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1. 发明公开

KR1020150015028A 하전 입자들을 편향시키기 위한 편향 플레이트 및 편향 디바이스 审中-实审
标题翻译：用于偏置充电颗粒的偏转板和偏转装置
公开(公告)号：KR1020150015028A
公开(公告)日：2015-02-09
申请号：KR1020147037095
申请日：2012-06-01
申请人： 지멘스 악티엔게젤샤프트
发明人： 아프타커,피터시몬 , 비즐리,폴 , 하이트,올리버
IPC分类号： H01J37/147 , H05H7/00 , H05H9/00 , G21K1/087
CPC分类号： H01J37/147 , G21K1/087 , H01J2235/166 , H01J2237/15 , H05H7/00 , H05H9/00 , H05H2007/002
摘要： 본 발명은 하전 입자들을 편향시키기 위한 편향 플레이트(deflection plate)에 관한 것이며, 상기 편향 플레이트는 리세스(recess)를 포함한다.

2. 发明授权

KR101420244B1 전자빔 집속 전극 및 이를 이용한 전자총 有权
标题翻译：光束形成电极和使用其的电子枪
公开(公告)号：KR101420244B1
公开(公告)日：2014-07-21
申请号：KR1020080046748
申请日：2008-05-20
申请人： 삼성전자주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
发明人： 백찬욱 , 아누락스리바스타바 , 김종민 , 김선일 , 손영목 , 박건식 , 소진규
IPC分类号： H01J29/51 , H01J29/48 , H01J29/02
CPC分类号： G21K1/087 , H01J1/13 , H01J1/30 , H01J1/46
摘要： 다각형 관통홀을 포함하는 플레이트; 및 상기 관통홀의 적어도 한 변에 형성된 돌출부를 포함하는 전자빔 집속 전극과 상기 전자빔 집속 전극을 이용한 전자총이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전자빔 집속 전극을 이용하면, 사각형 형상의 단면을 갖는 전자빔의 퍼짐 현상을 감소시킬 수 있으며, 전자총의 출력을 증가시키는 동시에 전자빔을 집속하는 것이 용이한 이점이 있다.
전자빔 집속 전극, BFE, 전자총, 사각형

3. 发明公开

KR1020160051894A 하전 입자 광 디바이스 审中-实审
标题翻译：充电颗粒光学器件
公开(公告)号：KR1020160051894A
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：KR1020167009093
申请日：2014-09-05
申请人： 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
发明人： 샤투소해일 , 비테벤주스트 , 로젠탈아론 , 코닝요한주스트
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/317
CPC分类号： G21K1/093 , G21K1/087 , H01F2007/068 , H01J37/1475 , H01J37/3177 , H01J2237/1526 , H01J2237/31774
摘要： 본발명은다수의하전입자빔렛의궤도를조작하기위한하전입자광 디바이스에관한것이다. 상기하전입자광 디바이스는평면형기판을구비하는전자기디플렉터를포함하고, 평면형기판은상부면및 하부면과, 균등한두께를갖는다. 기판은하나이상의빔렛이통과되게하는관통개구로서, 상기기판의상부면과하부면에서나오는것인관통개구; 제1 코일및 제2 코일을포함하고, 상기제1 코일및 제2 코일각각은실질적으로나선형코일이고, 상부면상에배치되는전도성상부리드, 하부면상에배치되는전도성하부리드, 및상기기판을통해연장되는비아를포함하며, 비아는상기상부리드중 하나를상기하부리드중 하나와전도성으로연결시켜상기코일을형성하고, 상기제1 코일과제2 코일은관통개구의양쪽에배치된다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于操纵带电粒子的多个子束的轨迹的带电粒子光学装置。所述带电粒子光学器件包括电磁偏转器，该电磁偏转器包括具有所述基底的上侧和下侧的平面基底和均匀的厚度。基板包括：用于使所述子束通过的通孔，其中所述通孔在所述基板的上侧和下侧消失; 第一和第二线圈，其中每个所述线圈优选地是基本上螺旋形的线圈，并且包括导通布置在上侧的上引线，导电布置在下侧的下引线和穿过所述基板的通孔，并且导通地连接所述上引线与所述下导线之一形成所述线圈; 其中所述第一和第二线圈布置在所述通孔的任一侧上。

