会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明公开
    • 표시 장치
    • 显示设备
    • KR1020130130666A
    • 2013-12-02
    • KR1020130126736
    • 2013-10-23
    • 스냅트랙, 인코포레이티드
    • 기무라야스까즈후지요시준구리야가와다께시소노다다이스께
    • G02B26/02G02B26/00
    • G02B26/02B32B3/00B81B3/0062B81B7/02B81B2201/047B81B2203/0307B81B2203/0376B81C1/00103G02B26/04G02F2203/12G09G3/34G09G5/10G09G2300/08H02N1/006
    • A display device having multiple pixels includes a shutter plate (SH) formed in a plate shape and having an actuator unit (AC). The actuator unit (AC) comprises: a beam unit (B) connected to the shutter plate (SH); a driving electrode (E) for driving the shutter plate (SH) after curving the beam unit (B) by applying voltage; a first support unit (S1) supporting the driving electrode (E) and fixated on a substrate (B1); and a second support unit supporting the beam unit (B) and fixated on the substrate. At least one among the first support unit (S1) and the second support unit has a planar part (Sp) separated from the substrate and a dented part (Sc) dented from the planar part (Sp) and connected to the substrate; wherein the dented part (Sc) has a vertical formation part (Sv), which is vertically inclined from the planar part, and a part (Sg), which is started from the vertical formation part (Sv) and has a gentle slope toward the substrate (B1).
    • 具有多个像素的显示装置包括形成为板状且具有致动器单元(AC)的快门板(SH)。 致动器单元(AC)包括:连接到快门板(SH)的梁单元(B); 用于通过施加电压来弯曲所述光束单元(B)来驱动所述快门板(SH)的驱动电极(E) 支撑驱动电极(E)并固定在基板(B1)上的第一支撑单元(S1); 以及支撑束单元(B)并固定在基板上的第二支撑单元。 第一支撑单元(S1)和第二支撑单元中的至少一个具有与基板分离的平面部分(Sp)和从平面部分(Sp)凹陷并连接到基板的凹陷部分(Sc); 其特征在于,所述凹部(Sc)具有从所述平面部垂直倾斜的垂直形成部(Sv)和从所述垂直形成部(Sv)开始并且朝向所述垂直形状部 基板(B1)。
    • 5. 发明公开
    • 캐비티 형성 방법 및 캐비티를 가진 부품
    • 形成孔隙的方法和具有孔隙的组分
    • KR1020170018948A
    • 2017-02-20
    • KR1020177001347
    • 2015-05-29
    • 로베르트 보쉬 게엠베하
    • 슈토이어벤야민토마쉬코요헨핀터슈테판하버러디트마암브루스터지몬
    • B81C1/00
    • H01L21/4803B81B1/00B81B2203/0315B81B2203/033B81B2203/0384B81C1/00103B81C1/0042B81C2201/013
    • 본발명은, 실리콘기판의표면이실리콘기판의제1 평면에대해경사각을가지며, 상기제1 평면이실리콘기판의 {111} 평면이되도록, 실리콘기판내에캐비티를형성하고실리콘기판의표면상에에칭마스크를배치하기위한방법에관한것이다. 에칭마스크는마스크개구부안쪽으로돌출하는제1 억제구조물을갖는다. 또한, 에칭마스크는제1 에칭돌출영역도포함한다. 제1 에칭돌출영역외부에서마스크개구부의모든추가에지부는실리콘기판의 {111} 평면들에대해실질적으로평행하게정렬된다. 추가단계로서, 본원의방법은결정된에칭기간동안실리콘기판을이방성에칭하는단계를포함한다. 이경우, 실리콘기판의 방향으로의에칭율은다른공간방향들보다더 낮으며, 제1 억제구조물은제1 에칭돌출영역에서부터시작하여제1 언더커팅방향으로언더커팅된다. 에칭기간은, 이방성에칭단계를통해실리콘기판의표면상에개구부를갖는캐비티가실리콘기판내에형성되도록결정된다. 에칭기간은, 에칭기간의만료후에실리콘기판의제1 평면이실질적으로노출되어캐비티의바닥면을형성하도록결정된다.
    • 一种用于在硅衬底中形成腔的方法,其中所述硅衬底的表面相对于所述硅衬底的第一平面具有倾斜角,并且其中所述第一平面是所述硅衬底的{111}面,并且对于 在硅衬底的表面上设置蚀刻掩模。 蚀刻掩模包括突出到掩模开口中的第一延迟结构。 蚀刻掩模还包括第一蚀刻投影区域。 在第一蚀刻投影区域外部的掩模开口的所有另外的边缘基本上平行于硅衬底的{111}平面布置。 作为进一步的步骤,该方法包括在确定的蚀刻持续时间期间硅衬底的各向异性蚀刻。 因此,硅衬底的<111>方向的蚀刻速率低于其它空间方向的蚀刻速率,并且第一延迟结构在第一底切方向上从第一蚀刻投影区域开始被削去。 确定蚀刻持续时间,使得通过各向异性蚀刻在硅衬底中形成空腔,所述空腔在硅衬底的表面具有开口。 蚀刻持续时间被确定为使得当蚀刻持续时间结束时,硅衬底的第一平面基本上暴露并形成空腔的底面。