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1. 发明授权

KR100229672B1 침강 고체 입자의 배출 방법 및 그 장치 失效
标题翻译：排放固体颗粒的方法和装置
公开(公告)号：KR100229672B1
公开(公告)日：1999-12-01
申请号：KR1019970703481
申请日：1996-09-26
申请人： 제이에프이 스틸 가부시키가이샤
发明人： 요시오카마사히로 , 이토마사히코 , 사쿠타미투루 , 스즈키마코토 , 이케다마사하루
IPC分类号： C23G1/36
CPC分类号： C25D21/16 , B01D21/009 , B01D21/245 , B01D21/2472 , B01D21/30 , B01D21/34 , C23G3/00
摘要： The present invention provides a method of and an apparatus for efficiently and economically discharging solid particles, which have sedimented on the bottom of a tank, out from the tank. A liquid is ejected from an ejector installed in the tank to move the sedimented solid particles to a predetermined place from which the sedimented solid particles are discharged out from the tank. Further, a solution which contains sedimentary solid particles is cooled and the solid particles are efficiently separated by a solid-liquid separator.

2. 发明公开

KR1020150008084A 아연계 도금 금속 부재 표면의 질산 활성 처리 용액의 재생 방법 및 그것을 이용한 재생 처리 장치 审中-实审
标题翻译：镀锌金属构件表面硝酸活化处理方法及再生处理装置的方法
公开(公告)号：KR1020150008084A
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：KR1020147030892
申请日：2013-05-10
申请人： 딥솔 가부시키가이샤
发明人： 가시오류타 , 야마모토도미타카
IPC分类号： C02F1/54 , C23G1/36 , C23C22/78 , C25D5/48
CPC分类号： C23C18/1617 , C02F1/54 , C02F2103/16 , C02F2209/06 , C23C18/1628 , C23C18/1646 , C23C18/1689 , C23C18/31 , C23C22/73 , C23C22/78 , C23C22/86 , C23C2222/10 , C23G1/36 , C25D21/16
摘要： 아연계 도금 금속 부재 표면의 질산 활성 처리 용액으로서 아연 이온을 함유하는 질산 활성 처리 용액에, 아연 이온 응집제를 첨가하여 당해 용액 중의 아연 이온을 불용성 염으로서 응집시켜 분리 제거하는 것을 특징으로 하는 질산 활성 처리 용액의 재생 방법을 제공한다. 이 재생 방법은 강재의 아연계 도금에 있어서, 종래부터 널리 행해져 온 소정 시간 경과 후에 있어서의 질산 활성 처리 용액의 전량 교환 등의 방법을 대신하여, 강재의 아연계 도금의 과정에서 질산 활성 처리 용액 중에 혼입해 오는 아연 이온을 침전 제거하여, 도금 관리 공정의 간소화 및 저비용화에 의해 3가 크롬 화성 처리의 품질을 일정하게 관리하고, 질산의 폐기를 가능한 한 줄일 수 있는 질산 활성 처리 용액의 재생 방법이다.

3. 发明授权

KR101327385B1 표면 처리의 전처리 공정에서 발생하는 처리액의 재사용을 위한 청정 시스템 및 이의 구동 방법 有权
标题翻译：用于表面处理预处理过程中生产的处理液体的清洁系统及其操作方法
公开(公告)号：KR101327385B1
公开(公告)日：2013-11-08
申请号：KR1020120054515
申请日：2012-05-23
申请人： (주)제이스
发明人： 조재승 , 김정호 , 박지훈
IPC分类号： C25D11/16 , C25D21/16 , C23F1/02
CPC分类号： C25D21/16 , C25D11/16
摘要： The present invention relates to a clean system for reusing a treatment liquid generated in the pretreatment process of a surface treatment, and an operating method thereof and, more particularly, to a clean system and an operating method thereof where, in the pretreatment process comprising etching, neutralization, and rinsing processes, a first treatment tank for the etching process is connected with a nanofilter; a second treatment tank for the neutralization process is connected with an electrodialysis device; a third treatment tank for the rinsing process is connected to a reverse osmosis film; therefore, waste medicines and waste rinse water generated by each process can be reused through recycling. The clean production system prepared by the present invention can reduce incidental expenses and environmental burdens according to work by enabling reusing waste medicines and waste rinse water. [Reference numerals] (10) Etching;(20) Neutralization;(30) Rinsing;(AA) Anodizing;(BB,CC,DD) Discharge
摘要翻译：本发明涉及一种用于重新使用在表面处理的预处理过程中产生的处理液的清洁系统及其操作方法，更具体地，涉及一种清洁系统及其操作方法，其中在包括蚀刻的预处理工艺，中和和冲洗过程，用于蚀刻工艺的第一处理槽与纳滤器连接; 用于中和过程的第二处理槽与电渗析装置连接; 用于冲洗过程的第三处理槽连接到反渗透膜; 因此，每个过程产生的废药和废水冲洗水可以通过回收再利用。本发明制备的清洁生产系统可以通过使废旧药物和废水冲洗水能够重新利用工作，减少偶然的费用和环境负担。（10）蚀刻;（20）中和;（30）冲洗;（AA）阳极氧化;（BB，CC，DD）放电

4. 实用新型

KR200436463Y1 귀금속 도금처리 시설에서의 귀금속 회수 처리 장치 失效
标题翻译：贵金属回收装置在电镀系统中
公开(公告)号：KR200436463Y1
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：KR2020070003129
申请日：2007-02-23
申请人： (주)오티사이언스
发明人： 김영철
IPC分类号： C22B11/12 , C22B7/00
CPC分类号： C25D21/16 , C22B11/042 , C25D5/00
摘要： 본 고안은 도금조에서 도금한 제품을 수세조(1)에서 수세하고, 수세한 물을 저장조(2)에 저장하는 도금처리 시설에 있어서, 상기한 저장조(2)와 연결되어 설치되며 처리조(11)를 갖추고 있는 귀금속 회수장치(3)와, 상기한 저장조(2)로 물을 공급하는 급수장치(8)와, 상기한 급수장치(8)에 의한 물공급이 저장조(2)에서 일정 수위 이상이 되면 이를 감지하여 물 공급을 정지시키는 상한 센서(5)와, 상기한 저장조(2)에서 일정 수위 이하로 내려가면 이를 감지하여 급수 장치(8)로 부터 물이 보충되게 하는 하한센서(6)를 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기한 귀금속 회수장치(3)에는 급수 장치가 내장되며, 드레인을 위한 배수밸브(13)와, 급수 장치로 부터의 급수를 위한 급수밸브(14)와 그리고 저장조(2)로 부터의 처리수 공급을 위한 처리수 공급밸브(15)가 설치되어 있는 것을 특징으로 하며, 상기한 귀금속 회수장치(3)에는 바퀴(10)가 형성되어, 도금 시설 현장으로의 이동이 용이하게 되도록 한 것을 특징으로 하며, 상기한 급수장치(8)는 귀금속 회수장치(3) 내에 내장되거나 또는 외부에 별도로 설치되는 것 중 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 한다
도금처리, 시설, 설비, 귀금속 회수장치, 수세

5. 发明授权

KR100660485B1 도금장치 有权
标题翻译：电镀机
公开(公告)号：KR100660485B1
公开(公告)日：2006-12-22
申请号：KR1020047018838
申请日：1999-11-26
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 구리야마후미오 , 우에야마히로유키 , 야마카와준이츠 , 스즈키겐이치 , 조노아츠시
IPC分类号： C25D19/00
CPC分类号： C25D21/14 , C25D17/001 , C25D21/16 , C25D21/18
摘要： 본 발명은 도금부와 관리부로 이루어지는 도금장치에 있어서, 도금부와 관리부를 각각의 실에 설치하고, 메인티넌스 등의 지저분한 작업으로 오염이 발생하는 작업은 적극 관리부를 설치하는 실에서 행하여 도금부의 메인티넌스작업을 최소한으로 하고, 도금부로부터 오염의 문제가 발생하는 일 없는 도금장치를 제공하는 것이다.
이를 위하여 본 발명에서는 도금을 행하는 도금부와, 도금액의 조정 등을 행하는 관리부로 이루어지는 도금장치에 있어서, 도금부는 도금액을 수용함과 동시에 양극전극과 음극으로서의 피도금체를 대향하여 배치하여 도금을 행하는 도금조를 구비하고, 관리부는 도금액의 성분 및/또는 농도를 조정하는 조절조, 이 조절조의 도금액에 보충제액을 주입하는 액보충기구를 구비하고, 관리부의 조절조와 도금부의 도금조의 도금액을 순환시키는 액순환기구를 설치하고, 도금부는 제 1 실에 설치하고, 관리부는 제 2 실에 설치한 것을 특징으로 한다.