4. 发明授权

KR101316438B1 다중-필드 하전 입자 암 치료 방법 및 장치 有权
标题翻译：多场充电颗粒癌治疗方法和装置
公开(公告)号：KR101316438B1
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：KR1020117023033
申请日：2009-03-04
申请人： 자크리토에 악치오네르노에 오브쉐스트보 프로톰
发明人： 발라킨,블라디미르예고르비치
IPC分类号： A61N5/10 , G21G4/08 , G21G1/00 , H05H13/04
CPC分类号： H05H13/04 , A61N5/10 , A61N5/1064 , A61N5/1081 , A61N2005/0641 , A61N2005/1087 , G21K1/087 , G21K1/093 , G21K1/10 , H05H7/10
摘要： 본 발명은 일반적으로 고형암의 처치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 음 이온 비임 생성, 이온 비임 포커싱, 하전 입자 가속, 환자 회전, 및/또는 환자 레스퍼레이션으로 조정된 다중-필드 하전 입자 암 치료 방법 및 장치에 관한 것이다. 바람직하게는, 하전 입자 치료는 부분적으로 부동화되고 재 위치설정가능한 위치에서 환자에게 수행된다. 양자 전달은 바람직하게는 하전 입자 비임 주입, 가속 및/또는 타겟팅 방법 및 장치의 제어를 경유하여 환자 레스퍼레이션과 조화되는 것이 바람직하다.

5. 发明授权

KR101897113B1 X선장치 및 이를 구비한 CT장비 有权
公开(公告)号：KR101897113B1
公开(公告)日：2018-10-18
申请号：KR1020167008289
申请日：2014-09-17
申请人： 눅테크 컴퍼니 리미티드 , 칭화대학교
发明人： 탕,후아핑 , 탕,추안시앙 , 첸,화이비 , 후앙,웬휘 , 쟝,후아위 , 젱,슈신 , 리우,진셍
IPC分类号： H01J35/02 , G21K1/087 , H01J35/14 , H01J35/06 , H01J35/04 , H01J35/10
CPC分类号： H01J35/025 , G21K1/087 , H01J35/02 , H01J35/045 , H01J35/06 , H01J35/10 , H01J35/14 , H01J2235/062 , H01J2235/068 , H01J2235/086 , H01J2235/087
摘要： 본발명은 2차원분산형 X선장치에관한것으로, 4면이밀봉되고내부가고진공인진공박스(3); 진공박스(3)의박스벽의 1개평면에 2차원배열의방식으로배치된복수의전자방출유닛(1); 복수의전자방출유닛(1)과대응되는타겟(202)을구비하여, 진공박스(3) 내에서복수의전자방출유닛이위치되는평면과평행한방식으로배치된양극(2); 양극(2)과연결되는고압전원(702), 복수의전자방출유닛(1) 각각과연결되는필라멘트전원(704), 복수의전자방출유닛(1) 각각과연결되는그리드제어장치(703) 및각 전원을제어하는제어시스템(701)을구비하는전원및 제어시스템을구비하고, 양극은, 금속으로제조되고전자방출유닛(1)의상면에평형되는양극판(201); 양극판(201)에장착되고, 각각전자방출유닛(1)의위치와대응되는방식으로배치된복수의타겟(202)을포함하고, 타겟(202)의저면은양극판(201)과연결되고, 윗면은양극판(201)과소정의각도를형성한다.

