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1. 发明公开

KR1020170042360A 렌즈 및 렌즈 몰드의 광학적 평가 방법 审中-实审
标题翻译：镜片和镜片模具的光学评估方法
公开(公告)号：KR1020170042360A
公开(公告)日：2017-04-18
申请号：KR1020177007211
申请日：2015-08-13
申请人： 지고 코포레이션
发明人： 꼴로나드레가하비에르 , 페이마틴에프. , 드그루트피터제이.
IPC分类号： G01M11/02
CPC分类号： G01M11/0271 , G01B11/2441 , G01M11/025
摘要： 렌즈부및 평행평면부를포함하는투명광요소에대한정보를결정하는방법에있어서, 상기렌즈부는적어도하나의만곡면을포함하고, 상기평행평면부는서로반대측인제 1 및제 2 면을포함하는, 방법은: 측정광을상기투명광요소로지향시키는단계; 상기평행평면부의제 1 면상의적어도하나의위치로부터반사된측정광을검출하는단계; 상기제 1 면상의적어도하나의위치에대응하는위치에서상기평행평면부의제 2 면으로부터반사된측정광을검출하는단계; 검출된광에기초하여, 상기평행평면부에대한정보를결정하는단계; 및상기평행평면부에대한정보에기초하여, 상기투명광요소를평가하는단계를포함한다.
摘要翻译：一种确定关于透明光元件的信息的方法，所述透明光元件包括透镜部分和平行平面部分，所述透镜部分包括至少一个凹槽曲面，其中所述平行平面部分包括彼此相对的第一和第二侧面，将测量光引导至透明光元件; 检测来自平行平面部分的第一平面上的至少一个位置的反射光; 在对应于第一表面上的至少一个位置的位置处检测从平行平面部分的第二表面反射的测量光; 基于检测到的光确定关于平行平面部分的信息; 并且基于关于平行平面部分的信息评估透明光元件。

2. 发明公开

KR1020150075355A 굴절률 분포 계측방법, 굴절률 분포 계측장치, 및 광학 소자의 제조방법 审中-实审
标题翻译：折射指数分布测量方法，折射率分布测量装置和制造光学元件的方法
公开(公告)号：KR1020150075355A
公开(公告)日：2015-07-03
申请号：KR1020140160549
申请日：2014-11-18
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 스기모토토모히로
IPC分类号： G01M11/02
CPC分类号： G01M11/0271 , G01M11/0285 , G01M11/00 , G01M11/02 , G01M11/0228 , G01N21/00 , G01N21/41
摘要： 굴절률분포계측방법은광원으로부터방출된빛을참조광과피검광으로분할하고, 상기참조광과, 상기피검물을투과한상기피검광을간섭시켜서, 제1 및제2 파장의각각에있어서의상기참조광과상기피검광간의위상차를측정하고, 상기제1 및제2 파장의각각에있어서의상기피검광의파면수차를측정하는것을포함한다. 이굴절률분포계측방법은제1 파장에있어서의위상차와제2 파장에있어서의위상차간의차분인위상차차분량을산출하고, 상기제1 파장에있어서의파면수차와상기제2 파장에있어서의파면수차간의차분인파면수차차분량을산출하며, 상기위상차차분량과상기파면수차차분량에의거하여상기피검물의굴절률분포를산출하는것을더 포함한다.
摘要翻译：根据本发明的折射率分布测量方法将从光源发射的光分成参考光和目标光，将参考光与目标物体透射的目标光干涉，测量参考光与目标之间的相位差测量第一波长和第二波长的光，并且测量在第一波长和第二波长处的目标光的波前像差。此外，折射率分布测量方法计算第一波长的相位差和第二波长的相位差之间的相位差的差异，计算第一波长的波前像差与波前像差之间的波前像差的差异并且根据相位差和波前像差的差来计算折射率分布。

