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1. 发明专利

TW200844640A 具有可換式光學光圈之光學元件及其方法 OPTICAL DEVICE WITH EXCHANGEABLE DIAPHRAGMS AS WELL AS METHOD THEREFORE 审中-公开
简体标题：具有可换式光学光圈之光学组件及其方法 OPTICAL DEVICE WITH EXCHANGEABLE DIAPHRAGMS AS WELL AS METHOD THEREFORE
公开(公告)号：TW200844640A
公开(公告)日：2008-11-16
申请号：TW097106905
申请日：2008-02-27
申请人：卡爾蔡司SMT公司 CARL-ZEISS SMT AG
发明人：賀滿貝格 HERMANN BIEG , 英邦派翠卡文 YIM-BUN PATRICK KWAN , 佑能藍古源 UY-LIEM NGUYEN
IPC分类号： G03B , G03F , G02B
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/7025 , G03F7/70808
摘要：本發明有關於一種交換式傳入及/或更換一成像裝置中之光圈的方法,且特別是有關於一種微影蝕刻之超紫外光投影曝光系統或一相應的成像裝置。成像裝置具有一殼體(1)和至少一光圈(2)。光圈係可交換地容置於殼體內和至少一移轉裝置(3)中。移轉裝置具有至少一光圈載座(31;32),而光圈係可分離地設置於光圈載座上或光圈載座處,以便將光圈移進或移出物鏡室。且,移轉裝置之至少一個光圈載座係可以於殼體內作為一種用以適當定位光圈位置的光圈固定件。
简体摘要：本发明有关于一种交换式传入及/或更换一成像设备中之光圈的方法,且特别是有关于一种微影蚀刻之超紫外光投影曝光系统或一相应的成像设备。成像设备具有一壳体(1)和至少一光圈(2)。光圈系可交换地容置于壳体内和至少一移转设备(3)中。移转设备具有至少一光圈载座(31;32),而光圈系可分离地设置于光圈载座上或光圈载座处,以便将光圈移进或移出物镜室。且,移转设备之至少一个光圈载座系可以于壳体内作为一种用以适当定位光圈位置的光圈固定件。

2. 发明专利

TWI276924B 曝光裝置及方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD 失效
简体标题：曝光设备及方法 EXPOSURE APPARATUS AND METHOD
公开(公告)号：TWI276924B
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：TW092134894
申请日：2003-12-10
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：川島美代子 KAWASHIMA, MIYOKO , 鈴木章義 SUZUKI, AKIYOSHI
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70091 , G03F7/70125 , G03F7/7025 , G03F7/70341 , G03F7/70958
摘要：一種曝光方法將曝光物體之一表面及最接近物體之投影光學系統之一表面浸泡在液體中，並經由投影光學系統將形成在一罩幕上之一反覆圖案投影在物體上面。曝光方法將從垂直於投影光學系統一光軸之一軸發出平行於一反覆圖案之反覆方向並在物體上入射角為θ之光線之有效光源形成在投影光學系統之一鏡孔上，其中，光線只包含滿足90°-θNA≦θ≦θNA之一入射角θ區域之S極光線，其中之θNA為最大值之入射角θ。
简体摘要：一种曝光方法将曝光物体之一表面及最接近物体之投影光学系统之一表面浸泡在液体中，并经由投影光学系统将形成在一罩幕上之一反复图案投影在物体上面。曝光方法将从垂直于投影光学系统一光轴之一轴发出平行于一反复图案之反复方向并在物体上入射角为θ之光线之有效光源形成在投影光学系统之一镜孔上，其中，光线只包含满足90°-θNA≦θ≦θNA之一入射角θ区域之S极光线，其中之θNA为最大值之入射角θ。