6. 发明公开

KR1020160084835A X선장치 및 이를 구비한 CT장비 审中-实审
标题翻译：具有X射线装置的X射线装置和CT装置
公开(公告)号：KR1020160084835A
公开(公告)日：2016-07-14
申请号：KR1020167008289
申请日：2014-09-17
申请人： 눅테크 컴퍼니 리미티드 , 칭화대학교
发明人： 탕,후아핑 , 탕,추안시앙 , 첸,화이비 , 후앙,웬휘 , 쟝,후아위 , 젱,슈신 , 리우,진셍
IPC分类号： H01J35/02 , G21K1/087 , H01J35/14 , H01J35/06 , H01J35/04 , H01J35/10
CPC分类号： H01J35/025 , G21K1/087 , H01J35/02 , H01J35/045 , H01J35/06 , H01J35/10 , H01J35/14 , H01J2235/062 , H01J2235/068 , H01J2235/086 , H01J2235/087
摘要： 본발명은 2차원분산형 X선장치에관한것으로, 4면이밀봉되고내부가고진공인진공박스(3); 진공박스(3)의박스벽의 1개평면에 2차원배열의방식으로배치된복수의전자방출유닛(1); 복수의전자방출유닛(1)과대응되는타겟(202)을구비하여, 진공박스(3) 내에서복수의전자방출유닛이위치되는평면과평행한방식으로배치된양극(2); 양극(2)과연결되는고압전원(702), 복수의전자방출유닛(1) 각각과연결되는필라멘트전원(704), 복수의전자방출유닛(1) 각각과연결되는그리드제어장치(703) 및각 전원을제어하는제어시스템(701)을구비하는전원및 제어시스템을구비하고, 양극은, 금속으로제조되고전자방출유닛(1)의상면에평형되는양극판(201); 양극판(201)에장착되고, 각각전자방출유닛(1)의위치와대응되는방식으로배치된복수의타겟(202)을포함하고, 타겟(202)의저면은양극판(201)과연결되고, 윗면은양극판(201)과소정의각도를형성한다.
摘要翻译：本公开的二维阵列分布式X射线装置包括：真空箱，其外围密封，其内部为高真空; 多个电子传输单元（1），其布置在真空箱壁上的二维阵列的一个平面中; 阳极（2）具有与多个电子发射单元相对应的靶，所述多个电子发射单元与真空箱中的多个电子发射单元的平面平行布置; 具有连接到阳极的高压电源的电源和控制系统，连接到多个电子发射单元中的每一个的灯丝电源，连接到多个电子发射单元中的每一个的电网控制装置，用于控制每个电源的控制系统; 其中所述阳极包括：由金属制成并平行于所述电子发射单元的上表面的阳极板; 布置在阳极板上并对应于电子发射单元的位置设置的多个靶，靶的底表面连接到阳极板，靶的上表面与阳极板具有预定的角度。

7. 发明公开

KR1020110133584A 다중-필드 하전 입자 암 치료 방법 및 장치 有权
标题翻译：多场充电颗粒癌治疗方法和装置
公开(公告)号：KR1020110133584A
公开(公告)日：2011-12-13
申请号：KR1020117023033
申请日：2009-03-04
申请人： 자크리토에 악치오네르노에 오브쉐스트보 프로톰
发明人： 발라킨,블라디미르예고르비치
IPC分类号： A61N5/10 , G21G4/08 , G21G1/00 , H05H13/04
CPC分类号： H05H13/04 , A61N5/10 , A61N5/1064 , A61N5/1081 , A61N2005/0641 , A61N2005/1087 , G21K1/087 , G21K1/093 , G21K1/10 , H05H7/10
摘要： 본 발명은 일반적으로 고형암의 처치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 음 이온 비임 생성, 이온 비임 포커싱, 하전 입자 가속, 환자 회전, 및/또는 환자 레스퍼레이션으로 조정된 다중-필드 하전 입자 암 치료 방법 및 장치에 관한 것이다. 바람직하게는, 하전 입자 치료는 부분적으로 부동화되고 재 위치설정가능한 위치에서 환자에게 수행된다. 양자 전달은 바람직하게는 하전 입자 비임 주입, 가속 및/또는 타겟팅 방법 및 장치의 제어를 경유하여 환자 레스퍼레이션과 조화되는 것이 바람직하다.

