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1. 发明授权

KR101819918B1 고속 플라즈마 전해산화 공정 有权
标题翻译：高速等离子体电解氧化工艺
公开(公告)号：KR101819918B1
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：KR1020160087966
申请日：2016-07-12
申请人： (주)동진금속
发明人： 나상조 , 권두영 , 손선미 , 안찬원 , 윤진두
IPC分类号： C25D11/02 , C25D21/02 , C25D11/04 , C25D11/30 , C25D11/34
CPC分类号： C25D11/026 , C25D11/04 , C25D11/30 , C25D11/34 , C25D21/02
摘要： 본발명에따른고속플라즈마전해산화공정은, 금속을전해액에침지하는제 1단계; 상기금속에 0.2mS, 600Hz의펄스전류를인가하여상기금속표면에산화피막을형성하는제 2단계;를포함하고, 상기전해액은물 1L에대하여 NaOH(수산화나트륨) 12g, NaSiO(규산나트륨) 12.2063g, NaF(플루오르화나트륨) 2.0995g, 글리세롤 3.657g이혼합된것을특징으로한다.또한, 상기전해액의온도는 10 내지 30℃인것을특징으로한다.또한, 상기금속은알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 규소(Si) 중에서적어도한가지이상의금속또는합금으로이루어지는것을특징으로한다.
摘要翻译：根据本发明的高速等离子体电解氧化方法包括：第一步，将金属浸入电解液中; 在0.2ms到金属，通过施加在金属表面上形成氧化膜，包括600Hz的第二步骤，其中所述电解质是NaOH（氢氧化钠）在水1L 12G，NaSiO（硅酸钠）12.2063的脉冲电流克，氟化钠（氟化钠）2.0995克，甘油3.657克离婚其特征在于所述之和。另外，电解液的温度可以是10〜30℃。此外，该金属是铝（Al），镁（Mg）和硅（Si）。

2. 发明公开

KR1020170136769A 진공 도금 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：真空电镀装置和方法
公开(公告)号：KR1020170136769A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：KR1020160068700
申请日：2016-06-02
申请人： (주)한수산업
发明人： 김홍식
IPC分类号： C23C18/16 , C25D17/00 , C25D21/02 , C25D21/04 , C25D21/10
摘要： 본발명은진공도금장치및 방법에관한것으로서, 더욱상세하게진공챔버내에도금액이수용되는도금조를배치하고, 진공펌프를이용하여상기진공챔버내부를진공상태로만들어줌으로써, 도금전처리공정또는도금공정중에발생되는기포의배출및 제거가용이하게됨에따라, 도금물의기계적전기적열화를효과적으로방지하고, 도금성능을향상시킬수 있는진공도금장치및 진공도금방법에관한것이다.
摘要翻译：真空电镀装置和真空电镀方法技术领域本发明涉及真空电镀装置和方法，并且更具体地涉及能够执行电镀预处理工艺或电镀工艺的真空电镀装置和真空电镀方法更具体地，涉及一种能够有效地防止电镀材料的机械和电气劣化并改善电镀性能的真空电镀设备和真空电镀方法。

3. 发明公开

KR1020170113180A 도금 방법 审中-实审
标题翻译：电镀方法
公开(公告)号：KR1020170113180A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020170036042
申请日：2017-03-22
申请人： 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼
发明人： 와쿠다요헤이 , 마스다야스유키 , 시모야마마사시
IPC分类号： C25D21/12 , C25D21/02 , C25D21/10 , C25D3/38 , H01L23/00 , H05K3/18 , H05K3/40
CPC分类号： H01L24/11 , C25D3/38 , C25D5/02 , C25D5/54 , C25D7/12 , C25D21/10 , H01L24/13 , H01L24/94 , H01L2224/11462 , H01L2224/119 , H01L2224/13147 , H01L2924/00012 , H01L2924/00014
摘要： 원하는돔 높이를실현할수 있는도금방법을제공한다. 도금방법은, 범프높이에대한돔 높이의비율과, 염화물이온의농도의관계를나타내는상관데이터를준비하고, 범프높이에대한돔 높이의원하는비율과, 상관데이터에기초하여선택된농도의염화물이온을포함하는도금액을제작하고, 선택된농도는, 100㎎/d㎥내지 300㎎/d㎥의범위내이며, 기판을상기도금액중에침지시켜, 도금액중의애노드와기판사이에전류를흐르게하여기판을도금한다.
摘要翻译：提供了一种能够实现期望圆顶高度的电镀方法。电镀的方法，所述凸块高度的圆顶高度的比值和，所述相关数据表示的氯离子的浓度之间的关系，基于所期望的速率和相关数据中的凸块高度的圆顶高度准备所选择的浓度的氯离子并且所选择的浓度在100mg / dm 3至300mg / dm 3的范围内。将衬底浸入电镀溶液中以在电镀溶液中在阳极和衬底之间流动电流，由此电镀衬底的。

