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1. 发明专利

TWI608903B 超研磨粒研磨輪有权
简体标题：超研磨粒研磨轮
公开(公告)号：TWI608903B
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW105129942
申请日：2016-09-14
申请人：聯合材料股份有限公司 , A. L. M. T. CORP.
发明人：星加昌則 , HOSHIKA, MASANORI , 山崎光 , YAMAZAKI, HIKARU , 小寺沢裕久 , KOTERASAWA, HIROHISA , 福島健二 , FUKUSHIMA, KENJI
IPC分类号： B24D3/06
CPC分类号： B24D5/02 , B24D3/00

2. 发明专利

TW201733741A 超磨粒輪體审中-公开
简体标题：超磨粒轮体
公开(公告)号：TW201733741A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW105140363
申请日：2016-12-07
申请人：聯合材料股份有限公司 , A. L. M. T. CORP.
发明人：中村暢秀 , NAKAMURA, NOBUHIDE
IPC分类号： B24D3/10 , B24D3/06 , B24D3/00
CPC分类号： B24D3/00 , B24D3/06
摘要：一種超磨粒輪體係包括：金屬座；以及超磨粒層，被設於金屬座的表面上；超磨粒層係包含鑽石磨粒與CBN磨粒，鑽石磨粒與CBN磨粒係以結合材被單層固定於金屬座上。
简体摘要：一种超磨粒轮体系包括：金属座；以及超磨粒层，被设于金属座的表面上；超磨粒层系包含钻石磨粒与CBN磨粒，钻石磨粒与CBN磨粒系以结合材被单层固定于金属座上。

3. 发明专利

TW201711798A 研磨磨粒、研磨漿料及硬脆材之研磨方法與硬脆材之製造方法审中-公开
简体标题：研磨磨粒、研磨浆料及硬脆材之研磨方法与硬脆材之制造方法
公开(公告)号：TW201711798A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105119009
申请日：2016-06-16
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：梶野哲平 , KAJINO, TEPPEI , 尾崎裕謙 , OZAKI, HIROTAKA , 齋藤譲 , SAITOU, YUZURU
IPC分类号： B24B1/00 , B24B37/00 , B24D3/00 , H01L21/304 , C09G1/02 , C09K3/14
CPC分类号： B24B1/00 , B24B37/00 , B24D3/00 , C09K3/14 , H01L21/304
摘要：本發明係提供一種可使對於藍寶石等的硬脆材之研磨速度的高速化與表面平滑性兼備之研磨磨粒及研磨漿料。本發明之研磨磨粒係用於研磨硬脆材而之研磨磨粒，其特徵係含有具有1個以上的頸部之連結狀粒子，且為平均粒徑為3μm以下的無機氧化物粉末。
简体摘要：本发明系提供一种可使对于蓝宝石等的硬脆材之研磨速度的高速化与表面平滑性兼备之研磨磨粒及研磨浆料。本发明之研磨磨粒系用于研磨硬脆材而之研磨磨粒，其特征系含有具有1个以上的颈部之链接状粒子，且为平均粒径为3μm以下的无机氧化物粉末。

4. 发明专利

TW201638288A 研磨工具及其製造方法审中-公开
简体标题：研磨工具及其制造方法
公开(公告)号：TW201638288A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104112579
申请日：2015-04-20
申请人：中國砂輪企業股份有限公司 , KINIK COMPANY
发明人：周瑞麟 , CHOU, JUI LIN , 邱家豐 , CHIU, CHIA FENG , 廖文仁 , LIAO, WEN JEN , 蘇學紳 , SU, XUE SHEN
IPC分类号： C09K3/14 , B24D7/14
CPC分类号： B24B53/017 , B24B37/26 , B24D3/00 , B24D7/06 , B24D7/066 , B24D9/08 , B24D18/00 , B24D18/0018
摘要：一種研磨工具在此揭露，其包含基板及多個研磨顆粒。基板具有工作面；研磨顆粒分佈於工作面上並突出於該工作面；其中，部分研磨顆粒係經由表面加工以形成的頂部為斜面或稜線之多邊錐體。再者，一種研磨工具之製造方法亦在此揭露。
简体摘要：一种研磨工具在此揭露，其包含基板及多个研磨颗粒。基板具有工作面；研磨颗粒分布于工作面上并突出于该工作面；其中，部分研磨颗粒系经由表面加工以形成的顶部为斜面或棱线之多边锥体。再者，一种研磨工具之制造方法亦在此揭露。

