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1. 发明授权

KR101586186B1 비구면 반사경의 형상정밀도 평가를 위한 광학 정렬방법 有权
标题翻译：用于测试表面的对准程序图精密反应器
公开(公告)号：KR101586186B1
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：KR1020140136439
申请日：2014-10-10
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 현상원 , 김건희 , 이길재 , 류근만
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/24 , G01B11/30
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02063 , G01B9/02068
摘要： 본발명은비구면반사경의형상정밀도평가를위한비구면반사경의형상정밀도평가를위한광학정렬방법으로써, 더욱상세하게는간섭계와렌즈부및 비구면반사경(300)의위치를계획된위치에정확하게위치시킴으로써, 비구면형상측정의정밀도를향상시킨비구면반사경의형상정밀도평가를위한광학정렬방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于测试非球面反射器的表面图形的精度的光学校准程序，更具体地，涉及一种用于测试非球面反射器的表面图形精度的光学校准程序，其提高测量精度通过在计划的位置精确地对准干涉仪，透镜单元和非球面反射器（300）来实现非球面形状。

2. 发明授权

KR101483350B1 작업 거리의 현장 측정을 이용한 재료 가공 장치 有权
标题翻译：材料加工设备，具有原位测量工作距离
公开(公告)号：KR101483350B1
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：KR1020127022903
申请日：2011-05-10
申请人： 프레시텍 옵트로닉 게엠베하
发明人： 쉐렌베르마틴 , 코겔-홀라쉐르마르쿠스
IPC分类号： B23K26/046 , B23K26/082 , B23K26/03 , G01B11/14
CPC分类号： G01N21/255 , B23K26/032 , B23K26/048 , B23K26/082 , G01B9/02007 , G01B9/02036 , G01B9/02044 , G01B9/02063 , G01B9/02091 , G01B2290/70
摘要： 본 발명은 빔 생성기(5)의 가공용 빔(4)을 이용하고 빔 생성기(5)와 작업편(6) 사이의 작업 거리(a)의 현장 측정을 이용하는 재료 가공 장치(1)에 관한 것이다. 상기 재료 가공 장치(1)는 이런 목적을 위하여 가공용 빔(4)을 갖는 가공용 레이저(13)를 갖는다. 스캐너 미러(31, 32)를 갖는 2차원 편향 장치(15)를 포함하는 레이저 스캐너(14)가 가공용 레이저(13)의 하류에 배열된다. 변하는 작업 거리(a(t))를 위한 자동 초점 재조정 장치가 제공된다. 분광계(17) 및 적어도 2개의 센서 광원을 포함하는 센서 장치(16)가 작업편 거리(a)를 기록하면서 레이저 스캐너(14) 및 렌즈 시스템(19)에 의해 작업편(6)의 작업 영역(20)을 연합하여 감지하는 측정용 빔(18)을 생성한다. 센서 광원(11, 12)의 측정용 빔(18)은 선형으로 편광되고 교차된 편광 방향을 갖고 시준된 상태로 광결합 요소(21)에 의해 재료 가공 장치(1)의 레이저 스캐너(14)의 가공용 빔 경로(25) 내에 결합된다.

3. 发明授权

KR101321779B1 광화상 촬상장치 및 광화상의 촬상방법 有权
标题翻译：光学成像装置和成像光学图像的方法
公开(公告)号：KR101321779B1
公开(公告)日：2013-10-28
申请号：KR1020117028472
申请日：2010-04-20
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 히로세후토시
IPC分类号： A61B3/12 , G01N21/17 , G01B9/02
CPC分类号： G01B9/02063 , A61B3/14 , G01B9/0203 , G01B9/02044 , G01B9/02058 , G01B9/02068 , G01B9/02083 , G01B9/02091 , G01B11/2441
摘要： 피검사물인 피검안의 광화상을 촬상하기 위해 넓은 영역에서 횡 분해능이 높고, 촬상 전의 조정을 간단하게 행하는 것이 가능한 광화상 촬상장치 및 광화상의 촬상방법을 제공한다. 광원으로부터의 빔을 측정 빔으로서 사용하고 피검사물에 조사된 상기 측정 빔으로 형성된 리턴 빔을 사용하여 상기 피검사물의 화상을 촬상하는 광화상 촬상장치는, 우선, 상기 측정 빔을 상기 피검사물에 포커스시키는 광학 디바이스와, 다음에 상기 리턴 빔의 수차를 측정하는 수차 검출 디바이스와, 상기 수차 검출 디바이스에 의해 검출된 수차에 의거하여 상기 광학 디바이스를 조정하는 포커스 조정 디바이스를 구비한다.