3. 发明专利

TW200628966A 影像曝光方法及影像曝光裝置 IMAGE EXPOSURE METHOD AND IMAGE EXPOSURE DEVICE 审中-公开
简体标题：影像曝光方法及影像曝光设备 IMAGE EXPOSURE METHOD AND IMAGE EXPOSURE DEVICE
公开(公告)号：TW200628966A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：TW094143307
申请日：2005-12-08
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：石川弘美 ISHIKAWA, HIROMI
IPC分类号： G03B
CPC分类号： G03B27/32 , G03F7/7025 , G03F7/70275 , G03F7/70291
摘要：本發明之課題是在組合有空間光調變元件和微透鏡陣列所形成之影像曝光裝置，經由變動使空間光調變元件之圖素部的像成像之光的行進方向，來防止損及曝光影像之精細度。本發明之解決手段是一種影像曝光裝置，具備有：DMD等之空間光調變元件50，由對被照射之光分別進行調變的多個圖素部排列成2次元狀而形成；光源66，用來對該空間光調變元件50照射光B；成像光學系52、54，對經由空間光調變元件50之光B進行聚光，用來使該圖素部之像成像；其中在成像光學系52、54之成像位置配置有開口(aperture)陣列59，使該各個圖素部之像位於孔59a的部分。另外，該開口陣列59之開口部分之像利用微透鏡陣列55成像，利用光學系57、58使該像投影在感光材料150上。
简体摘要：本发明之课题是在组合有空间光调制组件和微透镜数组所形成之影像曝光设备，经由变动使空间光调制组件之图素部的像成像之光的行进方向，来防止损及曝光影像之精细度。本发明之解决手段是一种影像曝光设备，具备有：DMD等之空间光调制组件50，由对被照射之光分别进行调制的多个图素部排列成2次元状而形成；光源66，用来对该空间光调制组件50照射光B；成像光学系52、54，对经由空间光调制组件50之光B进行聚光，用来使该图素部之像成像；其中在成像光学系52、54之成像位置配置有开口(aperture)数组59，使该各个图素部之像位于孔59a的部分。另外，该开口数组59之开口部分之像利用微透镜数组55成像，利用光学系57、58使该像投影在感光材料150上。

4. 发明专利

TW475075B 光圈調整片有权
简体标题：光圈调整片
公开(公告)号：TW475075B
公开(公告)日：2002-02-01
申请号：TW090107960
申请日：2001-04-03
申请人：卡爾蔡司史帝唐亦以卡爾蔡司名稱貿易
发明人：比修夫湯馬斯
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G03F7/70091 , G02B5/005 , G02B26/02 , G03F7/7025
摘要：一種光圈調整片，尤其用在半導體平版印刷過程中之曝光鏡，設有可彼此相對地旋轉之一光圈基座(2)及一凹槽環(1)，並具有多重的扇片(4)，其係各自安裝在光圈基座(2)及凹槽環(1)中以及為了調整光圈口徑之目的，藉安裝在凹槽環(1)中之彎曲軌道(6)導向。一驅動裝置(11)，其目的用於扭轉彼此相對地光圈基座(2)與凹槽環(1)。彎曲的軌道在凹槽環中設計當作周圍軌道(6)。周圍軌道(6)被分開成為交替使用的有效區曲線(6a)與回行曲線(6b)。光圈基座(2)或凹槽環(1)可在預先選定的旋轉驅動方向藉由驅動裝置(11)轉動，而扇片(4)，以循環的方式在周圍軌道(6)內被導向。
简体摘要：一种光圈调整片，尤其用在半导体平版印刷过程中之曝光镜，设有可彼此相对地旋转之一光圈基座(2)及一凹槽环(1)，并具有多重的扇片(4)，其系各自安装在光圈基座(2)及凹槽环(1)中以及为了调整光圈口径之目的，藉安装在凹槽环(1)中之弯曲轨道(6)导向。一驱动设备(11)，其目的用于扭转彼此相对地光圈基座(2)与凹槽环(1)。弯曲的轨道在凹槽环中设计当作周围轨道(6)。周围轨道(6)被分开成为交替使用的有效区曲线(6a)与回行曲线(6b)。光圈基座(2)或凹槽环(1)可在预先选定的旋转驱动方向借由驱动设备(11)转动，而扇片(4)，以循环的方式在周围轨道(6)内被导向。

