专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI619148B 曝光裝置、元件製造方法有权
简体标题：曝光设备、组件制造方法
公开(公告)号：TWI619148B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW105128062
申请日：2004-06-11
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：大和壯一 , OWA, SOICHI , 馬込伸貴 , MAGOME, NOBUTAKA , 蛭川茂 , HIRUKAWA, SHIGERU , 工藤芳彦 , KUDO, YOSHIHIKO , 井上次郎 , INOUE, JIRO , 河野博高 , KOHNO, HIROTAKA , 根井正洋 , NEI, MASAHIRO , 今井基勝 , IMAI, MOTOKATSU , 長坂博之 , NAGASAKA, HIROYUKI , 白石健一 , SHIRAISHI, KENICHI , 西井康文 , NISHII, YASUFUMI , 高岩宏明 , TAKAIWA, HIROAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/58 , G03F7/2041 , G03F7/707 , G03F7/70716

2. 发明专利

TWI368932B 曝光裝置及方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD 有权
简体标题：曝光设备及方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD
公开(公告)号：TWI368932B
公开(公告)日：2012-07-21
申请号：TW094107607
申请日：2005-03-11
申请人：三星電子股份有限公司
发明人：卓英美
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/70191 , G03B27/50 , G03B27/58
摘要：本發明揭示一種曝光裝置，其包括：一產生光之光學系統；一光罩；一光吸收部件及一基板托板。該光罩包括：一安置在該光之路徑上的光罩體；一形成於該光罩體之一第一區域中之第一光透射圖案；及一形成於該光罩體之一第二區域中之第二光透射圖案。該光罩係沿一第一方向輸送。該光吸收部件係安置於該光學系統與該光罩之間，且具有一形成於該光吸收部件之一側表面上的防漫反射零件。該基板托板支撐一具有一光阻層的基板，該光阻層係形成於該基板上。將該基板托板與該光罩一同沿著該第一方向輸送，藉此防止漫反射。
简体摘要：本发明揭示一种曝光设备，其包括：一产生光之光学系统；一光罩；一光吸收部件及一基板托板。该光罩包括：一安置在该光之路径上的光罩体；一形成于该光罩体之一第一区域中之第一光透射图案；及一形成于该光罩体之一第二区域中之第二光透射图案。该光罩系沿一第一方向输送。该光吸收部件系安置于该光学系统与该光罩之间，且具有一形成于该光吸收部件之一侧表面上的防漫反射零件。该基板托板支撑一具有一光阻层的基板，该光阻层系形成于该基板上。将该基板托板与该光罩一同沿着该第一方向输送，借此防止漫反射。

3. 发明专利

TW200944955A 曝光裝置及裝置製造方法 EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：曝光设备及设备制造方法 EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200944955A
公开(公告)日：2009-11-01
申请号：TW098103416
申请日：2009-02-03
申请人：佳能股份有限公司
发明人：吉田正福 , 原浩通
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/58 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要：一種曝光裝置，包含一建構成將一原片的圖樣投射到一基質上的構件，一建構可支撐該構件的構架，一建構成可支撐該構架的支撐件、一設於該構架及支撐件之間、且建構成可支撐該構架的氣彈簧，及一止動件，容納於該氣彈簧的一內部空間內，以防止該構架在超過一容許水平下相對於該支撐件移動。
简体摘要：一种曝光设备，包含一建构成将一原片的图样投射到一基质上的构件，一建构可支撑该构件的构架，一建构成可支撑该构架的支撑件、一设于该构架及支撑件之间、且建构成可支撑该构架的气弹簧，及一止动件，容纳于该气弹簧的一内部空间内，以防止该构架在超过一容许水平下相对于该支撑件移动。