4. 发明公开

KR1020130037723A 비구면을 정밀 고해상도로 측정하는 방법 有权
标题翻译：用于精确表面高分辨率测量的方法
公开(公告)号：KR1020130037723A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：KR1020137004413
申请日：2006-04-05
申请人： 퀘드 테크놀러지즈 인터내셔날, 인크.
发明人： 머피폴이. , 밀라디노빅드라기샤 , 포브스그렉더블유. , 데브리스게리엠. , 플라익존에프.
IPC分类号： G01M11/00 , G01B11/24 , G01B9/02
CPC分类号： G01J9/02 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02063 , G01B9/02072 , G01B9/02085 , G01M11/025 , G01M11/0257 , G01M11/0271 , G01M11/0278
摘要： 본 발명은 테스트 파트에서 파면 또는 표면, 특히 비구면체 상의 높은 공간 주파수를 개선된 정확도를 가지고 측정하는 복수의 방법을 포함하는 시스템에 관한 것이다. 이 방법은 테스트 파트를 복수로 측정하는 것을 포함한다. 방법 중 하나는, 테스트 파트가 게이지에 대하여 재배치되는 경우, 해상력과 정확도의 손실을 방지하기 위하여 계측 게이지의 포커싱 구성요소의 보상과 제어를 포함한다. 다른 방법은 게이지의 고유 슬로프-의존 비균일 바이어스 안에 더 높은 공간-주파수 구조를 억제하는 종래 평균화 방법을 확장한다. 이들 방법 중 하나는 게이지의 바이어스가 명확하게 할 수 있도록 파트의 더 높은 공간-주파수 구조를 억제하는 평균을 포함한다; 다른 방법은 직접적으로 게이지의 바이어스를 측정 안에서 억제한다. 모든 방법은 특정 기하학과 태스크에 맞춰진 여러 구성안의 결합에서 사용될 수 있다.

5. 发明公开

KR1020120112853A 작업 거리의 현장 측정을 이용한 재료 가공 장치 有权
标题翻译：具有工作距离的现场测量的材料工作装置
公开(公告)号：KR1020120112853A
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：KR1020127022903
申请日：2011-05-10
申请人： 프레시텍 옵트로닉 게엠베하
发明人： 쉐렌베르마틴 , 코겔-홀라쉐르마르쿠스
IPC分类号： B23K26/046 , B23K26/082 , B23K26/03 , G01B11/14
CPC分类号： G01N21/255 , B23K26/032 , B23K26/048 , B23K26/082 , G01B9/02007 , G01B9/02036 , G01B9/02044 , G01B9/02063 , G01B9/02091 , G01B2290/70
摘要： 본 발명은 빔 생성기(5)의 가공용 빔(4)을 이용하고 빔 생성기(5)와 작업편(6) 사이의 작업 거리(a)의 현장 측정을 이용하는 재료 가공 장치(1)에 관한 것이다. 상기 재료 가공 장치(1)는 이런 목적을 위하여 가공용 빔(4)을 갖는 가공용 레이저(13)를 갖는다. 스캐너 미러(31, 32)를 갖는 2차원 편향 장치(15)를 포함하는 레이저 스캐너(14)가 가공용 레이저(13)의 하류에 배열된다. 변하는 작업 거리(a(t))를 위한 자동 초점 재조정 장치가 제공된다. 분광계(17) 및 적어도 2개의 센서 광원을 포함하는 센서 장치(16)가 작업편 거리(a)를 기록하면서 레이저 스캐너(14) 및 렌즈 시스템(19)에 의해 작업편(6)의 작업 영역(20)을 연합하여 감지하는 측정용 빔(18)을 생성한다. 센서 광원(11, 12)의 측정용 빔(18)은 선형으로 편광되고 교차된 편광 방향을 갖고 시준된 상태로 광결합 요소(21)에 의해 재료 가공 장치(1)의 레이저 스캐너(14)의 가공용 빔 경로(25) 내에 결합된다.

