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    • 3. 发明授权
    • 나노구조체 및 그 제조 방법
    • 纳米结构及其制造方法
    • KR101147053B1
    • 2012-05-17
    • KR1020057000392
    • 2003-07-08
    • 큐나노에이비
    • 사무엘슨라르스이바르올슨요나스뵈른
    • B82B3/00B82B1/00B82Y40/00
    • H01L31/035227B82Y10/00C30B11/00C30B11/12C30B25/00C30B25/02C30B25/14C30B25/18C30B25/183C30B29/403C30B29/406C30B29/605H01L29/0665H01L29/0673H01L29/068H01L29/20H01L29/66318H01L29/7371H01L29/882H01L31/022466H01L31/048H01L31/068H01L33/04Y02E10/547Y10S977/762Y10S977/763
    • 공명 터널링 다이오드, 여타의 1차원 전자, 광자 구조체, 및 전자기계 MEMS 디바이스는, 상이한 밴드갭을 갖는 상이한 재료들로 위스커의 길이 세그먼트들을 형성하는 나노위스커내에 헤테로구조체로서 형성된다. 따라서, 양자 감금 효과를 나타내도록, 공명 터널링 다이오드는 나노미터 치수를 갖는 일정한 직경의 컬럼 및 일 단부에 시드 입자를 갖는 나노위스커를 포함하고, 상기 컬럼은 제1반도체 부분과 제2반도체 부분사이에 배치된, 에미터 및 콜렉터를 각각 포함하는 제1 및 제2반도체 부분, 제1 및 제2반도체 부분의 그것과 상이한 밴드 갭을 가지는 재료로 된 제3 및 제4부분, 및 제3부분과 제4부분 사이에 배치되고 양자 웰을 형성하는, 제3 및 제4부분의 그것과 상이한 밴드 갭을 가지는 반도체 재료로 된 제5중심부를 포함한다. RTD는 기판상에 시드 입자를 증착하는 단계, 및 시드 입자를 갖는 용융물을 형성하도록 온도 및 압력의 제어된 조건들 하에서 시드 입자를 재료들에 노출시키는 단계를 포함하는 방법에 의해 만들어지며, 시드 입자는 컬럼의 최상부상에서 생성되어 나노위스커를 형성하고, 나노위스커의 컬럼은 나노미터 치수의 일정한 직경을 가진다; 컬럼의 성장 중에, 상기 가스들의 조성들을 선택적으로 변화시켜 그 길이를 따른 영역들에서의 컬럼의 재료의 조성을 급격히 변화시켜 에피택셜 성장을 유지하는 한편, 상기 부분들의 재료들 사이의 격자 오정합은 경계부들에서 위스커의 반경반향 바깥쪽으로의 팽창에 의해 수용된다.
    • 通过用具有不同带隙的不同材料形成晶须的长度段,在纳米晶须中形成共振隧道二极管和其它一维电子,光子结构和机电MEMS器件作为异质结构。 因此,共振隧道二极管包括在一端具有种子颗粒熔体的纳米晶须和具有纳米尺寸的恒定直径的柱,例如显示量子限制效应,所述柱包括第一和第二半导体部分,分别包括发射极和 集电体,并且设置在第一和第二半导体部分之间,具有与第一和第二半导体部分的带隙不同的带隙的材料的第三和第四部分,以及与第一和第二半导体部分具有不同带隙的半导体材料的第五中心部分 第三部分和第四部分的第三部分和第四部分之间,设置在第三部分和第四部分之间并且形成量子裂纹。 RTD通过包括在基底上沉积种子颗粒并将种子颗粒暴露于温度和压力受控条件下的材料的方法制成,例如与种子颗粒形成熔体,使得种子颗粒在 形成纳米晶须的柱,纳米晶须柱具有恒定直径的纳米尺寸; 在柱的生长期间,选择性地改变所述气体的组成,从而在保持外延生长的同时保持外延生长,突然改变柱的材料在其长度的区域的组成,其中部分的材料之间的晶格失配由径向 在晶界向外膨胀的边界。
    • 8. 发明公开
    • 나노구조체 및 그 제조 방법
    • 纳米结构及其制造方法
    • KR1020050042774A
    • 2005-05-10
    • KR1020057000392
    • 2003-07-08
    • 큐나노에이비
    • 사무엘슨라르스이바르올슨요나스뵈른
    • B82B3/00B82B1/00B82Y40/00
    • H01L31/035227B82Y10/00C30B11/00C30B11/12C30B25/00C30B25/02C30B25/14C30B25/18C30B25/183C30B29/403C30B29/406C30B29/605H01L29/0665H01L29/0673H01L29/068H01L29/20H01L29/66318H01L29/7371H01L29/882H01L31/022466H01L31/048H01L31/068H01L33/04Y02E10/547Y10S977/762Y10S977/763
    • The invention comprises a method of forming nanowhiskers, one-dimensional semiconductor nanocrystals, in which segments of the whisker have different compositions, for example indium arsenide whiskers containing segments of indium phosphide, wherein conditions for growth allow the formation of abrupt interfaces and heterostructure barriers of thickness from a few monolayers to hundreds of nanometers, thus creating a one-dimensional landscape along which electrons can move. In a preferred method of chemical beam epitaxy method (CBE), rapid alteration of the composition is controlled by the supply of precursor atoms into a eutectic melt of seed particle and substrate, supplied as molecular beams into the ultra high vacuum chamber. The rapid switching between different compositions is obtained via a sequence where growth is interrupted or at least reduced to an insignificant amount, and supersaturation conditions for growth are reestablished; at least, change of composition and supersaturation is changed faster than any appreciable growth. With abrupt changes in material of the whisker, stresses and strains arising from lattice mismatch are accommodated by radial outward bulging of the whisker, or at least by lateral displacement of the atoms in the lattice planes near the junction.
    • 本发明包括形成纳米晶须,一维半导体纳米晶体的方法,其中晶须的部分具有不同的组成,例如含有磷化铟段的砷化铟晶须,其中生长条件允许形成突变界面和异质结构屏障 从几个单层到几百纳米的厚度,从而产生电子可以移动的一维景观。 在化学束外延法(CBE)的优选方法中,通过将前体原子供应到作为分子束提供到超高真空室中的种子颗粒和基底的共熔熔体中来控制组成的快速改变。 不同组合物之间的快速切换通过生长被中断或至少减少到不显着的量的序列获得,并且重新建立用于生长的过饱和条件; 至少,组成和过饱和度的变化比任何明显的增长都改变得更快。 随着晶须的材料突然变化,由晶格失配引起的应力和应变由晶须的径向向外膨胀,或者至少通过接合点附近的晶格面中的原子的横向位移来适应。