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32. 发明专利

TWI550305B 具入瞳負後焦之投影物鏡及投影曝光裝置有权
简体标题：具入瞳负后焦之投影物镜及投影曝光设备
公开(公告)号：TWI550305B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW103125259
申请日：2007-03-20
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：曼漢斯約爾根 , MANN, HANS-JUERGEN , 辛格爾沃夫岡 , SINGER, WOLFGANG
IPC分类号： G02B13/16 , G03B27/52 , G03B27/70 , G02B17/00
CPC分类号： G02B17/0615 , B82Y10/00 , G02B13/22 , G02B17/0657 , G03F7/70233 , G03F7/7025 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/067

33. 发明专利

TW201629639A 光譜純度濾光器审中-公开
简体标题：光谱纯度滤光器
公开(公告)号：TW201629639A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW105113204
申请日：2011-04-19
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：亞庫寧安卓米克哈洛維奇 , YAKUNIN, ANDREI MIKHAILOVICH , 白尼凡丁葉弗真葉米希 , BANINE, VADIM YEVGENYEVICH , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 凡德蕭特海曼克萊斯 , VAN DER SCHOOT, HARMEN KLAAS , 史蒂文生路卡斯亨利克斯喬漢斯 , STEVENS, LUCAS HENRICUS JOHANNES , 凡卡姆潘馬騰 , VAN KAMPEN, MAARTEN
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F1/64 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C01B32/20 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B5/204 , G02B5/208 , G02B27/0006 , G03B27/54 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F7/70058 , G03F7/702 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G03F7/70983 , G21K1/062 , G21K2201/061 , H01B1/04 , H01B1/24
摘要：本發明揭示一種微影裝置，該微影裝置包括：一輻射源，該輻射源經組態以產生一輻射光束；及一支撐件，該支撐件經組態以支撐一圖案化元件。該圖案化元件經組態以向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束。一腔室位於該輻射源與該圖案化元件之間。該腔室含有經組態以反射該輻射光束之至少一光學組件，且經組態以准許輻射自該輻射源傳遞通過該腔室。一隔膜經組態以准許該輻射光束之傳遞，且防止污染粒子傳遞通過該隔膜。一粒子截留結構經組態以准許氣體沿著自該腔室內部至該腔室外部之一間接路徑流動。該間接路徑經組態以實質上防止污染粒子自該腔室內部傳遞至該腔室外部。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备，该微影设备包括：一辐射源，该辐射源经组态以产生一辐射光束；及一支撑件，该支撑件经组态以支撑一图案化组件。该图案化组件经组态以向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束。一腔室位于该辐射源与该图案化组件之间。该腔室含有经组态以反射该辐射光束之至少一光学组件，且经组态以准许辐射自该辐射源传递通过该腔室。一隔膜经组态以准许该辐射光束之传递，且防止污染粒子传递通过该隔膜。一粒子截留结构经组态以准许气体沿着自该腔室内部至该腔室外部之一间接路径流动。该间接路径经组态以实质上防止污染粒子自该腔室内部传递至该腔室外部。