6. 发明公开

KR1020160011043A 구리를 포함하는 폐수의 재생 처리를 위한 황산 농도 보정 작업 자동화 방법 및 이를 위한 장치 无效
标题翻译：硫酸浓度修正自动化方法及废水加工废水处理装置
公开(公告)号：KR1020160011043A
公开(公告)日：2016-01-29
申请号：KR1020140092012
申请日：2014-07-21
申请人： 엘에스엠트론 주식회사
发明人： 유태선 , 양제철
IPC分类号： C25C7/00 , C25D21/16
CPC分类号： C25C7/00 , C25D21/16
摘要： 본발명은구리를포함하는폐수의재생처리를위한황산농도보정작업자동화방법및 이를위한장치를개시한다. 본실시예에따른황산농도보정작업자동화장치는탱크로유입된폐수를순환시키는폐수순환부; 상기폐수순환부에의해순환된폐수의비중을측정하는비중측정부; 및상기비중측정부에의해측정된비중과메모리에저장된보정작업표준화표를비교하여보정을수행하는비중보정부;를포함할수 있다.
摘要翻译：根据本发明，公开了一种用于含铜废水的再生处理的硫酸浓度修正自动化方法及其装置。根据本发明的实施例，硫酸浓度修正自动化设备可以包括：废水循环部分，用于循环流入罐中的废水; 比重测量部件，用于测量由废水循环部分循环的废水的比重; 以及比重修正部，通过将由比重测定部测定的比重与存储在存储器中的修正工作标准化表进行比较来进行修正。

7. 发明授权

KR101410953B1 전기 구리도금 방법 有权
标题翻译：电镀铜镀层工艺
公开(公告)号：KR101410953B1
公开(公告)日：2014-06-24
申请号：KR1020080078070
申请日：2008-08-08
申请人： 우에무라 고교 가부시키가이샤
发明人： 다치바나,신지 , 가와세,도모히로 , 오무라,나오유키 , 이소노,도시히사 , 시미즈,고지
IPC分类号： C25D3/38 , C25D1/04 , C25D5/00
CPC分类号： C25D3/38 , C25D21/16 , H05K3/241
摘要： 양극으로서 용해성 양극 또는 불용성 양극과 작업편을 음극으로서 사용하면서 유기 첨가제를 함유하는, 도금 탱크에 채워진 황산구리 도금욕에서 작업편에 구리를 전기도금하는 전기 구리도금 방법으로서, 욕 전류밀도를 5 A/L 이하로 설정하는 단계, 황산구리 도금욕의 영역에 금속 구리를 침지하되, 영역은 양극과 음극 사이의 영역으로부터 이격되어 있고 또한 각각 양극과 음극에 인접한 영역들로부터도 이격되어 있으며, 이와 같이 침지된 금속 구리의 이웃이 산화성 분해 영역으로 사용될 수 있도록 하는 단계, 금속 구리의 침지된 면적을 도금욕을 기준으로 0.001 d㎡/L이상으로 설정하는 단계, 그리고 산화성 분해 영역에 공기 버블링을 침지된 면적을 기준으로 0.01 L/d㎡·분 이상으로 적용하는 단계를 포함하는 전기 구리도금 방법이 여기에 개시된� �.
구리도금, 전기도금, 황산구리, 산화성 분해, 인쇄 회로 기판, 웨이퍼.

8. 发明公开

KR1020080050663A 부분전해도금 장치 无效
标题翻译：电镀设备
公开(公告)号：KR1020080050663A
公开(公告)日：2008-06-10
申请号：KR1020060121164
申请日：2006-12-04
申请人： (주) 신진하이텍
发明人： 이옥규 , 김은희
IPC分类号： C25D17/02 , C25D17/00
CPC分类号： C25D5/026 , C25D17/007 , C25D21/16
摘要： A partial electroplating device is provided to prevent staining or spreading of a coating on a plating object due to a negative voltage supply body, simply adjust an elevation and a horizontal state of a drum for guiding the plating object in a state that the plating object is closely adhered to the drum, and perform a partial plating process on both faces of the plating object by combining two electroplating devices with each other. In an electroplating device comprising: a drum(20) for supplying an electrolyte through supply ports formed along an arc-shaped close adhesion face and spaced from one another in an equal distance; a positive voltage supply body which is connected to a front portion of the drum, and which allows the electrolyte to maintain a positive polarity; a cover body(40) for enabling the electrolyte to make contact with a surface of a plating object(10) guided along a guide groove(42) in a state that the positive voltage supply body is covered with the cover body; and a negative voltage supply body(50) which is formed to apply a negative voltage to one side of the drum while guiding the plating object that is closely adhered to the cover body through a guide roller(52), the guide roller being axially connected to both sides of the drum, a partial electroplating device comprises a lubricating fluid supply unit including: a lubricating fluid supply pipe(100) which is installed near the guide roller of the negative voltage supply body, and in which spray ports are formed in an equal distance to supply a lubricating fluid onto an outer face of the guide roller; and a lubricating fluid recovery tank(200) for recovering the sprayed lubricating fluid, the lubricating fluid recovery tank being installed at the lower side of the negative voltage supply body to which the lubricating fluid supply pipe is connected.
摘要翻译：提供了一种部分电镀装置，用于防止由于负电压供给体而导致的电镀物体上的涂层的污染或扩散，简单地调节用于在电镀对象物的电镀对象的状态下引导电镀对象的鼓的高度和水平状态紧贴在滚筒上，并通过组合两个电镀装置对电镀对象的两个面进行部分电镀处理。一种电镀装置，包括：鼓（20），用于通过沿着弧形紧密粘合面形成的供给口供给电解质，并以相等的距离相互间隔; 正电压供给体，其与鼓的前部连接，并且允许电解质保持正极性; 覆盖体（40），用于使得电解质能够在正电压供给体被盖体覆盖的状态下与导电槽（42）引导的电镀物体（10）的表面接触; 以及负电压供给体（50），其形成为在通过引导辊（52）引导与盖主体紧密接合的电镀对象的同时向所述滚筒的一侧施加负电压，所述引导辊轴向连接一个部分电镀装置包括润滑液供给单元，该润滑液供给单元包括：润滑液供给管（100），其安装在负电压供给体的导向辊附近，在该喷出口形成有喷出口相等的距离以将润滑流体供应到引导辊的外表面上; 以及用于回收喷射的润滑流体的润滑油回收罐（200），所述润滑液回收罐安装在所述润滑液供给管所连接的所述负电压供给体的下侧。

