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1. 发明公开

KR1020170047101A OPC 이용한 마스크 제조방법 및 반도체 소자 제조방법 审中-实审
标题翻译：使用OPC制造掩模的方法和用于制造半导体器件的方法
公开(公告)号：KR1020170047101A
公开(公告)日：2017-05-04
申请号：KR1020150147545
申请日：2015-10-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석 , 량원칭
IPC分类号： H01L21/033 , G03F1/36 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/36 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： 본발명의기술적사상은계층구조를유지하면서더미패턴들을형성함으로써, TAT(Turn Around Time) 감소및 시스템의요구성능을낮출수 있는마스크제조방법및 반도체소자제조방법을제공한다. 그마스크제조방법은메인(main) 패턴에대한레이아웃(layout)을디자인하는단계; 상기레이아웃에대하여통합 OPC(Optical Proximity Correction)를수행하는단계; 상기통합 OPC를통해획득한디자인데이터를 MTO(Mask Tape-Out) 디자인데이터로서전달하는단계; 상기 MTO 디자인데이터에기초하여마스크데이터를준비하는단계; 및상기마스크데이터에기초하여마스크용기판상에노광을수행하는단계;를포함하고, 상기통합 OPC를수행하는단계에서, 계층구조(hierarchical structure)를유지하면서더미(dummy) 패턴을생성한다.
摘要翻译：本发明的技术思想提供掩模制造方法和半导体器件制造方法，其通过在保持分层结构的同时形成虚拟图案来减少系统的转弯时间（TAT）和所需性能。该掩模制造方法包括：设计用于主图案的布局; 在布局上执行集成的OPC（Optical Proximity Correction）; 将通过集成的OPC获取的设计数据作为掩模带出（MTO）设计数据传输; 根据MTO设计数据准备掩模数据; 然后，基于掩模数据对掩模容器板进行曝光，在进行一体化的OPC的情况下，在维持分层结构的同时生成虚拟图案。

2. 发明公开

KR1020130137955A 반도체 장치 审中-实审
标题翻译：半导体器件
公开(公告)号：KR1020130137955A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：KR1020120061674
申请日：2012-06-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석
IPC分类号： H01L21/768 , H01L21/28
CPC分类号： H01L23/49827 , H01L21/76838 , H01L21/76885 , H01L23/49822 , H01L23/5286 , H01L24/05 , H01L2224/02166 , H01L2224/05073 , H01L2224/05553 , H01L2224/05624 , H01L2224/05666 , H01L2224/05681 , H01L2924/00014
摘要： A semiconductor device is provided. The semiconductor device includes signal lines providing signals to an IC part and formed on a substrate; and at least one power line comprising a lamination structure of a first power line and a second power line formed on the first power line and providing power to the IC part on the substrate.
摘要翻译：提供半导体器件。半导体器件包括向IC部分提供信号并形成在衬底上的信号线; 以及至少一个电源线，其包括形成在所述第一电力线上的第一电力线和第二电力线的层叠结构，并向所述基板上的所述IC部提供电力。

3. 发明公开

KR1020080003487A 노광 장치 无效
标题翻译：露出装置
公开(公告)号：KR1020080003487A
公开(公告)日：2008-01-08
申请号：KR1020060061790
申请日：2006-07-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박태진 , 이중현 , 심우석 , 김시현
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70216 , G03F7/70091 , G03F7/70241 , G03F7/70275 , G03F7/7055
摘要： An exposing apparatus is provided to simplify a mask manufacturing process and improve a semiconductor production yield by replacing several masks with one LCD mask. An exposing apparatus includes a light source unit(1), an illumination system(2), an LCD mask, and a lens system(3). The light source unit emits light to an object. The illumination system collects the light. The LCD mask is installed in a lower part of the illumination system. The LCD mask has a liquid crystal layer which selectively transmits the collected light. The lens system is installed between the LCD mask and the object. The lens system reduces and projects the light penetrating the LCD mask onto the object. The LCD mask includes a first substrate, a second substrate, a TFT layer, and a first polarized plate and a second polarized plate. The first and second polarized plates are installed in the outsides of the first and second substrates, respectively.
摘要翻译：提供一种曝光装置以简化掩模制造工艺，并通过用一个LCD掩模代替多个掩模来提高半导体生产成品率。曝光装置包括光源单元（1），照明系统（2），LCD掩模和透镜系统（3）。光源单元向对象发光。照明系统收集光。 LCD面罩安装在照明系统的下部。 LCD掩模具有选择性地透射所收集的光的液晶层。透镜系统安装在LCD面板和对象之间。透镜系统减少并将透过LCD面罩的光投射到物体上。 LCD掩模包括第一基板，第二基板，TFT层，第一偏光板和第二偏光板。第一和第二偏振板分别安装在第一和第二基板的外侧。