6. 发明授权

KR101085014B1 광학식 표면 측정 장치 및 방법 有权
标题翻译：光学表面测量装置和方法
公开(公告)号：KR101085014B1
公开(公告)日：2011-11-21
申请号：KR1020090017175
申请日：2009-02-27
申请人： 서강대학교산학협력단 , 연세대학교 산학협력단
发明人： 이승엽 , 김경업 , 김재현 , 조규만 , 박영규
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02 , G01B11/25
CPC分类号： G01B9/02068 , G01B9/02063 , G01B11/0608 , G01B11/2441
摘要： 본 발명은 광학식 표면 측정 장치 및 방법에 관한 것으로서, 측정대상물의 표면에서 각 지점의 미세한 높이변화(단차)나 돌출, 요입, 표면손상, 표면거칠기 등의 표면 상태를 광학식으로 정확히 측정할 수 있는 장치 및 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 기존 간섭계의 2π-모호성과 포커스 에러 시그널의 한계를 극복하기 위해 간섭계의 신호 및 PSD(Position Sensitive Detector)의 포커스 에러 시그널을 함께 이용함으로써, 측정대상물의 미세한 표면 상태를 보다 정확히 측정할 수 있는 광학식 표면 측정 장치 및 방법에 관한 것이다.
간섭계, PSD, 포토다이오드, 비점수차, 포커스 에러 시그널, FES

7. 发明公开

KR1020100098152A 광학식 표면 측정 장치 및 방법 有权
标题翻译：光学表面测量装置和方法
公开(公告)号：KR1020100098152A
公开(公告)日：2010-09-06
申请号：KR1020090017175
申请日：2009-02-27
申请人： 서강대학교산학협력단 , 연세대학교 산학협력단
发明人： 이승엽 , 김경업 , 김재현 , 조규만 , 박영규
IPC分类号： G01B11/24 , G01B9/02 , G01B11/25
CPC分类号： G01B9/02068 , G01B9/02063 , G01B11/0608 , G01B11/2441
摘要： PURPOSE: Optical surface measuring apparatus and method are provided to accurately measure the detailed surface state of a target using a signal of an interferometer and a focus error signal of a PSD(Position Sensitive Detector). CONSTITUTION: An optical surface measuring apparatus comprises an interferometer(13), an object lens(3), a vibration stage(2), a beam splitter(4), a collimator lens(5), an astigmatic lens(6), a FE (Focus Error) signal output part, and a controller(12). The interferometer radiates the laser light onto the surface of a traget(1), receives the laser light reflected from the surface and outputs the interferential signal depending on the distance between the interferometer and the surface. The object lens transmits the laser light and forms the focus on the measuring point of the surface of the target. The vibration stage adjusts the location of the target. The beam splitter separates the laser light reflected from the target surface. The collimator lens condenses the separated laser light. The astigmatic lens transmits the condensed laser light to generate the astigmatic characteristic. The FE signal output part outputs the FE signal depending on the distance from the target surface. The controller computes the distance variation based on the interferential signal output from the interferometer and the FE signal output from the FE signal output part and obtains the surface state information from the distance variation.
摘要翻译：目的：提供光学表面测量装置和方法，以使用干涉仪的信号和PSD（位置敏感检测器）的聚焦误差信号来精确测量目标的详细表面状态。构成：光学表面测量装置包括干涉仪（13），物镜（3），振动台（2），分束器（4），准直透镜（5），像散透镜（6）， FE（聚焦误差）信号输出部分和控制器（12）。干涉仪将激光照射到耳机（1）的表面上，接收从表面反射的激光，并根据干涉仪与表面之间的距离输出干涉信号。物镜透射激光并将焦点形成在目标表面的测量点上。振动台调整目标的位置。分束器分离从目标表面反射的激光。准直透镜会将分离的激光冷凝。散光透镜透射冷凝的激光以产生像散特征。 FE信号输出部根据与目标表面的距离输出FE信号。控制器根据干涉仪输出的干扰信号和从FE信号输出部分输出的FE信号计算距离变化，并从距离变化中获取表面状态信息。

8. 发明授权

KR101575026B1 비구면 반사경의 형상정밀도 평가를 위한 널링 광학 장치 有权
标题翻译：用于测试表面的空校正装置图像精密反射器
公开(公告)号：KR101575026B1
公开(公告)日：2015-12-08
申请号：KR1020140136463
申请日：2014-10-10
申请人： 한국기초과학지원연구원
发明人： 현상원 , 김건희 , 이길재 , 류근만
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/24 , G01B11/30
CPC分类号： G01B11/2441 , G01B9/02063 , G01B9/02068
摘要： 본발명은비구면반사경의형상정밀도평가를위한널링광학장치에관한것으로서, 더욱상세하게는간섭계에서방출되는구면의빛 파장을비구면의빛 파장으로변화시키는렌즈부가일체형으로구성되어정밀도를향상시킨, 비구면반사경의형상정밀도평가를위한널링광학장치에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于评估非球面反射器的图形精度的零点校正装置，更具体地，涉及用于评估非球面反射器的图形精度的零点校正装置，其具有被配置为一体的透镜单元，从干涉仪发射的球面的光波长到非球面的光波长，从而提高了装置的精度。