9. 发明授权

KR101852302B1 알루미늄 표면처리시스템 有权
标题翻译：铝表面处理系统
公开(公告)号：KR101852302B1
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：KR1020170089809
申请日：2017-07-14
申请人： 오제민
发明人： 오제민
IPC分类号： C25D11/00 , C25D21/16 , C25D21/02 , C25D11/16
CPC分类号： C25D11/005 , C25D11/16 , C25D21/02 , C25D21/16
摘要： 본발명의일 실시예에따른알루미늄표면처리시스템은알루미늄을상하방향으로이동시키는이동시키는제1 구동부및 상기제1 구동부에연결되어, 상기알루미늄을수평하게이동시키는제2 구동부를포함하는구동부, 내부에상기알루미늄이침지되는화학약품을수용하고, 상기화학약품을측정하는센서부를가지는탱크조및 일측에상기구동부의작동기준정보를설정하는설정부가형성된제어부를포함할 수있다.

10. 发明授权

KR101203488B1 The silver-carbon plating method of contacting part for a switch in contacting in the electricity and thereof device 有权
标题翻译：电镀接触部件的银 - 碳电镀方法及其装置
公开(公告)号：KR101203488B1
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：KR20120019985
申请日：2012-02-28
IPC分类号： C25D3/46 , C25D17/00
CPC分类号： C25D3/46 , C25D17/22 , C25D21/16
摘要： PURPOSE: A silver carbon plating method for a contact unit for a switch in contact with electricity is provided to extend the life span of a silver-plated switch and improve the surface resistance and durability by plating a contact unit of the switch with carbon. CONSTITUTION: A silver carbon plating method for a contact unit for a switch in contact with electricity uses a chemical solution which is manufactured by mixing AgCN(Silver Cyanide) of 30-40g/l, NaCN(Sodium Cyanide) of 100-130g/l, NaCO(sodium Carbonate) of 5-10g/l, C of 40-80g/l, a hardening agent of 2-5ml/l, and a wetting agent of 40-60ml/l to improve surface resistance, durability, heat resistance, low-temperature resistance, and wear resistance. A hardening agent of 2-5m/l and an additive of 40-60m/l are added to maintain a current density of 0.2-0.4A/dm^2 and a temperature of 7-35°C. A degreasing process of 20-60 seconds, an AgC plating process of 10-15 minutes, a tarnishing process of 1-3 minutes, and a water separation process of 3 minutes and 40 seconds to 5 minutes. Each lot takes 8-15 minutes and a plating solution is supplemented one time everyday, thereby enhancing surface deterioration.
摘要翻译：目的：提供一种用于与电接触的开关的接触单元的银碳电镀方法，以延长镀银开关的寿命，并通过用碳镀接开关的接触单元来提高表面电阻和耐久性。构成：用于与电接触的开关的接触单元的银碳镀方法使用通过将30-40g / l的AgCN（氰化银），100-130g / l的NaCN（氰化钠）混合而制成的化学溶液，碳酸钙（NaCO）为5-10g / l，C为40-80g / l，硬化剂为2-5ml / l，润湿剂为40-60ml / l，以提高表面电阻，耐久性，耐热性耐低温，耐磨性好。加入2-5m / l的硬化剂和40-60m / l的添加剂以保持0.2-0.4A / dm 2的电流密度和7-35℃的温度。 20-60秒的脱脂处理，10-15分钟的AgC镀敷处理，1-3分钟的变色处理，以及3分40秒5分钟的水分离处理。每批需要8-15分钟，电镀液每天补充一次，从而增强表面变质。

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