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1. 发明专利

TWI619973B 偏光膜、含有偏光膜的光學功能薄膜層合體、含有偏光膜的光學薄膜層合體之製造方法、及具有偏光膜之有機電致發光顯示裝置有权
简体标题：偏光膜、含有偏光膜的光学功能薄膜层合体、含有偏光膜的光学薄膜层合体之制造方法、及具有偏光膜之有机电致发光显示设备
公开(公告)号：TWI619973B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW103126886
申请日：2014-08-06
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：喜多川丈治 , KITAGAWA, TAKEHARU , 後藤周作 , GOTO, SHUSAKU
IPC分类号： G02B5/30 , B32B7/06 , B32B37/00
CPC分类号： G02B5/305 , B29C55/023 , B29C55/06 , B29K2029/04 , B29K2067/003 , B29K2995/0034 , G02B1/10 , G02B5/3033 , H05B33/02

2. 发明专利

TW201808811A 被膜形成用組成物及其製造方法审中-公开
简体标题：被膜形成用组成物及其制造方法
公开(公告)号：TW201808811A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106110879
申请日：2017-03-30
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：加藤拓 , KATO, TAKU , 鈴木正睦 , SUZUKI, MASAYOSHI , 村上奈子美 , MURAKAMI, NATSUMI , 飯島大貴 , IIJIMA, DAIKI , 古川智規 , FURUKAWA, TOMOKI , 小山欣也 , KOYAMA, YOSHINARI
IPC分类号： C01G23/04 , C01G23/047 , C09D183/02 , C09D183/04 , C09D185/00 , G02B1/10 , G02B3/00
CPC分类号： C01G23/04 , C01G23/047 , C09D183/02 , C09D183/04 , C09D185/00 , G02B1/10 , G02B3/00
摘要：本發明的課題為提供一種耐熱性及透明性高，可邊表現高折射率，邊厚膜化，且被膜形成用組成物的保存安定性優異之被膜形成用組成物與其製造方法。本發明的解決手段係藉由被膜形成用組成物所致，其係包含下述之(A)成分與(B)成分，(A)成分：以下述式(1)表示之至少1種水解性矽烷的水解縮合物【化1】R2aSi(OR1)4-a 式(1)(式中，R1為碳原子數1~6之烷基，R2為碳原子數1~18之烷基或碳原子數6~18之芳基，a為0~3之整數)、及(B)成分：將具有2~60nm之一次粒徑的金屬氧化物膠體粒子(B1)作為核心，於將其表面以被覆物(B2)被覆之具有2~100nm之一次粒徑的改質金屬氧化物膠體粒子(B3)的表面，鍵結雙親性(Amphiphilic)之有機矽化合物的無機微粒子，該被覆物(B2)係由具有1~4nm之一次粒徑的金屬氧化物膠體粒子所構成，該雙親性(Amphiphilic)之有機矽化合物係具有作為親水性基之選自聚氧乙烯基、聚氧丙烯基或聚氧丁烯基中之1種以上的聚(氧伸烷)基、與作為疏水性基之選自碳原子數1~18之伸烷基或亞乙烯基中之1種以上的基。
简体摘要：本发明的课题为提供一种耐热性及透明性高，可边表现高折射率，边厚膜化，且被膜形成用组成物的保存安定性优异之被膜形成用组成物与其制造方法。本发明的解决手段系借由被膜形成用组成物所致，其系包含下述之(A)成分与(B)成分，(A)成分：以下述式(1)表示之至少1种水解性硅烷的水解缩合物【化1】R2aSi(OR1)4-a 式(1)(式中，R1为碳原子数1~6之烷基，R2为碳原子数1~18之烷基或碳原子数6~18之芳基，a为0~3之整数)、及(B)成分：将具有2~60nm之一次粒径的金属氧化物胶体粒子(B1)作为内核，于将其表面以被覆物(B2)被覆之具有2~100nm之一次粒径的改质金属氧化物胶体粒子(B3)的表面，键结双亲性(Amphiphilic)之有机硅化合物的无机微粒子，该被覆物(B2)系由具有1~4nm之一次粒径的金属氧化物胶体粒子所构成，该双亲性(Amphiphilic)之有机硅化合物系具有作为亲水性基之选自聚氧乙烯基、聚氧丙烯基或聚氧丁烯基中之1种以上的聚(氧伸烷)基、与作为疏水性基之选自碳原子数1~18之伸烷基或亚乙烯基中之1种以上的基。

3. 发明专利

TWI612655B 光學薄膜及包含其之有機發光顯示裝置有权
简体标题：光学薄膜及包含其之有机发光显示设备
公开(公告)号：TWI612655B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW102116071
申请日：2013-05-06
申请人：三星顯示器有限公司 , SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.
发明人：鄭又碩 , JUNG, WOO SUK , 朴順龍 , PARK, SOON RYONG , 朴惠貞 , PARK, HYE JUNG , 白碩基 , BAEK, SEOK GI , 金兌垠 , KIM, TAE EUN
IPC分类号： H01L27/32 , G02B5/30
CPC分类号： G02B1/10 , G02B5/0278 , G02B27/0006 , H05B33/12

4. 发明专利

TW201736920A 包含K-Si-F類螢光體及色純度增強膜的液晶顯示裝置审中-公开
简体标题：包含K-Si-F类萤光体及色纯度增强膜的液晶显示设备
公开(公告)号：TW201736920A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106105182
申请日：2017-02-17
申请人：愛思開哈斯顯示用薄膜有限公司 , SKC HAAS DISPLAY FILMS CO., LTD.
发明人：趙洪烈 , CHO, HONG YOUL , 曺圭中 , CHO, KYOO CHOONG , 南賢哲 , NAM, HYUN CHEOL
IPC分类号： G02F1/13357
CPC分类号： G02B6/0053 , G02B1/10 , G02B6/00 , G02B6/0051 , G02F1/133514 , G02F1/133528 , G02F1/133615 , G02F1/133617 , G02F2001/133507 , G02F2001/133614 , G02F2201/52 , G02F2202/04 , G02F2202/28
摘要：本發明係揭露一種包含K-Si-F類螢光體及色純度增強膜的液晶顯示裝置，本發明的液晶顯示裝置使從光源發出的純RGB波長最大限度地透射過去，並吸收RGB波長以外的不必要的波長，從而能夠提高色純度。
简体摘要：本发明系揭露一种包含K-Si-F类萤光体及色纯度增强膜的液晶显示设备，本发明的液晶显示设备使从光源发出的纯RGB波长最大限度地透射过去，并吸收RGB波长以外的不必要的波长，从而能够提高色纯度。

5. 发明专利

TWI599822B 光學構件及包含其之顯示裝置與光學構件之製造方法有权
简体标题：光学构件及包含其之显示设备与光学构件之制造方法
公开(公告)号：TWI599822B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW100149130
申请日：2011-12-28
申请人： LG伊諾特股份有限公司 , LG INNOTEK CO., LTD.
发明人：李宣和 , LEE, SUN HWA , 吳貞澤 , OH, JEONG TAEK , 崔光惠 , CHOI, GWANG HEI
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/135
CPC分类号： G02B1/14 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B6/005 , G02F1/133514 , G02F1/133524 , G02F1/133603 , G02F1/133615 , G02F1/1339 , G02F2001/133614 , G02F2201/50 , G02F2202/108

6. 发明专利

TWI599813B 水合隱形鏡片有权
简体标题：水合隐形镜片
公开(公告)号：TWI599813B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW104134436
申请日：2011-07-29
申请人：諾華公司 , NOVARTIS AG
发明人：曲永興 , QIU, YONGXING , 普魯特約翰達拉斯 , PRUITT, JOHN DALLAS , 塞克維里西比成 , THEKVELI, SIBICHEN , 圖克羅柏凱利 , TUCKER, ROBERT CAREY , 尼爾森傑瑞德 , NELSON, JARED
IPC分类号： G02C7/04 , G02C7/00
CPC分类号： C09D177/06 , B29D11/00067 , C08G77/388 , C08J5/00 , C08J7/042 , C08J2383/04 , C08J2383/08 , C08J2433/02 , C08J2433/26 , C08J2487/00 , C08L83/04 , C09D5/1637 , C09D5/1681 , C09D133/02 , C09D133/14 , C09D133/26 , C09D171/02 , G02B1/043 , G02B1/10 , G02B1/18 , G02C7/049 , G02C2202/06 , G02C2202/16 , C08L101/14

8. 发明专利

TWI592447B 用於太陽能系統光學元件之塗料有权
简体标题：用于太阳能系统光学组件之涂料
公开(公告)号：TWI592447B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：TW100136122
申请日：2011-10-05
申请人： 3M新設資產公司 , 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：布朗凱瑟琳安 , BROWN, KATHERINE ANN , 景乃勇 , JING, NAIYONG , 赫布林克提摩西約翰 , HEBRINK, TIMOTHY JOHN , 陳定遠 , CHEN, DANIEL TING-YUAN
IPC分类号： C09D1/00 , C01B33/113 , H01L31/042 , G02B1/10
CPC分类号： G02B1/10 , F24S23/00 , F24S2023/86 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B27/0006 , H01L31/02168 , H01L31/0547 , H01L31/0549 , Y02E10/44 , Y02E10/52

9. 发明专利

TWI589939B 用於製造具有局部消偏振區域的偏光器的方法及偏光器、偏光板及使用其製造的圖像顯示裝置有权
简体标题：用于制造具有局部消偏振区域的偏光器的方法及偏光器、偏光板及使用其制造的图像显示设备
公开(公告)号：TWI589939B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW104109530
申请日：2015-03-25
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：李炳鮮 , LEE, BYUNG SUN , 南星鉉 , NAM, SUNG HYUN , 羅鈞日 , RAH, KYUN IL
IPC分类号： G02B5/30 , B29D11/00
CPC分类号： G02B5/3033 , B23K26/38 , B23K26/402 , B23K2203/42 , B23K2203/50 , B29D11/00644 , B29D11/00865 , B29K2029/04 , G02B1/10 , G02B1/14

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