34. 发明专利

TW201546566A 光學元件及其光學配置审中-公开
简体标题：光学组件及其光学配置
公开(公告)号：TW201546566A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104106971
申请日：2015-03-05
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：保羅漢斯喬成 , PAUL, HANS-JOCHEN , 畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 斯奇凱坦茲湯瑪士 , SCHICKETANZ, THOMAS
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08 , G02B1/113 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B5/0833 , G02B5/0891 , G02B5/208 , G02B27/005 , G03F7/70266 , G03F7/70316 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要：本發明係關於一光學元件(1)，其包含：一基板(2)，一塗層(3、9、5)，供應至該基板(2)，其中該塗層(3、9、5)包含：一反射塗層(5b)，其具體實施用於反射具有一使用波長(λEUV)的輻射(4)，以及一抗反射塗層(3)，其位於該基板(2)與該反射塗層(5b)之間，用於抑制具有與該使用波長(λEUV)不同的一加熱波長(λH)之加熱輻射(7)的反射。本發明也關於一光學配置，其包含：至少一這種光學元件(1)，以及熱操縱該光學元件(1)的至少一裝置，其中該裝置包含至少一加熱光源(8)，用於產生加熱輻射(7)。
简体摘要：本发明系关于一光学组件(1)，其包含：一基板(2)，一涂层(3、9、5)，供应至该基板(2)，其中该涂层(3、9、5)包含：一反射涂层(5b)，其具体实施用于反射具有一使用波长(λEUV)的辐射(4)，以及一抗反射涂层(3)，其位于该基板(2)与该反射涂层(5b)之间，用于抑制具有与该使用波长(λEUV)不同的一加热波长(λH)之加热辐射(7)的反射。本发明也关于一光学配置，其包含：至少一这种光学组件(1)，以及热操纵该光学组件(1)的至少一设备，其中该设备包含至少一加热光源(8)，用于产生加热辐射(7)。

35. 发明专利

TW201546478A 反射鏡，尤其用於微影投影曝光裝置审中-公开
简体标题：反射镜，尤其用于微影投影曝光设备
公开(公告)号：TW201546478A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104107877
申请日：2015-03-12
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：恩基施哈姆特 , ENKISCH, HARTMUT
IPC分类号： G02B1/10 , G02B1/14 , G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B17/0663 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要：本發明關於一種反射鏡，特別是用於一微影投影曝光裝置。根據本發明之一態樣，反射鏡具有一光學有效表面，其中針對具有一預設工作波長且以至少65度之基於個別表面法線的一入射角撞擊於光學有效表面上的電磁輻射，反射鏡具有至少0.5的反射率，其中反射鏡具有至少一層(160,170,320)，其包含由第二週期之一元素及4d過渡群組之一元素所形成的一化合物，其中反射鏡具有一保護層(430,530,630,730)，在光學有效表面之方向中配置於頂部，其中在光學有效表面之方向中在各個情況下配置在保護層之下之該層(420,510,620,705)的材料具有比保護層(430,530,630,730)的材料更低的吸收。
简体摘要：本发明关于一种反射镜，特别是用于一微影投影曝光设备。根据本发明之一态样，反射镜具有一光学有效表面，其中针对具有一默认工作波长且以至少65度之基于个别表面法线的一入射角撞击于光学有效表面上的电磁辐射，反射镜具有至少0.5的反射率，其中反射镜具有至少一层(160,170,320)，其包含由第二周期之一元素及4d过渡群组之一元素所形成的一化合物，其中反射镜具有一保护层(430,530,630,730)，在光学有效表面之方向中配置于顶部，其中在光学有效表面之方向中在各个情况下配置在保护层之下之该层(420,510,620,705)的材料具有比保护层(430,530,630,730)的材料更低的吸收。

38. 发明专利

TW201514551A 多層鏡审中-公开
简体标题：多层镜
公开(公告)号：TW201514551A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103132231
申请日：2014-09-18
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：高納米耶爾阿卡塞爾 , 范柏藍肯哈根吉賽拉 , VON BLANCKENHAGEN, GISELA
IPC分类号： G02B5/08 , B82Y10/00
CPC分类号： G02B5/0816 , G02B5/0891 , G03F7/702 , G03F7/70316 , G03F7/70575 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061
摘要：一種用於反射極紫外(EUV)輻射的多層鏡，該反射鏡包含一基板和一多層堆疊，其形成於該基板上。該多層堆疊包含多層，其包含一低折射率材料和一高折射率材料，該低折射率材料相較於該高折射率材料在給定操作波長λ具有該折射率較低實部。該反射鏡在從6nm延伸至7nm的第一波長頻帶中的第一波長λ1處提供20%或以上反射率之第一峰值，並在從12.5nm延伸至15nm的第二波長頻帶中的第二波長λ2處提供20%或以上反射率之第二峰值。
简体摘要：一种用于反射极紫外(EUV)辐射的多层镜，该反射镜包含一基板和一多层堆栈，其形成于该基板上。该多层堆栈包含多层，其包含一低折射率材料和一高折射率材料，该低折射率材料相较于该高折射率材料在给定操作波长λ具有该折射率较低实部。该反射镜在从6nm延伸至7nm的第一波长频带中的第一波长λ1处提供20%或以上反射率之第一峰值，并在从12.5nm延伸至15nm的第二波长频带中的第二波长λ2处提供20%或以上反射率之第二峰值。