9. 发明授权

KR101459259B1 비구면을 정밀 고해상도로 측정하는 방법 有权
标题翻译：如何以高精度和分辨率测量非球面
公开(公告)号：KR101459259B1
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：KR1020137034713
申请日：2006-04-05
申请人： 퀘드 테크놀러지즈 인터내셔날, 인크.
发明人： 머피폴이. , 밀라디노빅드라기샤 , 포브스그렉더블유. , 데브리스게리엠. , 플라익존에프.
IPC分类号： G01B9/02 , G01B11/30
CPC分类号： G01J9/02 , G01B9/02039 , G01B9/02057 , G01B9/02063 , G01B9/02072 , G01B9/02085 , G01M11/025 , G01M11/0257 , G01M11/0271 , G01M11/0278
摘要： 본 발명은 테스트 파트에서 파면 또는 표면, 특히 비구면체 상의 높은 공간 주파수를 개선된 정확도를 가지고 측정하는 복수의 방법을 포함하는 시스템에 관한 것이다. 이 방법은 테스트 파트를 복수로 측정하는 것을 포함한다. 방법 중 하나는, 테스트 파트가 게이지에 대하여 재배치되는 경우, 해상력과 정확도의 손실을 방지하기 위하여 계측 게이지의 포커싱 구성요소의 보상과 제어를 포함한다. 다른 방법은 게이지의 고유 슬로프-의존 비균일 바이어스 안에 더 높은 공간-주파수 구조를 억제하는 종래 평균화 방법을 확장한다. 이들 방법 중 하나는 게이지의 바이어스가 명확하게 할 수 있도록 파트의 더 높은 공간-주파수 구조를 억제하는 평균을 포함한다; 다른 방법은 직접적으로 게이지의 바이어스를 측정 안에서 억제한다. 모든 방법은 특정 기하학과 태스크에 맞춰진 여러 구성안의 결합에서 사용될 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种包括多个用于测量波前或表面上的高空间频率，特别是非球面表面的方法的系统，其在测试部件中具有提高的精度。该方法包括测量多个测试部件。一种方法涉及补偿和控制计量器的聚焦部件，以防止测试部件重新定位到计量器时分辨率和精度的损失。其他方法扩展了传统的平均方法，以抑制规范的固有斜率相关非均匀偏差中的较高空间频率结构。其中一种方法涉及对部件的较高空间频率结构进行平均，以便可以清楚地了解量规的偏差; 另一种方法直接抑制了测量过程中测量仪的偏差。所有方法都可以结合使用几种适合特定几何和任务的结构。

10. 发明公开

KR1020130030104A 개구수 제어 유닛, 이를 채용한 가변형 광 프로브 및 깊이 스캐닝 방법 审中-实审
标题翻译：数值孔径控制单元，可变光学探头和深度扫描方法
公开(公告)号：KR1020130030104A
公开(公告)日：2013-03-26
申请号：KR1020110093647
申请日：2011-09-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최민석 , 이승완 , 김운배 , 이은성 , 정규동 , 장종현
IPC分类号： A61B5/06 , G01B9/02 , G01N29/24
CPC分类号： A61B5/0066 , A61B5/444 , G01B9/02063 , G01B9/02091 , G01B11/22 , G02B3/14 , G02B5/005 , G02B21/006 , G02B26/005 , G02B26/101
摘要： PURPOSE: A numerical aperture control unit, a variable optic probe adopting the same, and a depth scanning method are provided to implement high horizontal resolution by including an NA(Numerical Aperture) control unit. CONSTITUTION: An aperture control unit controls an aperture. The aperture transmits light. An NA control unit(1000) is located in a preset location from the aperture control unit and focuses the light via the aperture. The NA control unit includes a focus control unit.
摘要翻译：目的：提供数值孔径控制单元，采用该孔径控制单元的可变光学探头和深度扫描方法，通过包括NA（数值孔径）控制单元来实现高水平分辨率。构成：光圈控制单元控制光圈。孔径透光。 NA控制单元（1000）位于来自孔径控制单元的预设位置，并且经由孔聚焦光。 NA控制单元包括聚焦控制单元。

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