基本信息:
- 专利标题： 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
- 专利标题（英）：Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）：LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
- 申请号：KR1020147003810 申请日：2012-07-20
- 公开(公告)号：KR101633744B1 公开(公告)日：2016-06-27
- 发明人： 블리커아르노 , 드빈터로렌티우스
- 申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
- 申请人地址： P.O.Box ***, **** AH Veldhoven, The Netherlands
- 专利权人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
- 当前专利权人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
- 当前专利权人地址： P.O.Box ***, **** AH Veldhoven, The Netherlands
- 代理人： 유미특허법인
- 优先权： US61/525,029 2011-08-18
- 国际申请： PCT/EP2012/064302 2012-07-20
- 国际公布： WO2013023876 2013-02-21
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; G03F7/20
摘要：
리소그래피장치가제공되며패터닝된방사선빔을기판상에투영하도록구성된다. 이러한장치는상기기판상의레지스트층의두께에관련된측정데이터를제공하기위한측정시스템, 및기판상에투영될패터닝된빔의방사선세기레벨이측정데이터에기반하여측정되도록, 리소그래피장치의동작을제어하기위한콘트롤러를포함한다.
摘要（中）：
光刻设备被提供和配置成将图案化的辐射束投影到衬底上。 该装置具有测量系统，以提供与衬底上的抗蚀剂层的厚度相关的测量数据，以及控制器，用于控制光刻设备的操作，使得待投影到衬底上的图案化束中的辐射强度水平为 根据测量数据进行控制。
摘要（英）：
And it is provided a lithographic apparatus configured to project a patterned beam of radiation onto a substrate. These devices control the operation of the lithographic apparatus is measured based on the measurement system, and the radiation intensity level is measured data of a patterned beam to be projected onto the substrate for providing measurement data related to the thickness of the resist layer on the substrate for and a controller.
公开/授权文献:
- KR1020140036027A 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 公开/授权日：2014-03-24
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |