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1. 发明公开

KR1020110043874A 라디오 주파수 신호 처리 장치 및 라디오 주파수 신호 처리 방법 有权
标题翻译： RF信号处理设备和RF信号处理方法
公开(公告)号：KR1020110043874A
公开(公告)日：2011-04-28
申请号：KR1020090100592
申请日：2009-10-22
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 권효근 , 이상원 , 김형준
IPC分类号： H04B1/12 , H04B1/16
CPC分类号： H04B1/12 , H03L7/091 , H04B1/16
摘要： PURPOSE: An RF(Radio Frequency) signal processing apparatus is provided to stably control RF power source using a sampling frequency. CONSTITUTION: A sensor unit(140) measures the output voltage and current of the RF power. The sensor unit generates a voltage signal and a current signal. A sampling unit(210) samples the current signal and the voltage signal through the sampling frequency. The sampling unit generates a sampling current signal and a sampling voltage signal. A signal processing unit(201) processes the sampling current signal and the sampling voltage signal through a pipeline.
摘要翻译：目的：提供一种RF（射频）信号处理装置，以使用采样频率稳定地控制RF电源。构成：传感器单元（140）测量RF功率的输出电压和电流。传感器单元产生电压信号和电流信号。采样单元（210）通过采样频率对当前信号和电压信号进行采样。采样单元产生采样电流信号和采样电压信号。信号处理单元（201）通过管线处理采样电流信号和采样电压信号。

2. 发明授权

KR100964804B1 아크 감지 장치와 아크 감지 방법 有权
标题翻译：电弧检测装置和电弧监测方法
公开(公告)号：KR100964804B1
公开(公告)日：2010-06-22
申请号：KR1020070108417
申请日：2007-10-26
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 김형준 , 이상원 , 김재현
IPC分类号： H05H1/30 , H05H1/32
摘要： 본 발명은 아크 감지 장치와 아크 감지 방법을 제공한다. 이 장치는 전원이 전송선을 통하여 부하에 전력을 공급하는 RF 방전에 있어서, 전송선의 전류 또는 전압의 전기적 신호를 측정하는 감지부, 및 감지부의 출력신호인 전압신호 또는 전류신호를 처리하여 아크 발생을 판단하는 처리부를 포함하되, 처리부는 전압신호 또는 전류신호를 처리하여 포락선 신호를 생성하고, 부하에서 아크 발생에 대응하는 포락선 신호를 이용하여 아크 발생 여부를 판단한다.
플라즈마, 아크, 실시간 모니터링

3. 发明授权

KR101136331B1 라디오 주파수 신호 처리 장치 및 라디오 주파수 신호 처리 방법 有权
标题翻译： RF信号处理设备和RF信号处理方法
公开(公告)号：KR101136331B1
公开(公告)日：2012-04-20
申请号：KR1020090100592
申请日：2009-10-22
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 권효근 , 이상원 , 김형준
IPC分类号： H04B1/12 , H04B1/16
摘要： 본 발명은 RF 신호 처리 장치 및 RF 신호 처리 방법을 제공한다. 이 장치는 구동 주파수(f
rf )로 구동되는 RF 전원의 출력 전압 및 전류를 측정하여 전압 신호 및 전류 신호를 생성하는 센서부, 구동 주파수(f
rf )에 동기화되고, 구동 주파수(f
rf )의 정수배인 샘플링 주파수(f
s )로 전류 신호 및 상기 전류 신호를 샘플링하여 샘플링 전류 신호 및 샘플링 전압 신호를 생성하는 샘플링부, 및 샘플링 전류 신호 및 샘플링 전압 신호를 파이프라인(pipeline)을 통하여 처리하는 신호 처리부를 포함한다. 신호처리부는 샘플링 주파수의 클럭 마다 연산 신호를 제공한다.
RF 전원, 파이프 라인, 동기화, 오버 샘플링, 고속 제어

4. 发明公开

KR1020100067413A 비접촉식 플라즈마 모니터링 장치, 플라즈마 처리 장치 및 비접촉식 플라즈마 모니터링 방법 无效
标题翻译：非接触式等离子体监测装置，等离子体处理装置和非接触式等离子体监测系统
公开(公告)号：KR1020100067413A
公开(公告)日：2010-06-21
申请号：KR1020080125975
申请日：2008-12-11
申请人： 삼성전자주식회사 , 주식회사 플라즈마트
发明人： 최신일 , 진홍기 , 김상갑 , 이기엽 , 양동주 , 정유광 , 최승하 , 여윤종 , 박지영 , 김형준 , 이상선
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065 , H01L21/205
CPC分类号： G01R33/12
摘要： PURPOSE: A contactless plasma monitoring apparatus, a plasma processing apparatus and a contactless plasma monitoring method are provided to maintain a plasma state in a processing chamber with proper condition to a plasma process by controlling a voltage provided to the processing chamber in a real time. CONSTITUTION: A processing chamber(100) supplies a reaction space(150) in which the process is implemented using a plasma(140). The processing chamber includes an upper electrode(110) and a lower electrode(120). A power supply unit(300) supplies the power supply to the processing chamber. The power supply unit includes a power generating unit(320) with generating the power supply to the processing chamber and a matching box(310). The matching box controls the intensity of the generated power source and supplies to the processing chamber. A power supply wiring(200) connects the processing chamber with the power supply unit.
摘要翻译：目的：提供一种非接触式等离子体监测装置，等离子体处理装置和非接触式等离子体监测方法，以通过实时控制提供给处理室的电压，将处于等离子体状态的等离子体状态保持在等离子体处理的适当条件。构成：处理室（100）提供使用等离子体（140）实现该过程的反应空间（150）。处理室包括上电极（110）和下电极（120）。电源单元（300）将电源供应到处理室。电源单元包括产生对处理室的电源的发电单元（320）和匹配箱（310）。匹配箱控制所产生的电源的强度并供应给处理室。电源线（200）将处理室与电源单元连接。

5. 发明公开

KR1020080107824A 플라즈마 이상 감지 장치와 플라즈마 이상 감지 방법 有权
标题翻译： ARC检测装置和ARC监测方法
公开(公告)号：KR1020080107824A
公开(公告)日：2008-12-11
申请号：KR1020070056103
申请日：2007-06-08
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 이상원 , 김형준 , 김재현 , 서상훈 , 이용관
IPC分类号： G01R31/12
CPC分类号： H05H1/26 , H01J37/32055 , H01J37/32064 , H05H2001/3494 , G01R31/12 , G01R19/145
摘要： An ARC detecting apparatus and method for monitoring of ARC is provided to monitor whether arc generation and a plasma process is normal or not in real time without the change of the chamber structure. In an ARC detecting apparatus, a transmission line is connected to the load and transmits the electric signal of current or voltage. A sensor measures the electric signal of the current of the transmission line or voltage. A processing unit(25) processes the electric signal and produces one or more ARC detection signal.
摘要翻译：提供用于监视ARC的ARC检测装置和方法，用于监视电弧产生和等离子体处理是否正常，而不改变腔室结构。在ARC检测装置中，传输线连接到负载并发送电流或电压的电信号。传感器测量传输线电流或电压的电信号。处理单元（25）处理电信号并产生一个或多个ARC检测信号。

6. 发明授权

KR100935406B1 플라즈마 이상 감지 장치와 플라즈마 이상 감지 방법 有权
标题翻译：等离子体异常检测装置和等离子体异常监测方法
公开(公告)号：KR100935406B1
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：KR1020070056103
申请日：2007-06-08
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 이상원 , 김형준 , 김재현 , 서상훈 , 이용관
IPC分类号： G01R31/12
CPC分类号： H05H1/26 , H01J37/32055 , H01J37/32064 , H05H2001/3494
摘要： 부하에 연결되어, 전류 또는 전압의 전기적 신호를 전송하는 전송선, 전송선의 전류 또는 전압의 전기적 신호를 측정하는 감지부, 및 전기적 신호를 처리하여 적어도 하나의 아크 검출신호를 생성하는 처리부를 포함하되, 아크 검출신호는 부하에 발생하는 아크에 대응하여 생성되는 것을 특징으로 하는 아크 감지 장치를 포함한다.
플라즈마, 아크, 실시간 모니터링

7. 发明公开

KR1020090042576A 아크 감지 장치와 아크 감지 방법 有权
标题翻译：电弧检测装置和电弧监测方法
公开(公告)号：KR1020090042576A
公开(公告)日：2009-04-30
申请号：KR1020070108417
申请日：2007-10-26
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 김형준 , 이상원 , 김재현
IPC分类号： H05H1/30 , H05H1/32
CPC分类号： H01J37/32944 , H01J37/32082 , H05H1/46 , H05H2001/4645
摘要： An arc detecting apparatus and an arc sensing method is provided to monitor the abnormality of the plasma process by determining the generation of arc. An arc detecting apparatus comprises a sensor and a processing unit. The sensor measures the electric signal of the current or voltage of the transmission line. The processing unit processes the voltage signal or the current signal(SV',SI') which is the output signal of sensor and determines the generation of arc. The processing unit processes the voltage signal or the current signal, and produces the envelope signal, and determines the generation of arc by using the envelope signal corresponding to arc in the load. The processing unit comprises a pre-processing unit(25) and a determining unit(10). The pre-processing unit processes the voltage signal or the current signal, and produces the ARC detection signal(OUT), the voltage envelope signal, and the current envelope signal(Vrms,Irms). The determining unit determines the generation of arc by using width and/or the slope of the current envelope signal and/or the voltage envelope signal.
摘要翻译：提供电弧检测装置和电弧检测方法，通过确定电弧的产生来监测等离子体处理的异常。电弧检测装置包括传感器和处理单元。传感器测量传输线的电流或电压的电信号。处理单元处理作为传感器的输出信号的电压信号或电流信号（SV'，SI'），并确定电弧的产生。处理单元处理电压信号或电流信号，并产生包络信号，并通过使用与负载中的电弧相对应的包络信号来确定电弧的产生。处理单元包括预处理单元（25）和确定单元（10）。预处理单元处理电压信号或电流信号，并产生ARC检测信号（OUT），电压包络信号和电流包络信号（Vrms，Irms）。确定单元通过使用当前包络信号和/或电压包络信号的宽度和/或斜率来确定电弧的产生。

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