4. 发明公开

KR1020170100960A 전기도금 시스템에서 처리 재료를 전기적으로 접촉시키기 위한 방법 审中-实审
标题翻译：用于在电镀系统中电接触处理材料的方法
公开(公告)号：KR1020170100960A
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：KR1020160023508
申请日：2016-02-26
申请人： 주식회사 미포텍
发明人： 우남주
IPC分类号： C25D17/00 , C25D21/02 , C25F3/14 , C25D5/00
摘要： 본발명은밴드형상또는플레이트형상인재료의전기접촉에관한것인데, 상기재료는운반트랙상에서전기도금시스템을통해이송될수 있다. 캐소드로성극되는접촉수단이예컨대전해질내에서재료의하면상에위치하게되는데, 상기전해질은전기도금시스템에서순환된다. 상기재료는재료에전류를전달하기위해전기적으로접촉하게된다. 종래기술에있어서, 접촉수단은재료에추가하여금속코팅된다. 상기금속코팅은접촉으로인해지속적으로분명히제거된다. 본발명에따르면, 예컨대각각의관형접촉수단은냉각유닛또는냉각매체에의해냉각된다. 전해질의작동온도와접촉수단의표면온도사이의온도차가충분히크면접촉수단의냉각된표면상에금속이전혀증착되지않는다. 이러한특성은, 사용되는전해질에서캐소드로금속코팅될수 없는접촉수단(6)의표면에추가될수 있다.
摘要翻译：本发明涉及带状或板状材料的电接触，该材料可以通过传输轨道上的电镀系统传输。用阴极极化的接触装置例如放置在电解质系统中循环的电解质中的材料表面上。材料被带入电接触，以将电流输送到材料。在现有技术中，除了材料之外，接触装置是金属涂覆的。由于接触，金属涂层被持续清除。根据本发明，例如，每个管状接触装置被冷却单元或冷却介质冷却。如果电解质的操作温度与接触装置的表面温度之间的温度差足够大，则不会在接触装置的冷却表面上沉积金属。该特性可以被添加到接触装置6的表面上，该接触装置6在所使用的电解质中不能用金属涂覆阴极。

5. 发明公开

KR1020160134541A 전기화학 증착의 레이트를 증가시키기 위한 방법들 审中-实审
标题翻译：提高电化学沉积速率的方法
公开(公告)号：KR1020160134541A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：KR1020160058132
申请日：2016-05-12
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 버그만,에릭제이. , 사르보노,찰스 , 리,삼케이.
IPC分类号： H01L21/288 , H01L21/768 , H01L21/67 , H01L21/445 , C25D17/00 , C25D21/12 , C25D5/08 , C25D5/02 , C25D21/02 , C25D7/12
CPC分类号： C25D5/08 , C25D5/028 , C25D7/00 , C25D17/002 , C25D21/10
摘要： 마이크로피처워크피스를전기화학적으로프로세싱하기위한방법은, 도금챔버에서도금전해질과마이크로피처워크피스의제 1 표면을접촉시키는단계― 도금전해질은적어도하나의금속이온을포함함―, 워크피스의제 1 단부에서의제 1 도금전해질유입구로부터, 워크피스의중심점을가로질러서, 워크피스의제 2 단부에서의제 2 도금전해질배출구로, 도금전해질을유동시키는단계, 및워크피스의제 1 표면상에적어도하나의금속이온을전기화학적으로증착하는단계를포함한다. 마이크로피처워크피스를전기화학적으로프로세싱하기위한다른방법은, 적어도하나의금속이온을갖는도금전해질과마이크로피처워크피스의제 1 표면을접촉시키는단계, 가열방법을사용하여, 워크피스의제 2 표면을가열하는단계, 및워크피스의제 1 표면상에적어도하나의금속이온을전기화학적으로증착하는단계를포함한다.
摘要翻译：一种用于电化学处理微特征工件的方法包括使微特征工件的第一表面与电镀室中的电镀电解液相接触，其中电镀电解质包括至少一种金属离子，使电镀电解液从第一电镀电解液入口流出工件的端部穿过工件的中心点在工件的第二端处的第二电镀电解质出口，并且将至少一种金属离子电化学沉积到工件的第一表面上。用于电化学处理微特征工件的另一种方法包括使微特征工件的第一表面与具有至少一种金属离子的电镀电解液接触，使用加热方法加热工件的第二表面，并将至少一种金属离子电化学沉积到工件的第一个表面。

