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1. 发明公开

KR1020150119808A 전자빔 묘화 장치, 및 전자빔의 수렴 반각 조정 방법 无效
标题翻译：电子束绘图装置和调整电子束融合的方法
公开(公告)号：KR1020150119808A
公开(公告)日：2015-10-26
申请号：KR1020150052893
申请日：2015-04-15
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 노무라하루유키
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/06 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/1471 , H01J37/045 , H01J37/10 , H01J2237/043 , H01J2237/063 , H01J2237/06375 , H01J2237/1502
摘要： 본발명의일태양의전자빔묘화장치는, 전자빔을방출하는전자총기구와, 광축방향에대하여전자총기구보다후측에배치되고, 전자총기구의높이위치를가변으로조정가능한높이조정부와, 광축방향에대하여높이조정부보다후측에배치되고, 전자빔을수렴시키는전자렌즈와, 전자총기구의높이위치가가변으로조정되어변화된높이위치마다, 소정의위치에전자빔이크로스오버를형성하도록전자렌즈를제어하는렌즈제어부와, 광축방향에대하여전자렌즈보다후측에배치되고, 전자렌즈를통과한상기전자빔을시료상에결상하는대물렌즈를구비한것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明实施例的电子束光刻设备包括：用于发射电子束的电子枪装置; 高度调节单元，其设置在所述电动枪装置的光轴方向后方，能够调整所述电动枪装置的高度位置; 电光透镜，其设置在所述高度调节单元的光轴方向后方，并且会聚所述电子束; 透镜控制单元，用于通过调节电动枪装置的可变高度位置来控制电镜头，使电子束在每个高度位置的某个位置形成交叉; 以及物镜，其在光轴方向上布置在电透镜后面，并且使用通过电镜的电子束在样品上形成图像。

2. 发明授权

KR102241070B1 하전 입자 빔 묘화 장치 및 하전 입자 빔 묘화 방법 有权
公开(公告)号：KR102241070B1
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：KR1020190056821
申请日：2019-05-15
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 노무라하루유키 , 카미쿠보타카시
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 본발명의실시형태는, 하전입자빔 묘화장치및 하전입자빔 묘화방법에관한것이다. 하전입자빔 묘화장치는, 묘화대상물을재치하는스테이지를수납하는묘화실과, 상기스테이지에재치된상기묘화대상물에하전입자빔을조사하는빔 조사부와, 상기스테이지를이동시키는스테이지구동부와, 상기스테이지의이동이력정보에기초하여, 상기묘화실내의열원에의한상기묘화대상물의온도분포를계산하는온도분포계산부와, 상기스테이지에재치된상기묘화대상물의구속조건과, 상기계산된온도분포에기초하여, 상기묘화대상물의변형량을계산하는변형량계산부와, 상기계산된변형량에기초하여, 상기묘화대상물로의하전입자빔의조사위치를보정하는위치보정부를구비한다. 상기빔 조사부는, 상기위치보정부에서보정된조사위치에기초하여상기하전입자빔을조사한다.

3. 发明授权

KR101915658B1 전자빔 묘화 장치, 및 전자빔의 수렴 반각 조정 방법 有权
公开(公告)号：KR101915658B1
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：KR1020150052893
申请日：2015-04-15
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 노무라하루유키
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/06 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/1471 , H01J37/045 , H01J37/10 , H01J2237/043 , H01J2237/063 , H01J2237/06375 , H01J2237/1502
摘要： 본발명의일태양의전자빔묘화장치는, 전자빔을방출하는전자총기구와, 광축방향에대하여전자총기구보다후측에배치되고, 전자총기구의높이위치를가변으로조정가능한높이조정부와, 광축방향에대하여높이조정부보다후측에배치되고, 전자빔을수렴시키는전자렌즈와, 전자총기구의높이위치가가변으로조정되어변화된높이위치마다, 소정의위치에전자빔이크로스오버를형성하도록전자렌즈를제어하는렌즈제어부와, 광축방향에대하여전자렌즈보다후측에배치되고, 전자렌즈를통과한상기전자빔을시료상에결상하는대물렌즈를구비한것을특징으로한다.