39. 发明专利

TWI474056B ＥＵＶ波長範圍之反射鏡、包含有此反射鏡之微影投射物鏡、包含有此投射物鏡之微影投射曝光裝置有权
简体标题：ＥＵＶ波长范围之反射镜、包含有此反射镜之微影投射物镜、包含有此投射物镜之微影投射曝光设备
公开(公告)号：TWI474056B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW099119649
申请日：2010-06-17
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：保羅漢斯喬成 , PAUL, HANS-JOCHEN , 布勞恩葛哈德 , BRAUN, GERHARD , 米古拉莎夏 , MIGURA, SASCHA , 度度克奧艾倫 , DODOC, AURELIAN , 查塞克克里斯多夫 , ZACZEK, CHRISTOPH
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70941 , G21K1/062 , G21K2201/064 , G21K2201/067

40. 发明专利

TW201502061A 包含多層鍍膜的光學元件及包含此光學元件的光學配置审中-公开
简体标题：包含多层镀膜的光学组件及包含此光学组件的光学配置
公开(公告)号：TW201502061A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103114816
申请日：2014-04-24
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：范德庫斯羅伯W E , VAN DE KRUIJS, ROBBERT W. E. , 恩雅畢洛史蒂芬 , NYABERO, STEVEN , 雅克辛安德烈E , YAKSHIN, ANDERY E. , 畢可克佛德列克 , BIJKERK, FREDERIK
IPC分类号： B82Y40/00 , G02B5/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B5/0891 , G02B1/10 , G02B5/085 , G02B5/0875 , G03F7/7015 , G03F7/70316 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要：本發明揭示一種光學元件(50)，其包含：一基板(52)；及一施加於該基板(52)的多層鍍膜(51)，其包含：至少一第一層系統(53)，其由相等建構之堆疊(X1至X4)的配置組成，各堆疊具有至少兩層(53a-d)；及至少一第二層系統(54)，其由相等建構之堆疊(Y1、Y2)的配置組成，各堆疊具有至少兩層(54a、54b)，其中在該多層鍍膜(51)的熱負載後，該第一層系統(53)經歷該等堆疊(X1至X4)之厚度(dX)的不可逆收縮，及該第二層系統(54)經歷該等堆疊(Y1、Y2)之厚度(dY)的不可逆膨脹。本發明亦揭示一種包含至少一個此光學元件(50)的光學配置，尤其是微影設備。
简体摘要：本发明揭示一种光学组件(50)，其包含：一基板(52)；及一施加于该基板(52)的多层镀膜(51)，其包含：至少一第一层系统(53)，其由相等建构之堆栈(X1至X4)的配置组成，各堆栈具有至少两层(53a-d)；及至少一第二层系统(54)，其由相等建构之堆栈(Y1、Y2)的配置组成，各堆栈具有至少两层(54a、54b)，其中在该多层镀膜(51)的热负载后，该第一层系统(53)经历该等堆栈(X1至X4)之厚度(dX)的不可逆收缩，及该第二层系统(54)经历该等堆栈(Y1、Y2)之厚度(dY)的不可逆膨胀。本发明亦揭示一种包含至少一个此光学组件(50)的光学配置，尤其是微影设备。

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