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1. 发明专利

TWI461364B 水鋁土（ｂｏｅｈｍｉｔｅ）粒子的製造方法及鋁粒子的製造方法有权
简体标题：水铝土（ｂｏｅｈｍｉｔｅ）粒子的制造方法及铝粒子的制造方法
公开(公告)号：TWI461364B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW098125697
申请日：2009-07-30
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：森永均 , MORINAGA, HITOSHI , 田原宗明 , TAHARA, MUNEAKI , 芦高圭史 , ASHITAKA, KEIJI
IPC分类号： C01F7/02 , C01F7/44
CPC分类号： C01F7/448 , C01F7/02 , C01P2004/30 , C01P2004/38 , C01P2004/39 , C01P2004/54 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C09K3/1409

2. 发明专利

TW201740845A 研磨墊及研磨方法审中-公开
简体标题：研磨垫及研磨方法
公开(公告)号：TW201740845A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106105338
申请日：2017-02-17
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：浅井舞子 , ASAI, MAIKO , 伊藤友一 , ITO, YUUICHI , 玉井一誠 , TAMAI, KAZUSEI , 田原宗明 , TAHARA, MUNEAKI
IPC分类号： A47G27/02 , B24B37/24 , B24B29/00
CPC分类号： B24B37/22 , B24B37/24 , B24D11/00 , H01L21/304
摘要：本發明係提供一種在於表面具有凸部及凹部之至少一者之研磨對象物的研磨，可充分研磨至研磨對象物的表面當中凸部之附近部分或凹部的裡面之研磨墊。研磨墊係具有長度3mm以上之纖維(12)的複數起絨於基部(11)的表面之起絨部(1)，纖維(12)的條數為10000條/cm2以上。
简体摘要：本发明系提供一种在于表面具有凸部及凹部之至少一者之研磨对象物的研磨，可充分研磨至研磨对象物的表面当中凸部之附近部分或凹部的里面之研磨垫。研磨垫系具有长度3mm以上之纤维(12)的复数起绒于基部(11)的表面之起绒部(1)，纤维(12)的条数为10000条/cm2以上。

3. 发明专利

TW201211221A 研磨用組成物 POLISHING COMPOSITION 审中-公开
简体标题：研磨用组成物 POLISHING COMPOSITION
公开(公告)号：TW201211221A
公开(公告)日：2012-03-16
申请号：TW100130789
申请日：2011-08-26
申请人：福吉米股份有限公司
发明人：芦高圭史 , 森永均 , 田原宗明
IPC分类号： C09K , H01L , C01B
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/31053
摘要：本發明之研磨用組成物係含有膠體矽石。當膠體矽石之平均縱橫比定為A(無維度)、膠體矽石之平均粒徑定為D(單位：nm)、膠體矽石之粒徑的標準偏差定為E(單位：nm)、膠體矽石中所佔之粒徑為1～300nm的粒子之體積比例定為F(單位：%)時，以數式：A×D×E×F所求出之值為350,000以上。又，膠體矽石中所佔之粒徑為1～300nm的粒子之體積比例為90%以上。
简体摘要：本发明之研磨用组成物系含有胶体硅石。当胶体硅石之平均纵横比定为A(无维度)、胶体硅石之平均粒径定为D(单位：nm)、胶体硅石之粒径的标准偏差定为E(单位：nm)、胶体硅石中所占之粒径为1～300nm的粒子之体积比例定为F(单位：%)时，以数式：A×D×E×F所求出之值为350,000以上。又，胶体硅石中所占之粒径为1～300nm的粒子之体积比例为90%以上。

4. 发明专利

TW201022150A 水鋁土（ｂｏｅｈｍｉｔｅ）粒子的製造方法及鋁粒子的製造方法审中-公开
简体标题：水铝土（ｂｏｅｈｍｉｔｅ）粒子的制造方法及铝粒子的制造方法
公开(公告)号：TW201022150A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：TW098125697
申请日：2009-07-30
申请人：福吉米股份有限公司
发明人：森永均 , 田原宗明 , 芦高圭史
IPC分类号： C01F
CPC分类号： C01F7/448 , C01F7/02 , C01P2004/30 , C01P2004/38 , C01P2004/39 , C01P2004/54 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C09K3/1409
摘要：本發明係為得到高平滑且低缺陷的研磨面，提供於研磨研磨對象物之用途上，適合於製造可適合作為砥粒使用之鋁粒子之鋁粒子的製造方法、及適合於製造作為如此鋁粒子的原料為有用之水鋁土(boehmite)粒子之水鋁土粒子的製造方法。本發明之水鋁土粒子的製造方法係藉由同時供應氫氧化鋁粒末與成核劑於水熱反應，可製造一次粒子的形狀成六面體之平均一次粒徑為0.6μm以下之水鋁土粒子。本發明之鋁粒子的製造方法係具備將上述方法所得之水鋁土粒子進行乾燥的步驟、及將乾燥後的水鋁土粒子進行煅燒而得鋁粒子之步驟、及將所得之鋁粒子進行粉碎之步驟。
简体摘要：本发明系为得到高平滑且低缺陷的研磨面，提供于研磨研磨对象物之用途上，适合于制造可适合作为砥粒使用之铝粒子之铝粒子的制造方法、及适合于制造作为如此铝粒子的原料为有用之水铝土(boehmite)粒子之水铝土粒子的制造方法。本发明之水铝土粒子的制造方法系借由同时供应氢氧化铝粒末与成核剂于水热反应，可制造一次粒子的形状成六面体之平均一次粒径为0.6μm以下之水铝土粒子。本发明之铝粒子的制造方法系具备将上述方法所得之水铝土粒子进行干燥的步骤、及将干燥后的水铝土粒子进行煅烧而得铝粒子之步骤、及将所得之铝粒子进行粉碎之步骤。

5. 发明专利

TW201000403A 氧化鋁粒子及含有該氧化鋁粒子之研磨用組成物 ALUMINUM OXIDE PARTICLE AND POLISHING COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：氧化铝粒子及含有该氧化铝粒子之研磨用组成物 ALUMINUM OXIDE PARTICLE AND POLISHING COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201000403A
公开(公告)日：2010-01-01
申请号：TW098119707
申请日：2009-06-12
申请人：福吉米股份有限公司
发明人：森永均 , 田原宗明 , 松波靖
IPC分类号： C01F , C09K , C09G
CPC分类号： B24D3/00 , C01F7/02 , C01F7/441 , C01P2004/03 , C01P2004/38 , C01P2004/39 , C01P2004/45 , C01P2004/52 , C01P2004/54 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C09K3/1409 , Y10T428/2982
摘要：本發明提供氧化鋁粒子，其一次粒子之形狀為六面體，一次粒子之長寬比(aspect ratio)為1~5。氧化鋁粒子之平均一次粒徑以0.01~0.6μm為較佳。氧化鋁粒子之α化率以5~70％為較佳。又，氧化鋁粒子之平均二次粒徑以0.01~2μm為較佳；將氧化鋁粒子之90％粒徑除以10％粒徑得到之值以3以下為較佳。該氧化鋁粒子於研磨，例如，半導體裝置基板、硬碟基板或顯示器用基板之用途中可做為磨粒使用。
简体摘要：本发明提供氧化铝粒子，其一次粒子之形状为六面体，一次粒子之长宽比(aspect ratio)为1~5。氧化铝粒子之平均一次粒径以0.01~0.6μm为较佳。氧化铝粒子之α化率以5~70％为较佳。又，氧化铝粒子之平均二次粒径以0.01~2μm为较佳；将氧化铝粒子之90％粒径除以10％粒径得到之值以3以下为较佳。该氧化铝粒子于研磨，例如，半导体设备基板、硬盘基板或显示器用基板之用途中可做为磨粒使用。

6. 发明专利

TW201713459A 研磨墊及研磨方法审中-公开
简体标题：研磨垫及研磨方法
公开(公告)号：TW201713459A
公开(公告)日：2017-04-16
申请号：TW105118586
申请日：2016-06-14
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：森永均 , MORINAGA, HITOSHI , 玉井一誠 , TAMAI, KAZUSEI , 田原宗明 , TAHARA, MUNEAKI , 浅井舞子 , ASAI, MAIKO , 伊藤友一 , ITO, YUUICHI
IPC分类号： B24B29/00 , B24B37/24
CPC分类号： B24B29/02 , B24B37/00 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D13/145 , B32B5/12 , B32B5/245 , B32B27/36 , B32B2305/22 , B32B2307/72 , B32B2307/732
摘要：本發明係提供一種在於表面具有凸部及凹部之至少一者之研磨對象物的研磨，可充分研磨至研磨對象物的表面當中凸部之附近部分或凹部的裡面之研磨墊。研磨墊係具有長度2mm以上之纖維(12)的複數起絨於基部(11)的表面之起絨部(1)，纖維(12)的質量為250g/m2以上。此研磨墊被使用在含有金屬、合金、或金屬氧化物材料且於表面具有凸部(21)及凹部(22)之至少一者之研磨對象物(2)的研磨。
简体摘要：本发明系提供一种在于表面具有凸部及凹部之至少一者之研磨对象物的研磨，可充分研磨至研磨对象物的表面当中凸部之附近部分或凹部的里面之研磨垫。研磨垫系具有长度2mm以上之纤维(12)的复数起绒于基部(11)的表面之起绒部(1)，纤维(12)的质量为250g/m2以上。此研磨垫被使用在含有金属、合金、或金属氧化物材料且于表面具有凸部(21)及凹部(22)之至少一者之研磨对象物(2)的研磨。

7. 发明专利

TWI541334B 研磨用組成物有权
简体标题：研磨用组成物
公开(公告)号：TWI541334B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW100130789
申请日：2011-08-26
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：芦高圭史 , ASHITAKA, KEIJI , 森永均 , MORINAGA, HITOSHI , 田原宗明 , TAHARA, MUNEAKI
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/304 , C01B33/14
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/31053

8. 发明专利

TWI417245B 氧化鋁粒子及含有該氧化鋁粒子之研磨用組成物有权
简体标题：氧化铝粒子及含有该氧化铝粒子之研磨用组成物
公开(公告)号：TWI417245B
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW098119707
申请日：2009-06-12
申请人：福吉米股份有限公司 , FUJIMI INCORPORATED
发明人：森永均 , MORINAGA, HITOSHI , 田原宗明 , TAHARA, MUNEAKI , 松波靖 , MATSUNAMI, YASUSHI
IPC分类号： C01F7/02 , C09K3/14 , C09G1/02
CPC分类号： B24D3/00 , C01F7/02 , C01F7/441 , C01P2004/03 , C01P2004/38 , C01P2004/39 , C01P2004/45 , C01P2004/52 , C01P2004/54 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C09K3/1409 , Y10T428/2982

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