3. 发明授权

KR101370171B1 비구면을 정밀 고해상도로 측정하는 방법 有权
公开(公告)号：KR101370171B1
公开(公告)日：2014-03-04
申请号：KR1020137034715
申请日：2006-04-05
申请人： 퀘드 테크놀러지즈 인터내셔날, 인크.
发明人： 머피폴이. , 밀라디노빅드라기샤 , 포브스그렉더블유. , 데브리스게리엠. , 플라익존에프.
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/30
CPC分类号： G01J9/02 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02063 , G01B9/02072 , G01B9/02085 , G01M11/025 , G01M11/0257 , G01M11/0271 , G01M11/0278
摘要： 본 발명은 테스트 파트에서 파면 또는 표면, 특히 비구면체 상의 높은 공간 주파수를 개선된 정확도를 가지고 측정하는 복수의 방법을 포함하는 시스템에 관한 것이다. 이 방법은 테스트 파트를 복수로 측정하는 것을 포함한다. 방법 중 하나는, 테스트 파트가 게이지에 대하여 재배치되는 경우, 해상력과 정확도의 손실을 방지하기 위하여 계측 게이지의 포커싱 구성요소의 보상과 제어를 포함한다. 다른 방법은 게이지의 고유 슬로프-의존 비균일 바이어스 안에 더 높은 공간-주파수 구조를 억제하는 종래 평균화 방법을 확장한다. 이들 방법 중 하나는 게이지의 바이어스가 명확하게 할 수 있도록 파트의 더 높은 공간-주파수 구조를 억제하는 평균을 포함한다; 다른 방법은 직접적으로 게이지의 바이어스를 측정 안에서 억제한다. 모든 방법은 특정 기하학과 태스크에 맞춰진 여러 구성안의 결합에서 사용될 수 있다.

4. 发明授权

KR101257960B1 광학적 결상 시스템의 결상 품질을 측정하기 위한 시스템 有权
标题翻译：用于测量光学成像系统的图像质量的系统
公开(公告)号：KR101257960B1
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：KR1020067025430
申请日：2005-06-02
申请人： 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
发明人： 멩겔마르쿠스 , 벵만울리히 , 에르만알브레히트 , 에머볼프강 , 클레멘트라이너 , 마티쎈루도
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0257 , G01M11/0214 , G01M11/0271 , G03F7/70341 , G03F7/70591 , G03F7/70716 , G03F7/70958 , Y10T428/31
摘要： 결상 시스템의 물체 표면에 배치된 패턴을 결상 시스템의 이미지 표면에 결상시키기 위해 제공되는 광학적 결상 시스템의 광학적 측정을 위한 측정 시스템은, 결상 시스템의 물체측에 배치되는 것으로, 물체측 측정 구조물을 갖는 물체측 구조물 담지체; 결상 시스템의 이미지측에 배치되는 것으로, 이미지측 측정 구조물을 갖는 이미지측 구조물 담지체; 상기 결상 시스템에 의해 물체측 측정 구조물이 이미지측 측정 구조물로 결상될 때, 중첩 패턴이 생성되도록 서로 정합되는 물체측 측정 구조물 및 이미지측 측정 구조물; 및 중첩 패턴의 국소적 분해를 얻기 위한 검출기;를 포함한다. 상기 결상 시스템은 액침 액체의 도움으로 결상을 하는 액침 시스템으로서 설계된다. 액침 액체의 영역 내에 배치되는 구조물 담지체에는 액침 액체에 의해 초래되는 열화에 대한 측정 구조물의 저항성을 증가시키기 위해 보호 시스템이 할당된다. 그럼으로써 액침 조건 하에서의 액침 시스템의 측정이 측정 정확성에 대한 액침 액체의 악영향 없이 가능하게 된다.

5. 发明公开

KR1020090058448A 간섭계 장치의 시스템 오차 교정 방법 失效
标题翻译：干涉仪的系统误差校准方法
公开(公告)号：KR1020090058448A
公开(公告)日：2009-06-09
申请号：KR1020080115235
申请日：2008-11-19
申请人： 후지논 가부시키가이샤
发明人： 사이토타카유키 , 게종타오
IPC分类号： G11B7/1378 , G01M11/00
CPC分类号： G11B7/1378 , G01M11/0271 , G11B7/1372
摘要： A system error calibration method of interferometer is provided to correct the measuring result of the wavefront aberration of test lens. A system error calibration method of interferometer comprises: a step of calculating a first aberration function corresponding to the wavefront aberration based on the interference pattern image; a step of calculating a second aberration function corresponding to the wavefront aberration based on the interference figure obtained as to the rotational phase for comparison; a step of calculating a first astigmatism function; a step of calculating a second astigmatism function; and a step of calculating a third astigmatism function.
摘要翻译：提供干涉仪的系统误差校准方法来校正测试镜的波前像差的测量结果。干涉仪的系统误差校准方法包括：基于干涉图案图像计算与波前像差对应的第一像差函数的步骤; 基于获得的用于比较的旋转相位的干涉图来计算与波前像差对应的第二像差函数的步骤; 计算第一散光函数的步骤; 计算第二散光函数的步骤; 以及计算第三散光功能的步骤。