6. 发明公开

KR1020160040573A 은-팔라듐 합금의 전해 침착을 위한 전해질 및 이의 침착 방법 审中-实审
标题翻译：用于银 - 钯合金的电解沉积的电解质及其沉积方法
公开(公告)号：KR1020160040573A
公开(公告)日：2016-04-14
申请号：KR1020167003366
申请日：2014-07-24
申请人： 유미코아 갈바노테히닉 게엠베하
发明人： 바이뮐러베른트 , 만츠우베 , 베르거자샤
IPC分类号： C25D3/64 , C25D21/12 , C25D21/02 , C25D21/14
CPC分类号： C25D3/64 , C25D21/02 , C25D21/14
摘要： 본원발명은, 전해질에관한것이며, 또한미미한정도로셀레늄및/또는텔루륨도포함하는은-풍부은-팔라듐합금의전해침착방법에관한것이다. 상기본원발명의전해질은넓은범위의전류밀도에걸쳐전도성표면들상에의이러한합금의균일한침착을허용한다.

7. 发明授权

KR101602856B1 필터장치 및 강판 도금 장치 有权
标题翻译：过滤装置和涂装装置
公开(公告)号：KR101602856B1
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：KR1020140089544
申请日：2014-07-16
申请人： 주식회사 포스코
发明人： 김주환 , 진용희
IPC分类号： C25D21/06 , C25D21/02
摘要： 본발명의일 실시예에의하면, 필터장치는, 유체라인에제공되는케이싱; 상기케이싱의내부에제공되며, 유체가통과하면서여과되는필터부재; 상기필터부재의외측에회전가능하게제공되며, 여과된유체가통과하는내부하우징; 및상기내부하우징에연결되며, 상기내부하우징과함께회전하여상기필터부재를클리닝가능한클리닝부재를포함한다.

8. 发明公开

KR1020110064184A 튜브형 고전계 양극산화장치 失效
标题翻译：用于管状类型高温制备阳极纳米结构的装置
公开(公告)号：KR1020110064184A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：KR1020090120676
申请日：2009-12-07
申请人： 한국전기연구원
发明人： 하윤철 , 정대영
IPC分类号： C25D11/02 , C25D17/00 , C25D21/02
CPC分类号： C25D11/005 , B82B3/00 , C25D21/02 , C25D21/14
摘要： PURPOSE: A tube form of a high electric-field anodizing device is intended to provide a porous metal oxide tube in a simple way since a wholly uniform nano structure can be formed on a long tube form of metal anode. CONSTITUTION: A tube form of a high electric-field anodizing device comprises metal anode(100), anode fixing units(200), a cooling unit(300), an electrolyte supply unit(400), cathode(500) and a cathode fixing unit(600). The anode fixing unit is coupled to both sides of the anode and consists of a fixing hole(210) for fixing the anode and an anode contact hole(220) for making electrical contact with the anode. The cooling unit is located between the anode fixing units and holds the anode to enable cooling medium to be supplied to the outside of the anode. The supply unit is coupled to the side of the anode fixing unit and is formed so that electrolyte is supplied from one side of the metal anode and is discharged to the other side of the metal anode.
摘要翻译：目的：高电场阳极氧化装置的管形式旨在以简单的方式提供多孔金属氧化物管，因为可以在长管形式的金属阳极上形成完全均匀的纳米结构。构造：高电场阳极氧化装置的管形式包括金属阳极（100），阳极固定单元（200），冷却单元（300），电解质供应单元（400），阴极（500）和阴极固定单元（600）。阳极固定单元耦合到阳极的两侧，并由用于固定阳极的固定孔（210）和用于与阳极电接触的阳极接触孔（220）组成。冷却单元位于阳极固定单元之间并且保持阳极以使得能够将冷却介质供应到阳极的外部。供电单元耦合到阳极固定单元的侧面，并且形成为使得电解质从金属阳极的一侧供应并被排出到金属阳极的另一侧。