8. 发明公开

KR1020120049821A 편향기 어레이, 하전 입자 묘화 장치, 디바이스 제조 방법, 편향기 어레이의 제조 방법 无效
标题翻译：偏转阵列，充电颗粒光束绘图装置，装置制造方法和偏光阵列制造方法
公开(公告)号：KR1020120049821A
公开(公告)日：2012-05-17
申请号：KR1020110115598
申请日：2011-11-08
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 야마자끼도루 , 구와바라마사미찌 , 히라따요시히로
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G21K1/087 , H01J37/045 , H01J2237/0437 , H01J2237/31754 , H01J2237/31774 , H01L21/0275 , G03F7/2059
摘要： PURPOSE: A deflector array, a charged particle beam drawing apparatus, a device manufacturing method, and a method for manufacturing the deflector array are provided to improve a manufacturing yield by preparing a partitioned deflector chip. CONSTITUTION: A base substrate(207) includes a plurality of openings. A plurality of deflector chips(116) includes the plurality of openings. The plurality of deflector chips includes a plurality of electrode pairs. The electrode pairs are arranged on both sides of at least some openings of the openings on the deflector chips. The plurality of deflector chips is fixed to the base substrate.
摘要翻译：目的：提供偏转器阵列，带电粒子束描绘装置，装置制造方法和制造偏转器阵列的方法，以通过制备分隔的偏转片来提高制造成品率。构成：基底（207）包括多个开口。多个偏转器片（116）包括多个开口。多个偏转器芯片包括多个电极对。电极对布置在偏转片上的开口的至少一些开口的两侧。多个偏转片固定在基底基板上。

9. 发明公开

KR1020090120777A 전자빔 집속 전극 및 이를 이용한 전자총 有权
标题翻译：光束形成电极和电子枪使用它
公开(公告)号：KR1020090120777A
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：KR1020080046748
申请日：2008-05-20
申请人： 삼성전자주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
发明人： 백찬욱 , 아누락스리바스타바 , 김종민 , 김선일 , 손영목 , 박건식 , 소진규
IPC分类号： H01J29/51 , H01J29/48 , H01J29/02
CPC分类号： G21K1/087 , H01J1/13 , H01J1/30 , H01J1/46
摘要： PURPOSE: An electron beam focusing electrode and an electron gun using the same are provided to focus the electron to an anode direction separated from a cathode by passing the electron through the penetration hole of the electron beam focusing electrode. CONSTITUTION: A cross section of a second surface(32) of a penetration hole(33) emitting the electron is larger than the cross section of a first surface(31) of the penetration hole. The cross section of the penetration hole is inclined to the progressing direction of the electron beam passing through the inside of the penetration hole. A protrusion(34) is formed in at least one side of the penetration hole. The orbit of the electrons passing through the inside of the penetration hole is controlled by the protrusion. The distortion of the electric field is decreased in an edge part of the electron beam. The uniformity of the electron beam from the electron gun is improved.
摘要翻译：目的：提供电子束聚焦电极和使用该电子束聚焦电极的电子枪，以通过使电子通过电子束聚焦电极的穿透孔将电子聚焦到与阴极分离的阳极方向上。构成：发射电子的穿透孔（33）的第二表面（32）的横截面大于穿透孔的第一表面（31）的横截面。穿透孔的横截面向穿过穿透孔内部的电子束的前进方向倾斜。突起（34）形成在贯通孔的至少一侧。穿过穿透孔内部的电子的轨道由突起控制。在电子束的边缘部分，电场的变形减小。来自电子枪的电子束的均匀性得到改善。

10. 发明公开

KR1020070034570A 대전 입자 비임을 블랭킹하는 장치 无效
标题翻译：用于消隐带电粒子束的设备
公开(公告)号：KR1020070034570A
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：KR1020077000161
申请日：2005-05-13
申请人： 나노빔 리미티드
发明人： 짱타오
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/09 , H01J37/147 , G03F7/00
CPC分类号： G21K1/087 , H01J37/045 , H01J37/09 , H01J37/1472 , H01J37/15 , H01J2237/028 , H01J2237/0451 , H01J2237/3175
摘要： 대전된 입자 비임을 블랭킹하기 위한 장치가 개시된다. 비임 블랭킹 유니트(1)는 지지용 플레이트(15)에 장착된 제 1 및 제 2 블랭킹 플레이트(2,3)를 구비한다. 정지부(4)는 제 1 블랭킹 플레이트(2)에 기계적으로 그리고 전기적으로 연결된다.

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