移動於Y軸方向，在X粗動載台(23X)於Y粗動載台(23Y)上移動於X軸方向時，重量消除裝置(40)在X導件(102)上與X粗動載台(23X)一體移動於X軸方向。由於X導件(102)係涵蓋重量消除裝置(40)於X軸方向之移動範圍延設於X軸方向，因此重量消除裝置(40)不受其位置限制，恆被X導件(102)支承。
简体摘要：于基板载台(PST)，在Y粗动载台(23Y)移动于Y轴方向时，X粗动载台(23X)、重量消除设备(40)及X导件(102)与Y粗动载台(23Y)一体移动于Y轴方向，在X粗动载台(23X)于Y粗动载台(23Y)上移动于X轴方向时，重量消除设备(40)在X导件(102)上与X粗动载台(23X)一体移动于X轴方向。由于X导件(102)系涵盖重量消除设备(40)于X轴方向之移动范围延设于X轴方向，因此重量消除设备(40)不受其位置限制，恒被X导件(102)支承。

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