4. 发明专利

TW200903188A 移動體側向力之測量與映射的系統及其方法 SYSTEM AND METHOD FOR MEASURING AND MAPPING A SIDEFORCE FOR A MOVER 审中-公开
简体标题：移动体侧向力之测量与映射的系统及其方法 SYSTEM AND METHOD FOR MEASURING AND MAPPING A SIDEFORCE FOR A MOVER
公开(公告)号：TW200903188A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097117901
申请日：2008-05-15
申请人：尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION
发明人：捷利貞馬克 GERY, JEAN-MARC , 賓拿德邁可B BINNARD, MICHAEL B.
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03B27/58
摘要：一種沿第一軸線移動載物臺(238)之移動體(344)包括磁性部件(354)、導體部件(356)及感測器(366)。磁性部件(354)包括一個或多個被磁場包圍的磁鐵(354D)。導體部件(356)鄰近於磁性部件(354)而定位。此外,當電流導引至導體部件(356)時,導體部件(356)與磁性部件(354)相互作用以產生作用力。感測器(366)用於在移動體(344)之操作期間測定磁性部件(354)的磁通量之第一軸向分量。此外,感測器(366)用於測定沿垂直於第一軸線之第二軸線之側向力(365),此側向力藉由移動體(344)所產生。利用此設計,可控制移動體(344)或其他部件以補償側向力(370)。
简体摘要：一种沿第一轴线移动载物台(238)之移动体(344)包括磁性部件(354)、导体部件(356)及传感器(366)。磁性部件(354)包括一个或多个被磁场包围的磁铁(354D)。导体部件(356)邻近于磁性部件(354)而定位。此外,当电流导引至导体部件(356)时,导体部件(356)与磁性部件(354)相互作用以产生作用力。传感器(366)用于在移动体(344)之操作期间测定磁性部件(354)的磁通量之第一轴向分量。此外,传感器(366)用于测定沿垂直于第一轴线之第二轴线之侧向力(365),此侧向力借由移动体(344)所产生。利用此设计,可控制移动体(344)或其他部件以补偿侧向力(370)。

5. 发明专利

TW200842507A 移動設備 MOVING APPARATUS 审中-公开
简体标题：移动设备 MOVING APPARATUS
公开(公告)号：TW200842507A
公开(公告)日：2008-11-01
申请号：TW096148459
申请日：2007-12-18
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人： 山義久 HIYAMA, YOSHIHISA , 平田吉洋 HIRATA, YOSHIHIRO
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03B27/58
摘要：一種移動設備包含:一可動體,可沿至少一方向移動;一電磁鐵,配置來驅動一可動體,並包含一線圈;一電磁鐵控制系統,配置來根據輸入電磁鐵控制系統之命令値,進行電磁鐵之反饋控制;以及一推力校正單元,配置來計算對應於電磁鐵之推力誤差之校正係數,並藉由命令値乘以校正係數或校正係數與命令値相加,校正命令値。
简体摘要：一种移动设备包含:一可动体,可沿至少一方向移动;一电磁铁,配置来驱动一可动体,并包含一线圈;一电磁铁控制系统,配置来根据输入电磁铁控制系统之命令値,进行电磁铁之反馈控制;以及一推力校正单元,配置来计算对应于电磁铁之推力误差之校正系数,并借由命令値乘以校正系数或校正系数与命令値相加,校正命令値。

6. 发明专利

TWI298816B 在奈米級製造時改變基材尺寸的裝置、系統及方法 APPARATUS, SYSTEM AND METHOD TO VARY DIMENSIONS OF A SUBSTRATE DURING NANO-SCALE MANUFACTURING 有权
简体标题：在奈米级制造时改变基材尺寸的设备、系统及方法 APPARATUS, SYSTEM AND METHOD TO VARY DIMENSIONS OF A SUBSTRATE DURING NANO-SCALE MANUFACTURING
公开(公告)号：TWI298816B
公开(公告)日：2008-07-11
申请号：TW094118140
申请日：2005-06-02
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：查拉安蘇曼 CHERALA, ANSHUMAN , 崔炳鎮 CHOI, BYUNG-JIN , 尼瑪卡耶拉包溫K. NIMMAKAYALA PAWAN KUMAR , 麥斯爾瑪莉歐J. MEISSL, MARIO J. , 史瑞尼瓦森思蓋塔V. SREENIVASAN, SIDLGATA V.
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/58
摘要：本發明係有關於改變基材,諸如具有一圖案化模具的一模板,之尺寸的裝置、系統及方法。
简体摘要：本发明系有关于改变基材,诸如具有一图案化模具的一模板,之尺寸的设备、系统及方法。