6. 发明公开

KR1020080088480A 수차측정방법 및 코마수차측정방법 有权
标题翻译： ABERRATION测量方法，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020080088480A
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：KR1020080028681
申请日：2008-03-28
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 마에다히로노리
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G01M11/0264 , G01M11/0271 , G03F7/706 , G03F7/7085
摘要： An aberration measurement method, an exposure apparatus, and a manufacturing method of a device are provided to measure respectively a spherical aberration and a comma aberration from each other. An exposure apparatus includes a reticle stage(2) for supporting a reticle(1), a wafer stage(4) for supporting a wafer(3), and an illumination optic system(5) for illuminating the reticle. The exposure apparatus further includes a projection optic system(6) for projecting a reticle pattern on the wafer. In an aberration measurement method, a focal position of the projection optic system is obtained under a first measurement condition. The focal position of the projection optic system is obtained under a second measurement condition different from the first measurement condition. A spherical aberration of the projection system is measured on the basis of a difference between the focal positions.
摘要翻译：提供像差测量方法，曝光装置和装置的制造方法以分别测量彼此之间的球面像差和逗号差异。曝光装置包括用于支撑掩模版（1）的光罩平台（2），用于支撑晶片（3）的晶片台（4）和用于照亮所述掩模版的照明光学系统（5）。曝光装置还包括用于将掩模版图案投影在晶片上的投影光学系统（6）。在像差测量方法中，在第一测量条件下获得投影光学系统的焦点位置。在与第一测量条件不同的第二测量条件下获得投影光学系统的焦点位置。基于焦点位置之间的差来测量投影系统的球面像差。

7. 发明公开

KR1020080073649A 측정장치, 노광장치, 및 디바이스 제조방법 失效
标题翻译：测量装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020080073649A
公开(公告)日：2008-08-11
申请号：KR1020080010934
申请日：2008-02-04
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 가토세이마
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G01M11/0264 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01M11/0271 , G03F1/24 , G03F1/44 , G03F7/706 , G03F1/14
摘要： An apparatus for measuring the wave aberration of an optical system to be measured, an exposure apparatus, and a method for preparing a device are provided to reduce the noise of interference pattern, thereby improving the precision of the optical performance of an optical system. An apparatus for measuring the wave aberration of an optical system to be measured comprises a mask(30) for measurement which is inserted into the object surface of the optical system and comprises a plurality of reflection parts generating spherical wave; a diffraction optical device which diffracts the light passed through the mask and the optical system; and a detection part which detects the interference pattern formed by the interference of the light diffracted by the diffraction optical device. The mask for measurement comprises a light reflection layer(310); a first layer(322) which is layered on the reflection layer, has a plurality of apertures(322a, 322b) and comprises a first material; and a second layer(324) which is layered on the first layer, has a window for exposing the region where the plurality of apertures are arranged and comprises a second material different from the first material. The plurality of reflection parts are formed by the part exposed by the plurality of apertures.
摘要翻译：提供了一种用于测量待测光学系统的波像的装置，曝光装置和用于制备装置的方法，以减少干涉图案的噪声，从而提高光学系统的光学性能的精度。用于测量待测光学系统的波像的装置包括：插入到光学系统的物体表面中的测量用掩模（30），并且包括产生球面波的多个反射部分; 衍射光学装置，其衍射通过掩模和光学系统的光; 以及检测部，其检测由所述衍射光学装置衍射的光的干涉而形成的干涉图案。用于测量的掩模包括光反射层（310）; 层叠在反射层上的第一层（322）具有多个孔（322a，322b）并且包括第一材料; 并且层叠在第一层上的第二层（324）具有用于暴露多个孔布置的区域的窗口，并且包括不同于第一材料的第二材料。多个反射部分由多个孔露出的部分形成。

