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1. 发明公开

KR1020140130373A 기판처리장치 및 기판처리방법 有权
标题翻译：基板处理装置和基板处理方法
公开(公告)号：KR1020140130373A
公开(公告)日：2014-11-10
申请号：KR1020140120033
申请日：2014-09-11
申请人： 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
发明人： 후지와라나오즈미 , 미야카츠히코 , 카토마사히코 , 토쿠리켄타로
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/02
CPC分类号： B08B3/04 , B08B7/0092 , H01L21/67051 , H01L21/67109
摘要： 기판처리장치(1)에서는, 제1 액체공급부(31)로부터 기판(9)의 상면(91)에 공급된 순수의 과냉각액에 의해 상면(91) 상에 액막이 형성되고, 그 액막이 동결부(4)로부터의 냉각가스에 의해 냉각되어 동결막이 형성된다. 과냉각액에 의해 형성된 액막의 온도는 순수의 응고점보다 낮고, 동결이 생기기 쉬운 상태로 있다. 이 때문에, 동결부(4)에 의해 냉각되었을 때에, 액막의 동결에 필요로 하는 시간을 짧게 할 수 있다. 또한, 응고점보다 고온인 순수로 액막을 형성하는 경우에 비하여, 동결부(4)로부터의 냉각가스의 온도를 높게 하여도 신속히 액막을 동결할 수 있다. 이 때문에, 냉각가스 공급원으로부터 냉각가스 노즐(41)로 냉각가스를 공급하는 배관 등의 단열 설비를 간소화할 수 있다. 그 결과, 액막의 동결에 필요로 하는 냉각 비용을 억제할 수 있다.
摘要翻译：通过使用从第一液体供应单元（31）供应到基板的上侧（91）的纯过冷液体，在基板处理装置（1）的上侧（91）上形成液膜。通过冷冻单元（4）的冷却气体冷冻液膜而形成冷冻膜。液膜的温度低于纯冰点，容易冷冻。当使用冷冻单元（4）使液膜冷冻时，液膜冷冻所需的时间减少。当冷冻单元（4）的冷却气体的温度与在高于凝固点的温度下形成纯液膜的状态相比增加时，液膜迅速冷冻。诸如将冷却气体从冷却气体供应源供给到冷却气体喷嘴（41）的管道的绝缘设备被简化。因此，冷冻液膜所需的冷冻成本降低。

2. 发明公开

KR1020040098054A 유체 보조 저온 세정 无效
标题翻译：流体二次冷清洁
公开(公告)号：KR1020040098054A
公开(公告)日：2004-11-18
申请号：KR1020047015867
申请日：2003-04-03
申请人： 비오씨 엘엘씨
发明人： 바너지소빅 , 청할란포레스트
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02101 , B08B3/04 , B08B7/0092 , B24C1/003 , C23G5/00 , H01L21/67051
摘要： 본 발명은 반도체, 금속 및 유전체 필름과 같은 정밀 세정이 필요한 기재 표면의 유체 보조 저온 세정에 관한 것이다. 이 방법은 고 증기압 액체, 반응성 기체 및 반응성 액체의 증기로 구성된 군에서 선택된 유체를 기재 표면상에 적용하는 단계 후에 또는 그와 동시에 기재 표면을 저온 세정하여 오염물을 제거하는 단계를 포함한다.

3. 发明授权

KR100436361B1 기판 가장자리를 세정하기 위한 장치 有权
标题翻译： 기판가장자리를세정하기위한장치
公开(公告)号：KR100436361B1
公开(公告)日：2004-06-18
申请号：KR1020000077114
申请日：2000-12-15
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 고세종 , 김중관 , 윤철남 , 이정호
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02052 , B08B7/0092 , B24C1/003 , B24C3/02 , B24C3/22 , H01L21/67051 , Y10S134/902
摘要： The invention concerns an apparatus for cleaning the edge of a wafer that may be relatively simply constructed with low cost, and prevent the wafer from being re-contaminated by the edge cleaning, thus resulting in increase of the yield rate of wafers. The apparatus includes a cleaning agent ejection nozzle body provided on a side part of a chuck for ejecting a particulate cleaning agent (CO 2 particles) towards the side and the edge portions of the wafer held and rotated by the chuck, and a nozzle body carriage for moving the nozzle body between rest and cleaning positions.
摘要翻译：本发明涉及一种用于清洁晶片边缘的设备，该设备可以以较低的成本相对简单地构造，并且防止晶片被边缘清洁再次污染，从而导致晶片的良率提高。该设备包括设置在卡盘的侧部上的清洁剂喷射喷嘴主体，用于朝向保持和旋转的晶片的侧面和边缘部分喷射粒状清洁剂（CO 2 SUB粒子）卡盘和用于在静止位置和清洁位置之间移动喷嘴体的喷嘴体滑架。