7. 发明专利

TW200809425A 工作台設備 STAGE APPARATUS 审中-公开
简体标题：工作台设备 STAGE APPARATUS
公开(公告)号：TW200809425A
公开(公告)日：2008-02-16
申请号：TW096117415
申请日：2007-05-16
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大石伸司 OHISHI, SHINJI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： H02K41/03 , G03B27/58 , G03F7/70716 , G03F7/70758
摘要：至少一示範具體實施例係針對一工作台設備,該工作台設備包含一工作台,其可於第一方向中運動;一線性馬達,其組構成在該第一方向中驅動該工作台;一磁鐵單元,其具有設置在該工作台上之第一磁鐵及設置在該工作台的一衝程之兩端的第二磁鐵,使得該第一及第二磁鐵之相同磁極彼此相面對;及一支撐構件,其支撐該等第二磁鐵。該支撐構件被可運動地支撐在該第一方向中。
简体摘要：至少一示范具体实施例系针对一工作台设备,该工作台设备包含一工作台,其可于第一方向中运动;一线性马达,其组构成在该第一方向中驱动该工作台;一磁铁单元,其具有设置在该工作台上之第一磁铁及设置在该工作台的一冲程之两端的第二磁铁,使得该第一及第二磁铁之相同磁极彼此相面对;及一支撑构件,其支撑该等第二磁铁。该支撑构件被可运动地支撑在该第一方向中。

8. 发明专利

TW200732836A 用於排出位於基板與模具之間的氣體之方法 METHOD FOR EXPELLING GAS POSITIONED BETWEEN A SUBSTRATE AND A MOLD 失效
简体标题：用于排出位于基板与模具之间的气体之方法 METHOD FOR EXPELLING GAS POSITIONED BETWEEN A SUBSTRATE AND A MOLD
公开(公告)号：TW200732836A
公开(公告)日：2007-09-01
申请号：TW095145636
申请日：2006-12-07
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：崔炳鎮 CHOI, BYUNG-JIN , 史瑞尼瓦森思蓋塔V SREENIVASAN, SIDLGATA V. , 麥克馬克金艾恩M MCMACKIN, IAN M. , 拉德潘卡傑B LAD, PANKAJ B.
IPC分类号： B29C
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03B27/58
摘要：本發明係有關一用於排出一基板與一模具之間的一氣體之方法及系統,該基板及模具係進一步具有位於其間之一液體。
简体摘要：本发明系有关一用于排出一基板与一模具之间的一气体之方法及系统,该基板及模具系进一步具有位于其间之一液体。

9. 发明专利

TWI516746B 在干涉編碼系統中執行非諧循環錯誤補償的方法、裝置及計算機程式產品，以及微影系統有权
简体标题：在干涉编码系统中运行非谐循环错误补偿的方法、设备及计算机进程产品，以及微影系统
公开(公告)号：TWI516746B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW101141248
申请日：2012-11-07
申请人：賽格股份有限公司 , ZYGO CORPORATION
发明人：德馬雷斯特法蘭克C , DEMAREST, FRANK C.
IPC分类号： G01D5/244 , G01D5/38
CPC分类号： G01B11/14 , G01B9/02059 , G01D5/38 , G03B27/58 , G03F7/70775 , G03F9/7049 , G03F9/7092 , H01L21/681

10. 发明专利

TWI383667B 具有可旋轉透鏡鏡筒的成像設備有权
简体标题：具有可旋转透镜镜筒的成像设备
公开(公告)号：TWI383667B
公开(公告)日：2013-01-21
申请号：TW096143678
申请日：2007-11-19
申请人：新力股份有限公司 , SONY CORPORATION
发明人：芭蕉豐 , BASHO, YUTAKA
IPC分类号： H04N5/225 , G03B15/00 , G03B17/00 , G03B17/56
CPC分类号： G03B27/58

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式