4. 发明公开

KR1020070030429A 반도체 장치 제조를 위한 레이저 시스템 无效
标题翻译：高重复激光多腔
公开(公告)号：KR1020070030429A
公开(公告)日：2007-03-16
申请号：KR1020050085076
申请日：2005-09-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석 , 서전석 , 이중현 , 윤광섭 , 박세영
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70191
摘要： 반도체 장치 제조를 위한 레이저 시스템에 있어서, 시드 광 발진부는 시드 광(seed light)을 발생시킨다. 상기 시드 광의 경로 상에 배치된 광학 부재들은 상기 시드 광을 순차적으로 분할된다. 다수의 레이저 빔 발진부들은 상기 분할된 광들을 각각 증폭시켜 펄스형 레이저 빔들을 형성한다. 상기 광학 부재들은 상기 분할된 광들이 각각 서로 다른 시간차를 두고 상기 레이저 빔 발진부들로 제공되도록 광학 지연 물질(optical retarder material)로 이루어진다. 따라서, 시드 광 발진부로부터 생성된 시드 광은 광학 지연 물질에 의해 시간차를 가지고 레이저 빔 발진부들로 분할 제공되어 높은 반복도(high repetition rate)를 갖는 펄스형 레이저 빔이 발생될 수 있다.

5. 发明授权

KR100685743B1 광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치 有权
标题翻译：光学元件支架和投影曝光装置
公开(公告)号：KR100685743B1
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：KR1020050053767
申请日：2005-06-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석 , 이중현 , 한영국 , 윤광섭 , 이시형
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G02B7/00 , G03F7/701 , G03F7/70825
摘要： 광학 부재 홀더와 이를 갖는 투영 노광 장치에서, 광원으로부터 조사된 광 빔은 광학 부재 홀더에 의해 지지된 다수의 광학 부재들을 통해 목적하는 형태를 갖는 조명광으로 형성된다. 상기 광학 부재 홀더는 상기 광 빔을 서로 다른 형태의 조명광들로 형성하기 위한 다수의 광학 부재들이 원주 방향으로 배열되도록 지지하는 지지부재와, 상기 광학 부재들 중에서 하나를 선택하기 위하여 상기 지지부재를 회전시키며 상기 선택된 광학 부재의 배치 방향을 조절하기 위하여 상기 선택된 광학 부재를 회전시키는 회전 구동부를 포함한다. 상기 선택된 광학 부재를 통과한 조명광은 레티클 및 투영 광학 시스템을 통하여 기판 상으로 조사된다. 상기와 같이 선택된 광학 부재의 배치 방향을 조절할 수 있으므로, 상기 광학 부재들의 사용 효율 및 투영 노광 장치의 가동율을 크게 향상시킬 수 있다.

6. 发明授权

KR100542735B1 빔 전송 시스템 및 이를 갖는 웨이퍼 에지 노광 장치 失效
标题翻译：光束传送系统和具有该光束传送系统的晶片边缘曝光设备
公开(公告)号：KR100542735B1
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：KR1020030025307
申请日：2003-04-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석 , 여기성 , 이중현 , 이성우
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2028
摘要： 웨이퍼 에지 노광 공정에 사용되는 빔 전송 시스템이 개시되어 있다. 레이저로부터 발생된 레이저빔은 빔 분할 유닛에 의해 다수의 분할된 레이저빔으로 순차적으로 분할된다. 다수의 분할된 레이저빔들은 웨이퍼 상에 형성되어 있는 포토레지스트 막의 특성을 변화시키는 파장과 충분한 세기를 각각 갖는다. 다수의 분할된 레이저빔들은 다수의 빔 전송 부재를 통해 다수의 웨이퍼 에지 노광 장치로 전송된다. 따라서, 웨이퍼 에지 노광 공정의 효율이 향상된다.