4. 发明公开

KR1020030001306A 세정방법 및 그 장치 无效
标题翻译：清洁方法和清洁装置
公开(公告)号：KR1020030001306A
公开(公告)日：2003-01-06
申请号：KR1020020034989
申请日：2002-06-21
申请人： 요코가와 덴키 가부시키가이샤 , 후지 덴키 가부시키가이샤
发明人： 요시다다카시 , 이와사키모토아키 , 야노다츠로 , 하바야구라오 , 시로마다카히로
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B24C3/322 , B08B3/02 , B08B5/02 , B08B7/0092 , B24C1/003 , G11B23/505 , H01L21/67051 , Y10S134/902
摘要： PURPOSE: To solve the problem that it is difficult to remove minute particles of trash or the like in a cleaning solvent and the object to be cleaned is sometimes damaged since it is difficult to make the particle size of the solvent small. CONSTITUTION: The gas of the solvent (CO2) is made to pass through a line filter to remove the particles of trash or the like, which is then transformed into solid particles or liquid drops by jetting it from a nozzle. The obtained solid particles or liquid drops are jetted toward the object to be cleaned and the particle or organic matter on the surface of the object to be cleaned is removed. Since the solvent can be transformed into the solid particles or liquid drops by adjusting the gap between the nozzle and the object to be cleaned, the optimum state of the solvent can be selected according to the dirty level of the object to be cleaned. Since the particles of trash or the like in the solvent can be removed by the line filter easily, it is not necessary to use an expensive high-purity solvent and the running cost can be reduced.
摘要翻译：目的：为了解决在清洗溶剂中难以除去微小的垃圾等的问题，由于难以使溶剂的粒径变小，因此有时会损坏被清洁物。构成：使溶剂（CO2）的气体通过管线过滤器以除去垃圾颗粒等，然后通过从喷嘴喷射将其转化成固体颗粒或液滴。将获得的固体颗粒或液滴朝向要清洁的物体喷射，并且去除待清洁物体表面上的颗粒或有机物质。由于可以通过调整喷嘴和待清洁物体之间的间隙将溶剂转化成固体颗粒或液滴，所以可以根据待清洁物体的脏水平来选择溶剂的最佳状态。由于溶剂中的垃圾等的颗粒可以容易地通过线路过滤器去除，所以不需要使用昂贵的高纯度溶剂，并且可以降低运行成本。