5. 发明专利

TW201621025A 研磨材以及研磨材的製造方法审中-公开
简体标题：研磨材以及研磨材的制造方法
公开(公告)号：TW201621025A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104133783
申请日：2015-10-15
申请人：阪東化學股份有限公司 , BANDO CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：向史博 , MUKAI, FUMIHIRO , 岩永友樹 , IWANAGA, TOMOKI , 高木大輔 , TAKAGI, DAISUKE , 西藤和夫 , SAITO, KAZUO , 田浦歳和 , TAURA, TOSHIKAZU
IPC分类号： C09K3/14 , C08J5/14 , B24B37/24 , B24B37/26
CPC分类号： B24D3/04 , B24B37/24 , B24D3/00 , B24D11/00
摘要：本發明的目的在於提供一種研磨材，其能以高水準兼具基板材料的加工效率與整飾平坦性並且研磨成本低，即便為藍寶石或碳化矽等難加工基板，亦可高效率且高精度地進行研磨。本發明為一種具備基材、及積層於其表面側的研磨層的研磨材，且其特徵在於：所述研磨層含有以無機物作為主成分的黏合劑及分散於該黏合劑中的研磨粒子，所述研磨層的表面是由經槽劃分的多個區域所構成，所述研磨層表面的最大凸部高度（Rp）為2.5 μm以上且70 μm以下。所述多個區域可在俯視正交的XY方向上配設有至少兩個以上。所述黏合劑可含有以氧化物作為主成分的填充劑，且所述氧化物填充劑的平均粒徑小於所述研磨粒子的平均粒徑。所述無機物可為矽酸鹽。所述研磨粒子可為金剛石。
简体摘要：本发明的目的在于提供一种研磨材，其能以高水准兼具基板材料的加工效率与整饰平坦性并且研磨成本低，即便为蓝宝石或碳化硅等难加工基板，亦可高效率且高精度地进行研磨。本发明为一种具备基材、及积层于其表面侧的研磨层的研磨材，且其特征在于：所述研磨层含有以无机物作为主成分的黏合剂及分散于该黏合剂中的研磨粒子，所述研磨层的表面是由经槽划分的多个区域所构成，所述研磨层表面的最大凸部高度（Rp）为2.5 μm以上且70 μm以下。所述多个区域可在俯视正交的XY方向上配设有至少两个以上。所述黏合剂可含有以氧化物作为主成分的填充剂，且所述氧化物填充剂的平均粒径小于所述研磨粒子的平均粒径。所述无机物可为硅酸盐。所述研磨粒子可为金刚石。

6. 发明专利

TWI406918B 用於拋光在鑲嵌結構中之鋁／銅及鈦之組合物有权
简体标题：用于抛光在镶嵌结构中之铝／铜及钛之组合物
公开(公告)号：TWI406918B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW098107164
申请日：2009-03-05
申请人：卡博特微電子公司 , CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION
发明人：布魯賽克維斯塔 , BRUSIC, VLASTA , 湯普森克里斯多夫 , THOMPSON, CHRISTOPHER , 戴薩傑佛瑞 , DYSARD, JEFFREY
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , B24B37/04 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/30625 , B24B37/044 , B24D3/00 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , C23F3/03 , C23F3/06

7. 发明专利

TW200946622A 用於拋光在鑲嵌結構中之鋁／銅及鈦之組合物 COMPOSITIONS FOR POLISHING ALUMINUM/COPPER AND TITANIUM IN DAMASCENE STRUCTURES 审中-公开
简体标题：用于抛光在镶嵌结构中之铝／铜及钛之组合物 COMPOSITIONS FOR POLISHING ALUMINUM/COPPER AND TITANIUM IN DAMASCENE STRUCTURES
公开(公告)号：TW200946622A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW098107164
申请日：2009-03-05
申请人：卡博特微電子公司
发明人：布魯賽克維斯塔 , 湯普森克里斯多夫 , 戴薩傑佛瑞
IPC分类号： C09G , C09K , B24B , H01L
CPC分类号： H01L21/30625 , B24B37/044 , B24D3/00 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , C23F3/03 , C23F3/06
摘要：本發明提供用於將基板平坦化或拋光之組合物及方法。該組合物包含由視情況經聚合物處理之氧化鋁粒子組成之研磨劑、α-羥基羧酸、使至少一種金屬氧化之氧化劑、聚丙烯酸、視情況選用之含鈣化合物、視情況選用之殺生物劑、視情況選用之pH值調節劑及水。該方法使用該組合物以將一基板化學機械拋光。
简体摘要：本发明提供用于将基板平坦化或抛光之组合物及方法。该组合物包含由视情况经聚合物处理之氧化铝粒子组成之研磨剂、α-羟基羧酸、使至少一种金属氧化之氧化剂、聚丙烯酸、视情况选用之含钙化合物、视情况选用之杀生物剂、视情况选用之pH值调节剂及水。该方法使用该组合物以将一基板化学机械抛光。

8. 发明专利

TW201807152A 超研磨粒研磨輪审中-公开
简体标题：超研磨粒研磨轮
公开(公告)号：TW201807152A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106113730
申请日：2017-04-25
申请人：聯合材料股份有限公司 , A. L. M. T. CORP.
发明人：中村暢秀 , NAKAMURA, NOBUHIDE
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02 , B24D3/34
CPC分类号： B24D3/00 , B24D3/06
摘要：本發明提供一種超研磨粒研磨輪，係包括：基底金屬，以及設置於基底金屬表面的超研磨粒層，超研磨粒層包含鑽石研磨粒與CBN研磨粒，鑽石研磨粒與CBN研磨粒在基底金屬以結合材固定成單層。作用於工作物的鑽石研磨粒與CBN研磨粒的突出端的高度的偏差為10μm以下，在作用於工作物的鑽石研磨粒的突出端形成有高度0.1μm以上的凹凸。
简体摘要：本发明提供一种超研磨粒研磨轮，系包括：基底金属，以及设置于基底金属表面的超研磨粒层，超研磨粒层包含钻石研磨粒与CBN研磨粒，钻石研磨粒与CBN研磨粒在基底金属以结合材固定成单层。作用于工作物的钻石研磨粒与CBN研磨粒的突出端的高度的偏差为10μm以下，在作用于工作物的钻石研磨粒的突出端形成有高度0.1μm以上的凹凸。

9. 发明专利

TW201801857A 研磨材审中-公开
公开(公告)号：TW201801857A
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：TW106122456
申请日：2017-07-05
申请人：創技股份有限公司 , SPEEDFAM CO.,LTD. , 阪東化學股份有限公司 , BANDO CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：井上裕昭 , INOUE, HIROAKI , 竹村幸二 , TAKEMURA, KOJI , 岩永友樹 , IWANAGA, TOMOKI , 高木大輔 , TAKAGI, DAISUKE , 笹島啓佑 , SASASHIMA, KEISUKE , 田浦歳和 , TAURA, TOSHIKAZU
IPC分类号： B24D3/24 , B24D7/14 , G01N3/56
CPC分类号： B24D3/00 , B24D11/00 , B24D11/04
摘要：本發明是一種研磨材，其具備基材、及積層於所述基材的表面側的研磨層，所述研磨材的特徵在於：所述研磨層包含研磨粒及其黏合劑，且具有塔柏磨耗試驗中的磨耗量不同的多種研磨部，所述多種研磨部中磨耗量最小的第一研磨部由其他研磨部包圍，所述其他研磨部的磨耗量相對於所述第一研磨部的磨耗量的比為3以上，所述研磨層中的所述研磨部整體的佔有面積率為15%以上且100%以下。
简体摘要：本发明是一种研磨材，其具备基材、及积层于所述基材的表面侧的研磨层，所述研磨材的特征在于：所述研磨层包含研磨粒及其黏合剂，且具有塔柏磨耗试验中的磨耗量不同的多种研磨部，所述多种研磨部中磨耗量最小的第一研磨部由其他研磨部包围，所述其他研磨部的磨耗量相对于所述第一研磨部的磨耗量的比为3以上，所述研磨层中的所述研磨部整体的占有面积率为15%以上且100%以下。

10. 发明专利

TW201733742A 塗料塗布裝置以及塗料塗布方法审中-公开
简体标题：涂料涂布设备以及涂料涂布方法
公开(公告)号：TW201733742A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106105718
申请日：2017-02-21
申请人： TKX股份有限公司 , TKX CORPORATION
发明人：近藤貴行 , KONDO, TAKAYUKI , 雲康輔 , KUMO, YASUSUKE , 深田正紀 , FUKADA, MASAKI
IPC分类号： B24D3/28 , B24D11/00 , B24B27/06
CPC分类号： B05C3/15 , B05D1/18 , B05D7/20 , B24D3/00 , B24D3/28 , B24D11/00 , H01B13/16
摘要：本發明提供一種可獲得於塗料中幾乎不混入氣泡且外徑均一之塗布芯線的塗料塗布裝置。本發明提供一種塗料塗布裝置2，其係用以將塗料3塗布於朝向上方移行之芯線6，且包含：貯存槽8，其貯存塗料3，且於底部具有供芯線6插穿之插穿孔31；以及模具群，其包含至少3個模具，該等3個模具以芯線6依序通過之方式空出間隔，且包含沒入於貯存於貯存槽內之塗料3中配置之下模具12、中模具14、及以自貯存於貯存槽內之塗料3之液面突出之方式配置的上模具16。
简体摘要：本发明提供一种可获得于涂料中几乎不混入气泡且外径均一之涂布芯线的涂料涂布设备。本发明提供一种涂料涂布设备2，其系用以将涂料3涂布于朝向上方移行之芯线6，且包含：贮存槽8，其贮存涂料3，且于底部具有供芯线6插穿之插穿孔31；以及模具群，其包含至少3个模具，该等3个模具以芯线6依序通过之方式空出间隔，且包含没入于贮存于贮存槽内之涂料3中配置之下模具12、中模具14、及以自贮存于贮存槽内之涂料3之液面突出之方式配置的上模具16。

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