9. 发明公开

KR1020100093728A 도금장치 无效
标题翻译：服装设备
公开(公告)号：KR1020100093728A
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：KR1020090012795
申请日：2009-02-17
申请人： (주)명문하이테크
发明人： 문병록
IPC分类号： C25D21/02 , C25D17/02
CPC分类号： C25D21/02 , C25D21/12
摘要： PURPOSE: A plating device is provided to improve plating efficiency and prevent a fire caused by the overheating of a heater. CONSTITUTION: A plating device comprises a bath(10), a heater(20), a temperature sensor(30), and an embedded controller(40). A plating liquid is put in the bath. The heater heats the liquid to keep the temperature of the plating liquid from being lowered. The temperature sensor is integrally formed in the heater and senses the temperature of the heated liquid in real time. The embedded controller comprises program(41) for analyzing the operating state of the heater based on the sensed temperature, a storage(42), and a timer(43).
摘要翻译：目的：提供电镀装置，以提高电镀效率并防止加热器过热引起的火灾。构成：电镀装置包括浴（10），加热器（20），温度传感器（30）和嵌入式控制器（40）。将电镀液放入浴中。加热器加热液体以保持电镀液的温度不会降低。温度传感器一体形成在加热器中，实时检测加热液体的温度。嵌入式控制器包括用于基于感测到的温度来分析加热器的操作状态的程序（41），存储器（42）和定时器（43）。

10. 发明公开

KR1020100074418A 금속판재의 주석도금 공정처리용 리플로우 장비 및 방법 有权
标题翻译：回火装置和金属板处理方法
公开(公告)号：KR1020100074418A
公开(公告)日：2010-07-02
申请号：KR1020080132838
申请日：2008-12-24
申请人： 송감영
发明人： 송감영
IPC分类号： C25D21/02 , C25D3/30
CPC分类号： C25D21/02 , C25D3/30 , C25D5/50
摘要： PURPOSE: A reflow apparatus and a method for the tinning treatment of a metal plate are provided to minimize the material loss of a metal plate in a tinning process by increasing the efficiency of the reflow treatment. CONSTITUTION: A reflow apparatus and a method for the tinning treatment of a metal plate comprises a first high frequency inductive heater(110) of a coil mode, a second high frequency inductive heater(120) of a core mode, and an air cooler(150). The first high frequency inductive heater of the coil mode is installed in order to face to both sides of the metal plate. The first high frequency inductive heater of the coil mode inductively heats the metal plate through an inductive magnetic field. The second high frequency inductive heater is installed to face to the both surfaces of the metal plate. The air cooler supplies air to the both surfaces of the metal plate.
摘要翻译：目的：提供一种用于金属板的镀锡处理的回流装置和方法，以通过提高回流处理的效率来最小化镀锡过程中金属板的材料损失。构成：用于金属板的镀锡处理的回流装置和方法包括：线圈模式的第一高频感应加热器（110），芯模的第二高频感应加热器（120）和空气冷却器 150）。安装线圈模式的第一高频感应加热器以便面对金属板的两侧。线圈模式的第一高频感应加热器通过感应磁场感应加热金属板。第二高频感应加热器被安装成面对金属板的两个表面。空气冷却器将空气供应到金属板的两个表面。

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