5. 发明公开

KR1020020022222A 표면 세정용 에어로졸 생성 시스템 有权
标题翻译：用于产生表面清洁剂的系统
公开(公告)号：KR1020020022222A
公开(公告)日：2002-03-27
申请号：KR1020000054910
申请日：2000-09-19
申请人： 주식회사 케이씨
发明人： 김세호 , 윤철남
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B08B7/0092 , B01F3/0092 , B01F3/022 , B01F2003/0057 , B24C1/003 , F25B1/00 , F25B7/00 , F25B2309/06
摘要： PURPOSE: A system for generating surface cleaning aerosol is provided to make a nozzle generate a more atomized solid-type material of a predetermined quantity, by installing a mass flow controller and a low-temperature cooling unit which cools a cleaning medium at an optimum temperature. CONSTITUTION: A cleaning medium supplying source(10) supplies the cleaning medium of a liquid or gas type. The first cooling unit cools the first coolant. The second cooling unit has the second coolant cooled by the first coolant, and cools the second coolant again to cool the cleaning medium exhausted form the cleaning medium supplying source. The low-temperature cooling unit(30) includes the first and second cooling units. A mass flow controller(40) of the cleaning medium controls the quantity of the cleaning medium exhausted form the low-temperature cooling unit. A carrier supplying source(20) supplies a carrier capable of being mixed with the cleaning medium and transferring the cleaning medium at a high speed. A mass flow controller(50) of the carrier controls the quantity of the carrier exhausted from the carrier supplying source. A venturi nozzle(N) adiabatically expands the cleaning medium at a low pressure, and solidifies the cleaning medium. The venturi nozzle mixes the solidified cleaning medium with the carrier, and generate aerosol of high speed and high pressure.
摘要翻译：目的：提供一种用于产生表面清洁气溶胶的系统，通过安装质量流量控制器和冷却清洗介质的最佳温度的低温冷却单元，使喷嘴产生更多雾化的固体物质。构成：供应源（10）的清洁介质供应液体或气体类型的清洁介质。第一个冷却单元冷却第一个冷却液。第二冷却单元具有由第一冷却剂冷却的第二冷却剂，并且再次冷却第二冷却剂以冷却从清洁介质供应源排出的清洁介质。低温冷却单元（30）包括第一和第二冷却单元。清洁介质的质量流量控制器（40）控制从低温冷却单元排出的清洁介质的量。载体供应源（20）提供能够与清洁介质混合的载体并高速传送清洁介质。载体的质量流量控制器（50）控制从载体供应源排出的载体的量。文丘里喷嘴（N）在低压下绝热地膨胀清洁介质，并固化清洁介质。文氏管喷嘴将固化的清洁介质与载体混合，并产生高速高压气溶胶。

6. 发明公开

KR1020150131379A 튜브 외벽의 클리닝을 포함하는 스틸 튜브의 생산 방법 审中-实审
标题翻译：生产钢管的方法，包括外壁清洁
公开(公告)号：KR1020150131379A
公开(公告)日：2015-11-24
申请号：KR1020157030042
申请日：2014-03-11
申请人： 산드빅 마테리알스 테크놀로지 도이칠란트 게엠베하
发明人： 프로뵈제토마스 , 라우프만우도
IPC分类号： B21B21/00 , B21B38/00 , B21B45/02
CPC分类号： B21B45/0284 , B08B7/0021 , B08B7/0092 , B08B2209/02 , B21B21/00 , B21B38/006
摘要： 본발명은튜브내벽 (2), 튜브외벽 (3) 및상기튜브내벽 (2) 에의해서둘러싸인튜브자유단면을갖는스틸튜브 (1) 의제조를포함하는스틸튜브 (1) 의생산방법에관한것으로서, 상기제조후, 상기스틸튜브 (1) 는상기튜브외벽 (3) 에적어도하나의오염물질을포함하고, 그리고, 상기스틸튜브 (1) 의제조후, 상기튜브외벽 (3) 으로부터상기오염물질을제거하기위하여상기튜브외벽 (3) 에액체또는고체 CO를적용함으로써상기튜브외벽 (3) 의클리닝을수반한다.

7. 发明公开

KR1020120108671A 철도차량 하부 세척장치 有权
标题翻译：火车辅助清洁装置
公开(公告)号：KR1020120108671A
公开(公告)日：2012-10-05
申请号：KR1020110026851
申请日：2011-03-25
申请人： 주식회사 에코마이스터
发明人： 문영배 , 고용철 , 양주희
IPC分类号： B60S3/04 , B08B3/02
CPC分类号： B60S3/006 , B08B5/02 , B08B7/0092
摘要： PURPOSE: A lower side washing device for a train is provided to clearly clean trains, to improve washing effect, and to reduce washing time regardless of the types of the trains and lower structures. CONSTITUTION: A lower side washing device for a train comprises a main washer(100) and an auxiliary washer(200). The main washer sprays dry ice pellet made in a pelletizer through a spraying port. The auxiliary washer sprays high pressure air through the spraying port. When the trains are passed through a washing chamber at a constant speed or are stopped at a washing position of the washing chamber, the pollutant substrate on the underside of the trains is primarily removed while being expanded by the sublimation of the dry ice pellet sprayed from the main washer and is secondarily washed by the high pressure air supplied from the auxiliary washer.
摘要翻译：目的：提供列车的下侧清洗装置，以便清楚列车，改善洗涤效果，并减少洗涤时间，而不考虑列车和下部结构的类型。构成：用于列车的下侧洗涤装置包括主垫圈（100）和辅助垫圈（200）。主洗衣机通过喷雾口喷雾造粒机制成的干冰球。辅助垫圈通过喷洒口喷射高压空气。当火车以恒定的速度通过洗涤室或停在洗涤室的洗涤位置时，列车下侧的污染物基底主要被移除，同时通过从主洗衣机，并由辅助洗衣机供应的高压空气二次洗涤。