5. 发明专利

TW201411729A 熱製程輻射之孔洞控制审中-公开
简体标题：热制程辐射之孔洞控制
公开(公告)号：TW201411729A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102121162
申请日：2013-06-14
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：沙德阿邁凱 , SADE, AMIKAM , 莫飛特史帝芬 , MOFFAT, STEPHEN , 亞當布魯斯E , ADAMS, BRUCE E.
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70858
摘要：本文描述一種用於處理基板之裝置。裝置可包括輻射源及孔洞，該孔洞經定位以接收來自輻射源的輻射能。孔洞可包括一或更多構件及一或更多干涉區域，其中干涉區域環繞透射區域。一或更多結構可影響穿過孔洞之透射區域之部分之輻射能的透射。安置於孔洞上之結構可減少或重定向透射，以提供穿過孔洞之輻射能之更均勻的整體透射。
简体摘要：本文描述一种用于处理基板之设备。设备可包括辐射源及孔洞，该孔洞经定位以接收来自辐射源的辐射能。孔洞可包括一或更多构件及一或更多干涉区域，其中干涉区域环绕透射区域。一或更多结构可影响穿过孔洞之透射区域之部分之辐射能的透射。安置于孔洞上之结构可减少或重定向透射，以提供穿过孔洞之辐射能之更均匀的整体透射。

6. 发明专利

TW201351062A 透過捲到捲光刻法製造用於透明電極與偏光片之微米級與納米級導體柵之方法审中-公开
简体标题：透过卷到卷光刻法制造用于透明电极与偏光片之微米级与纳米级导体栅之方法
公开(公告)号：TW201351062A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102113684
申请日：2013-04-17
申请人：美國密西根州立大學董事會 , THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MICHIGAN
发明人：郭凌吉傑 , GUO, LINGJIE JAY
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/26 , B82Y40/00
CPC分类号： G03F7/7025 , B82Y10/00 , G02F1/13439 , G02F2001/133548 , G03F7/24 , G03F7/30 , H01L51/0023 , H01L51/0036 , H01L51/0047 , H01L51/4253 , H01L51/442 , Y02E10/549
摘要：本揭露提供使用捲式光遮罩或相移遮罩透過連續的近場光學微影術方法微米或奈米圖案化基板以形成透明導電電極結構或偏光片之方法。這些方法中，近場光學微影術技術使用相移或光遮罩滾筒，其中滾筒包含向外暴露的堅硬圖案化表面以轉移圖案到下方的基板。滾筒裝置包含內部放置的輻射源，圖案化製程期間產生通過堅硬圖案化表面到達基板的輻射。透過圓柱體堅硬相位遮罩使用近場曝光光阻材料實現次波長解析度，允許動態且高產出量的連續圖案化。
简体摘要：本揭露提供使用卷式光遮罩或相移遮罩透过连续的近场光学微影术方法微米或奈米图案化基板以形成透明导电电极结构或偏光片之方法。这些方法中，近场光学微影术技术使用相移或光遮罩滚筒，其中滚筒包含向外暴露的坚硬图案化表面以转移图案到下方的基板。滚筒设备包含内部放置的辐射源，图案化制程期间产生通过坚硬图案化表面到达基板的辐射。透过圆柱体坚硬相位遮罩使用近场曝光光阻材料实现次波长分辨率，允许动态且高产出量的连续图案化。

7. 发明专利

TW201030472A 孔徑光閘、光學系統、曝光裝置及電子裝置之製造方法审中-公开
简体标题：孔径光闸、光学系统、曝光设备及电子设备之制造方法
公开(公告)号：TW201030472A
公开(公告)日：2010-08-16
申请号：TW098131357
申请日：2009-09-17
申请人：尼康股份有限公司
发明人：白石雅之 , 小野拓郎
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/7025 , G02B5/005 , G02B17/0657 , G03F7/70091
摘要：在光學系統之光瞳面或其附近面中設置規定光束的孔徑光閘板。該孔徑光閘板所形成的孔徑係具有與光學系統的最適光瞳形狀相對應的三次元形狀。
简体摘要：在光学系统之光瞳面或其附近面中设置规定光束的孔径光闸板。该孔径光闸板所形成的孔径系具有与光学系统的最适光瞳形状相对应的三次元形状。