7. 发明公开

KR1020050111931A 반도체 기판 노광 장치 无效
标题翻译：半导体衬底曝光装置
公开(公告)号：KR1020050111931A
公开(公告)日：2005-11-29
申请号：KR1020040036864
申请日：2004-05-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석 , 이대엽 , 김준성 , 송인상 , 조용진
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： 반도체 기판 상에 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 노광 장치에 있어서, 광 반사 유닛은 다층막으로 적층되어 형성되며, 광원으로부터 생성된 광을 임의의 애퍼처 형상을 가지도록 반사하기 위한 마이크로 미러 어레이를 포함한다. 상기 다층막은 서로 다른 굴절율을 갖는 물질이 교대로 적층되며, 그 두께는 각각 상기 광 파장의 1/4배이다. 상기 마이크로 미러를 이용하여 상기 광을 최대한 반사시킬 수 있고, 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 애퍼처의 형태를 임의로 형성할 수 있다.

8. 发明公开

KR1020050103057A 반도체 기판 노광 장치 无效
标题翻译：用于固定移动载体的装置
公开(公告)号：KR1020050103057A
公开(公告)日：2005-10-27
申请号：KR1020040028453
申请日：2004-04-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/701
摘要： 반도체 기판 상에 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 노광 장치에 있어서, 다수의 애퍼처 플레이트는 광원에서 생성된 광의 진행 방향과 수직하도록 중복되어 배치되고, 상기 광의 진행 방향과 평행한 중심축을 기준으로 각각 회전 가능하다. 상기 회전을 통해 다수의 애퍼처 플레이트는 다양한 형태의 애퍼처를 형성할 수 있고, 상기 애퍼처를 통해 상기 광을 선택적으로 통과시켜 다양한 형태의 폴을 갖는 오프 액시스 조명 빔으로 형성한다. 따라서 상기 노광 장치는 애퍼처 플레이트의 교체 없이 다양한 형태의 애퍼처를 형성할 수 있다.

9. 发明公开

KR1020050064344A 웨이퍼 에지 전면 노광 시스템 및 이를 이용한 웨이퍼에지 노광 방법 无效
标题翻译： WAFER边缘全部接触系统及其边缘接触方法
公开(公告)号：KR1020050064344A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：KR1020030095703
申请日：2003-12-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김대중 , 심우석 , 김미연
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 웨이퍼 에지를 노광하는 시스템과 웨이퍼 에지 노광 방법을 제공한다. 기존의 노광 시스템에 광원에서 나오는 빔을 웨이퍼 전면으로 확장시키기 위한 빔 익스팬더와 웨이퍼 에지 부분만 노광하기 위한 에지 노광 마스크를 도입함으로써 웨이퍼 에지를 전면 노광한다. 웨이퍼 에지를 한번에 전면 노광함으로써 웨이퍼 에지 노광에 걸리는 시간을 단축할 수 있다.

10. 发明公开

KR1020060134239A 광학 부재 홀더 및 이를 갖는 투영 노광 장치 有权
标题翻译：光学元件夹具和投影曝光装置
公开(公告)号：KR1020060134239A
公开(公告)日：2006-12-28
申请号：KR1020050053767
申请日：2005-06-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석 , 이중현 , 한영국 , 윤광섭 , 이시형
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G02B7/00 , G03F7/701 , G03F7/70825 , H01L21/683
摘要： An optical element holder and a projection exposing apparatus having the optical element holder are provided to select one optical element corresponding to a reticle pattern among plural optical elements by revolving the optical elements on the basis of a center axis of a support element. A support element(134) supports plural optical elements(132a,132d) to be arranged in a circumference direction. The optical elements form a different type illumination light. Rotational driving units(136,142) rotate the support element and the optical elements so that the optical elements revolves on the basis of a center axis of the support element and rotates on its own center axis. The support element has a disk shaped. Plural holes where the optical elements are inserted are formed in the circumference direction. Plural accommodations(138a,138d) are respectively inserted into the holes to be rotatable and accommodate the optical elements.
摘要翻译：提供具有光学元件保持器的光学元件保持器和投影曝光装置，通过基于支撑元件的中心轴旋转光学元件来选择与多个光学元件相对应的光罩图案的一个光学元件。支撑元件（134）支撑沿圆周方向布置的多个光学元件（132a，132d）。光学元件形成不同类型的照明光。旋转驱动单元（136,142）使支撑元件和光学元件旋转，使得光学元件基于支撑元件的中心轴线旋转并且在其自身的中心轴线上旋转。支撑元件具有盘形。在圆周方向上形成插入有光学元件的多个孔。多个住宅（138a，138d）分别插入孔中以可旋转并容纳光学元件。

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