8. 发明授权

KR101105996B1 챔버 부품 세척 방법 有权
标题翻译：清洁组件
公开(公告)号：KR101105996B1
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：KR1020067017660
申请日：2004-12-15
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 슈바이처,마크오＇도널 , 틸러,제니퍼,와티아 , 웨스트,브라이언,티. , 브루크너,칼
IPC分类号： C23C16/44 , C23C14/56
CPC分类号： B08B7/0092 , B08B9/08 , C23C16/4407
摘要： 프로세스 부착물을 제거하기 위해 기판 프로세싱 챔버 부품의 표면을 세척하는 방법에서, 표면상의 프로세스 부착물을 파단시키기 위해 상기 부품 표면을 약 -40℃ 이하의 온도로 냉각시킨다. 액체 질소와 같은 저온 유체내에 표면을 침지시킴으로써 표면을 냉각시킬 수 있다. 다른 버전에서, 부착물을 파단시키고 박리시키기 위해 부품 표면을 가열하고, 이어서 급냉시켜 보다 많은 파단부를 형성할 수 있다. 화학적 세척 단계 후에 비드 블래스팅함으로써 부품 표면 세척이 실시될 수 있다.

9. 发明公开

KR1020080073300A 기판으로부터 포토레지스트를 제거하는 비-플라즈마 방법 无效
标题翻译：从基板去除光电离子的非等离子体方法
公开(公告)号：KR1020080073300A
公开(公告)日：2008-08-08
申请号：KR1020087012069
申请日：2005-12-28
申请人： 비오씨 엘엘씨 , 더 아리조나 보드 오브 리전츠 온 비핼프 오브 더 유니버시티 오브 아리조나
发明人： 바너지소우비크 , 보라데라메쉬비 , 크로스페기 , 라그하반스리니
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/422 , B08B3/02 , B08B7/0071 , B08B7/0092 , B08B7/02 , B24C1/003 , H01L21/02057 , H01L21/31127 , H01L21/31138
摘要： A method is provided to remove in particular ion implanted photoresist from a substrate, such as a semiconductor wafer, consisting of heateing the photoresist for deforming an interface of a crust and bulk layer of the photoresist, and controlling a temperature of the heating for cracking the photoresist.
摘要翻译：提供了一种方法，特别是从诸如半导体晶片的衬底去除特别是离子注入的光致抗蚀剂，其包括加热光致抗蚀剂以使光致抗蚀剂的外壳和本体层的界面变形，并且控制用于裂化的加热温度光致抗蚀剂。

10. 发明公开

KR1020070003892A 챔버 부품 세척 방법 有权
标题翻译：清洁组件
公开(公告)号：KR1020070003892A
公开(公告)日：2007-01-05
申请号：KR1020067017660
申请日：2004-12-15
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 슈바이처,마크오＇도널 , 틸러,제니퍼,와티아 , 웨스트,브라이언,티. , 브루크너,칼
IPC分类号： C23C16/44 , C23C14/56
CPC分类号： B08B7/0092 , B08B9/08 , C23C16/4407
摘要： In a method of cleaning a surface of a substrate processing chamber component to remove process deposits, the component surface is cooled to a temperature below about -40‹C to fracture the process deposits on the surface. The surface can be cooled by immersing the surface in a low temperature fluid, such as liquid nitrogen. In another version, the component surface is heated to fracture and delaminate the deposits, and optionally, subsequently rapidly cooled to form more fractures. The component surface cleaning can also be performed by bead blasting followed by a chemical cleaning step. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：在清洗基板处理室部件的表面以去除工艺沉积物的方法中，将部件表面冷却至低于约-40℃的温度以破坏表面上的工艺沉积物。表面可以通过将表面浸入诸如液氮的低温流体中来冷却。在另一个版本中，组件表面被加热以使沉积物断裂并分层，并且任选地随后快速冷却以形成更多的裂缝。组件表面清洁也可以通过喷丸处理，然后进行化学清洁步骤。 ®KIPO＆WIPO 2007

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