8. 发明专利

TW200730801A 用以改善取樣影像之所偵測到之解析度及/或强度的裝置和方法 APPARATUS AND METHOD FOR IMPROVING DETECTED RESOLUTION AND/OR INTENSITY OF A SAMPLED IMAGE 审中-公开
简体标题：用以改善采样影像之所侦测到之分辨率及/或强度的设备和方法 APPARATUS AND METHOD FOR IMPROVING DETECTED RESOLUTION AND/OR INTENSITY OF A SAMPLED IMAGE
公开(公告)号：TW200730801A
公开(公告)日：2007-08-16
申请号：TW095137748
申请日：2006-10-13
申请人：佳能股份有限公司 CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：吽野靖行 UNNO, YASUYUKI
IPC分类号： G01J , G03F
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70216 , G03F7/7025 , G03F7/70566 , G03F7/706 , G03F7/70666
摘要：至少一例示性實施例係有關偵測孔徑,其改變有效的孔徑折射率或提供散射結構,以改善取樣影像之所偵測到的解析度及/或强度。在至少一例示性實施例中,一介質被插入於孔徑中,以使通過該孔徑之偏極化的透射比匹配,以及控制通過該孔徑之偏極化的相對透射比。在另一例示性實施例中,提供用來散射或使繞射孔徑光轉向的結構,以改善偵測解析度及/或强度。
简体摘要：至少一例示性实施例系有关侦测孔径,其改变有效的孔径折射率或提供散射结构,以改善采样影像之所侦测到的分辨率及/或强度。在至少一例示性实施例中,一介质被插入于孔径中,以使通过该孔径之偏极化的透射比匹配,以及控制通过该孔径之偏极化的相对透射比。在另一例示性实施例中,提供用来散射或使绕射孔径光转向的结构,以改善侦测分辨率及/或强度。

9. 发明专利

TWI274232B 用以改善相偏移光罩成像效能和相關方法之裝置和系統 APPARATUS AND SYSTEM FOR IMPROVING PHASE SHIFT MASK IMAGING PERFORMANCE AND ASSOCIATED METHODS 失效
简体标题：用以改善相偏移光罩成像性能和相关方法之设备和系统 APPARATUS AND SYSTEM FOR IMPROVING PHASE SHIFT MASK IMAGING PERFORMANCE AND ASSOCIATED METHODS
公开(公告)号：TWI274232B
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：TW092104583
申请日：2003-03-04
申请人：艾斯摩控股股份有限公司 ASML HOLDING N.V.
发明人：海瑞希威爾 SEWELL, HARRY O.
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F1/26 , G03F7/7025 , G03F7/70283
摘要：一種於光微影系統中，改良成像效能的方法，該系統具有一光瞳面並使用一相偏移光罩。光瞳面的一部份，其中來自相偏移光罩的光的相位誤差部份，被找出。一孔徑被放置於該光瞳面的被找出部份處。典型地，該來自相偏移光罩的光之相位誤差部份為光的零階部份，其經常被稱為"零階洩漏"。將零階洩漏阻擋住大大地減輕了在標稱聚焦平面上或下之曝露光阻之光強度上之變化。因而，隨後降低了形成於晶圓上之線寬上之變化。
简体摘要：一种于光微影系统中，改良成像性能的方法，该系统具有一光瞳面并使用一相偏移光罩。光瞳面的一部份，其中来自相偏移光罩的光的相位误差部份，被找出。一孔径被放置于该光瞳面的被找出部份处。典型地，该来自相偏移光罩的光之相位误差部份为光的零阶部份，其经常被称为"零阶泄漏"。将零阶泄漏阻挡住大大地减轻了在标称聚焦平面上或下之曝露光阻之光强度上之变化。因而，随后降低了形成于晶圆上之线宽上之变化。

10. 发明专利

TW200538887A 微影裝置及元件製造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
简体标题：微影设备及组件制造方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
公开(公告)号：TW200538887A
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：TW094105491
申请日：2005-02-23
申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：成群桂 GUI, CHENG-QUN , 安司特亞賈庫伯安昔塔博英瑪 BRUINSMA, ANASTASIUS JACOBUS ANICETUS , 派特威廉鶴鳴戴嘉格 DE JAGER, PIETER WILLEM HERMAN , 威廉喬瑞安斯凡尼馬 VENEMA, WILLEM JURRIANUS
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , G03F7/70825 , G03F7/7085
摘要：本發明揭示一種在一基板上調整與該基板相關之一光引擎所產生的一圖案化光束之位置的配置。該配置相對於個別可控制部件之一陣列移動聚焦部件之一陣列，各聚焦部件將該圖案化光束之一部分聚焦至該基板之一點上，以便將該圖案賦予該圖案化光束。
简体摘要：本发明揭示一种在一基板上调整与该基板相关之一光发动机所产生的一图案化光束之位置的配置。该配置相对于个别可控制部件之一数组移动聚焦部件之一数组，各聚焦部件将该图案化光束之一部分聚焦至该基板之一点上，以便将该图案赋予该图案化光束。

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