4. 发明授权

KR101873462B1 하전 입자빔의 조사량 보정용 파라미터의 취득 방법, 하전 입자빔 묘화 방법 및 하전 입자빔 묘화 장치 有权
公开(公告)号：KR101873462B1
公开(公告)日：2018-07-02
申请号：KR1020160153930
申请日：2016-11-18
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 노무라하루유키
IPC分类号： G03F1/36 , G03F1/72 , G03F1/20 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2061 , G03F7/70516 , H01J37/31
摘要： 본발명의일 태양의하전입자빔의조사량보정용파라미터의취득방법은, 하전입자빔을이용하여레지스트가도포된기판상에복수의평가패턴을묘화하고, 평가패턴마다묘화조건을가변으로하면서, 묘화조건마다, 복수의평가패턴중 상이한어느하나의평가패턴의주변에, 상기평가패턴의묘화에의한레지스트의온도상승의영향을무시할수 있는시간이경과한후, 하전입자빔의복수의샷을이용하여대응되는묘화조건에따라주변패턴을묘화하고, 상기묘화조건마다, 주변에상기주변패턴이묘화된상기평가패턴의폭 치수를측정하고, 상기묘화조건마다, 상기복수의샷의각 샷으로부터상기평가패턴에도달하는후방산란도스량을연산하고, 상기묘화조건마다, 상기복수의샷의각 샷시에서의상기샷 시보다전의샷으로부터의열 전달에의한상기평가패턴의온도상승량을연산하고, 상기묘화조건마다의평가패턴의폭 치수와, 상기묘화조건마다의각 샷시에서의상기평가패턴의온도상승량과, 상기묘화조건마다의각 샷으로부터의평가패턴으로의후방산란도스량을이용하여, 평가패턴의폭 치수변동량과평가패턴의온도상승량과평가패턴에도달하는후방산란도스량의상관관계를정의하는상관파라미터를연산하고, 출력하는것을특징으로한다.

5. 发明公开

KR1020170058310A 하전 입자빔의 조사량 보정용 파라미터의 취득 방법, 하전 입자빔 묘화 방법 및 하전 입자빔 묘화 장치 审中-实审
标题翻译：带电粒子束获取方法，带电粒子束的描绘方法和带电粒子束描绘设备的剂量校正参数
公开(公告)号：KR1020170058310A
公开(公告)日：2017-05-26
申请号：KR1020160153930
申请日：2016-11-18
申请人： 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
发明人： 노무라하루유키
IPC分类号： G03F1/36 , G03F1/72 , G03F1/20 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2061 , G03F7/70516 , H01J37/31
摘要： 본발명의일 태양의하전입자빔의조사량보정용파라미터의취득방법은, 하전입자빔을이용하여레지스트가도포된기판상에복수의평가패턴을묘화하고, 평가패턴마다묘화조건을가변으로하면서, 묘화조건마다, 복수의평가패턴중 상이한어느하나의평가패턴의주변에, 상기평가패턴의묘화에의한레지스트의온도상승의영향을무시할수 있는시간이경과한후, 하전입자빔의복수의샷을이용하여대응되는묘화조건에따라주변패턴을묘화하고, 상기묘화조건마다, 주변에상기주변패턴이묘화된상기평가패턴의폭 치수를측정하고, 상기묘화조건마다, 상기복수의샷의각 샷으로부터상기평가패턴에도달하는후방산란도스량을연산하고, 상기묘화조건마다, 상기복수의샷의각 샷시에서의상기샷 시보다전의샷으로부터의열 전달에의한상기평가패턴의온도상승량을연산하고, 상기묘화조건마다의평가패턴의폭 치수와, 상기묘화조건마다의각 샷시에서의상기평가패턴의온도상승량과, 상기묘화조건마다의각 샷으로부터의평가패턴으로의후방산란도스량을이용하여, 평가패턴의폭 치수변동량과평가패턴의온도상승량과평가패턴에도달하는후방산란도스량의상관관계를정의하는상관파라미터를연산하고, 출력하는것을특징으로한다.
摘要翻译：使用带电粒子束获得本发明的带电粒子束一个方面的剂量校正参数，以及与所述成像条件的每个时间，并绘制多个评价图案和评价模式的到抗蚀剂涂覆的基材的方法是可变的，成像每个条件，其中不同的一个的多个评价图案的一个评估图案的，时间后可以覆盖抗蚀剂的温度上升的效果，由于评估图案的描绘已经经过外围，使用多个带电粒子束的拍摄张在根据相应的成像条件和摄像条件的从每个图像的外围图案，测量周边图案的宽度是围绕绘制的评价图案，并且对于每个的摄像条件，所述多个镜头的各镜头每个计算反向散射剂量达到评估图案和成像条件下，计算由所述拍摄时刻信号的评价图案的温度增加量从先前拍摄eseoui传热窗扇每个多个拍摄的和，而在各摄像条件的评估图案，使用该评价图形的反向散射剂量从eseoui的每个镜头的每个的用于评价图案的每个的温度增加量的摄像条件中的每个框格的宽度，所述摄像条件，它的特征在于计算相关参数，其定义了评价图案和评估图案温度增加量的变化幅度及评价量后向散射剂量之间的关系达到的图案，并输出。

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