8. 发明公开

KR1020050102264A 자동 시준 장치를 구비한 점회절 간섭계 장치 失效
标题翻译：包含自动压片机的点分散干涉仪
公开(公告)号：KR1020050102264A
公开(公告)日：2005-10-26
申请号：KR1020040027447
申请日：2004-04-21
申请人： 한국전기연구원
发明人： 이경희 , 보즈네센스키니코레이비 , 키릴로브스키브라미디르케이
IPC分类号： G01N21/45
CPC分类号： G01M11/005 , G01M11/0271 , G01B9/02007 , G01N21/95607
摘要： 본 발명은 렌즈 및 거울 등 광학 부품의 표면 지형을 측정하기 위한 점회절 간섭계 장치에 관한 것이다. 본 발명은 압전 소자가 장착된 시준기를 구비한 점회절 간섭계 장치를 제공한다. 상기 시준기에 장착된 압전 소자는 검출기에서 검출된 간섭 무늬 패턴의 선명도에 근거하여 실시간으로 구동된다. 이에 따라, 높은 선명도의 간섭 무늬 패턴을 얻을 수 있으며 측정 정밀도가 개선된다. 또한, 간섭상 중심 측정기에 의한 압전 소자의 구동은 실시간으로 이루어지기 때문에 미세한 진동 등 원하지 않은 오차 발생 요인에 대해서 효율적으로 대처할 수 있으며, 신뢰성 있는 점회절 간섭계 장치를 제공할 수 있다.

9. 发明授权

KR101844031B1 광주파수 영역 반사측정 시스템 및 측정방법 有权
标题翻译：光学频域反射率测量系统及测量方法
公开(公告)号：KR101844031B1
公开(公告)日：2018-05-14
申请号：KR1020170074462
申请日：2017-06-13
申请人： 한국광기술원
发明人： 김영호 , 김명진 , 김영웅 , 노병섭
IPC分类号： G01M11/02 , G01B9/02 , G01N21/17 , G01N21/21
CPC分类号： G01M11/0271 , G01B9/02 , G01N21/17 , G01N2021/213
摘要： 본발명은광주파수영역반사측정시스템에관한것으로서, 센싱광섬유로부터역으로반사되어입사된광과기준광섬유에서입사된광에대해상호간섭에의한센서간섭신호를 3/2π씩 위상차가나도록제1, 제2 및제3 위상출력단에각각분배하여출력하는광커플러와, 제2위상출력단에출력되는센서간섭신호를제1분배단과제2분배단을통해분배하여출력하는또 다른광커플러와, 제1위상출력단에서출력되는신호와제1분배단을통해출력되는신호를상호차감하여검출하는제1차동광검출기와, 제2분배단을통해출력되는신호와제3위상출력단에서출력되는신호를상호차감하여검출하는제2차동광검출기와, 제1차동광검출기의출력단을통해출력되는제1간섭신호를실수부로하고, 제2차동광검출기의출력단을통해출력되는제2간섭신호와제1간섭신호와의트리고널(Trigonal) 관계식을통해생성되는제1간섭신호와π/2 위상차가나는제3간섭신호를허수부로하는측정복소수신호를생성하고, 생성된측정복소수신호를비교기준신호와비교하여센싱광섬유에대해인가된물리량을산출하는신호처리부를구비한다.

10. 发明公开

KR1020170042361A 렌즈 및 렌즈 몰드의 광학적 평가 방법 审中-实审
标题翻译：镜片和镜片模具的光学评估方法
公开(公告)号：KR1020170042361A
公开(公告)日：2017-04-18
申请号：KR1020177007212
申请日：2015-08-13
申请人： 지고 코포레이션
发明人： 페이마틴에프. , 꼴로나드레가하비에르 , 드그루트피터제이.
IPC分类号： G01M11/02
CPC分类号： G01M11/0271 , G01B11/2441 , G01M11/025
摘要： 만곡부및 평면부를포함하는물체에대한정보를결정하는방법에있어서, 상기만곡부는꼭지점을가지고상기물체의축을규정하는제 1 만곡면을포함하는, 방법은: 측정광을물체로지향시키는단계; 상기만곡부의제 1 만곡면으로부터반사된측정광을검출하는단계; 상기물체의적어도하나의다른표면으로부터반사된측정광을검출하는단계; 및검출된광에기초하여, 상기만곡부의제 1 만곡면의꼭지점에대한정보를결정하는단계를포함한다.
摘要翻译：一种确定关于包括弯曲部分和平面部分的物体的信息的方法，所述弯曲部分包括具有顶点并限定所述物体的轴线的第一弯曲表面，所述方法包括：将所述测量光引导到物体; 检测从弯曲部分的第一曲面反射的测量光; 检测来自物体的至少一个其他表面的反射光; 并且基于检测到的光来确定关于弯曲部分的第一弯曲表面的顶点的信息。

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