基本信息:
- 专利标题： 편향기 어레이, 하전 입자 묘화 장치, 디바이스 제조 방법, 편향기 어레이의 제조 방법
- 专利标题（英）：Deflector array, charged particle beam drawing apparatus, device manufacturing method, and deflector array manufacturing method
- 专利标题（中）：偏转阵列，充电颗粒光束绘图装置，装置制造方法和偏光阵列制造方法
- 申请号：KR1020110115598 申请日：2011-11-08
- 公开(公告)号：KR1020120049821A 公开(公告)日：2012-05-17
- 发明人： 야마자끼도루 , 구와바라마사미찌 , 히라따요시히로
- 申请人： 캐논 가부시끼가이샤
- 申请人地址： **-*, Shimomaruko *-chome, Ohta-ku, Tokyo, Japan
- 专利权人： 캐논 가부시끼가이샤
- 当前专利权人： 캐논 가부시끼가이샤
- 当前专利权人地址： **-*, Shimomaruko *-chome, Ohta-ku, Tokyo, Japan
- 代理人： 장수길; 박충범
- 优先权： JPJP-P-2010-251162 2010-11-09
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; G03F7/20
摘要：
PURPOSE: A deflector array, a charged particle beam drawing apparatus, a device manufacturing method, and a method for manufacturing the deflector array are provided to improve a manufacturing yield by preparing a partitioned deflector chip. CONSTITUTION: A base substrate(207) includes a plurality of openings. A plurality of deflector chips(116) includes the plurality of openings. The plurality of deflector chips includes a plurality of electrode pairs. The electrode pairs are arranged on both sides of at least some openings of the openings on the deflector chips. The plurality of deflector chips is fixed to the base substrate.
摘要（中）：
目的：提供偏转器阵列，带电粒子束描绘装置，装置制造方法和制造偏转器阵列的方法，以通过制备分隔的偏转片来提高制造成品率。 构成：基底（207）包括多个开口。 多个偏转器片（116）包括多个开口。 多个偏转器芯片包括多个电极对。 电极对布置在偏转片上的开口的至少一些开口的两侧。 多个偏转片固定在基底基板上。
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |