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1. 发明授权

KR101151421B1 ＲＦ 전력 분배 장치 및 ＲＦ 전력 분배 방법 有权
公开(公告)号：KR101151421B1
公开(公告)日：2012-06-01
申请号：KR1020100071800
申请日：2010-07-26
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 김재현 , 이상원 , 이용관
IPC分类号： H05H1/46 , H03H7/40
摘要： 본발명은 RF 전력분배장치및 RF 전력분배방법을제공한다. 이장치는 RF 전원의전력을전달하는임피던스매칭네트워크, 및진공용기의내부에배치되어축전결합플라즈마를생성하는전극및 상기진공용기의주위에배치되어유도결합플라즈마를생성하는유도안테나에임피던스매칭네트워크의출력전력을분배하는전력분배부를포함한다. 제1 부하는전극및 유도안테나중에서어느하나로선택되고, 제2 부하는전극및 유도안테나중에서다른어느하나로선택된다. 전력분배부는제1 부하에직렬연결된제1 리액턴스소자, 일단은제1 리액턴스소자및 제1 부하에병렬연결되고타단은접지되는가변축전기, 및일단은가변축전기의일단과제1 리액턴스소자의일단이서로접촉하는제1 노드에연결되고, 타단은제2 부하및 매칭네트워크의출력단이연결되는제2 노드에연결되는제2 리액턴스소자를포함한다.

2. 发明授权

KR100950987B1 진공 처리 장치 및 그 처리 방법 有权
标题翻译：真空加工设备及其加工方法
公开(公告)号：KR100950987B1
公开(公告)日：2010-04-02
申请号：KR1020080012283
申请日：2008-02-11
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 엄세훈 , 송웅섭 , 윤광섭 , 이용관
IPC分类号： H01L21/02
摘要： 본 발명은 진공 처리 장치 및 그 처리 방법을 제공한다. 이 장치는 시료를 처리하기 위한 진공 처리 장치에 있어서, 진공이 생성되고 시료가 로딩되는 챔버 영역을 제공하는 서로 다른 기능을 수행하는 복수의 챔버부들, 챔버부들 중의 적어도 하나가 로딩될 수 있는 결합 영역을 제공하는 하나의 몸체부를 포함하되, 진공 처리 장치는 챔버부들 각각이 몸체부를 공통으로 사용 가능하도록, 챔버부들 각각은 몸체부에 탈부착 가능하다.
진공 장치, 챔버, 탈부착

3. 发明公开

KR1020070093502A 유도결합형 플라즈마 발생장치의 안테나 냉각장치 有权
标题翻译：用于感应耦合等离子体发生器的天线冷却装置
公开(公告)号：KR1020070093502A
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：KR1020060023393
申请日：2006-03-14
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 김재현 , 홍보한 , 이상원 , 이용관
IPC分类号： H05H1/34
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/3211 , H01Q1/366 , H01Q7/00 , H05H2001/4667 , H05H2242/10
摘要： An antenna cooling device for an inductively coupled plasma generator is provided to improve the cooling efficiency of the antenna by arranging the antenna using a heat pipe and to prevent the performance of plasma generator from being deteriorated. An antenna cooling device for an inductively coupled plasma generator uses a single or plural heat pipes(H1-H5) as an antenna(10). A refrigerant is filled inside the heat pipes. A heat radiator(20) is formed at one end of the heat pipe. The heat radiator is arranged at the other end of the heat pipe. A coating layer is formed on the surface of the heat pipe to improve an electrical conductivity of the heat pipe. The antenna is a series-type antenna. Plural heat pipes are series-connected to each other using a conductive connector.
摘要翻译：提供了一种用于电感耦合等离子体发生器的天线冷却装置，通过使用热管布置天线并防止等离子体发生器的性能恶化来提高天线的冷却效率。用于感应耦合等离子体发生器的天线冷却装置使用单个或多个热管（H1-H5）作为天线（10）。热管内装有制冷剂。散热器（20）形成在热管的一端。散热器布置在热管的另一端。在热管的表面上形成涂层，以提高热管的导电性。天线是串联天线。多个热管使用导电连接器彼此串联连接。

4. 发明公开

KR1020070073435A 평판표시장치의 표면처리를 위한 유도결합형 플라즈마발생장치의 안테나구조 有权
标题翻译：用于面板显示的感应耦合等离子体发生器的天线结构
公开(公告)号：KR1020070073435A
公开(公告)日：2007-07-10
申请号：KR1020060001348
申请日：2006-01-05
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 김재현 , 이상원 , 이용관
IPC分类号： H05H1/34
CPC分类号： H01J37/3211 , H01J37/32174 , H01Q1/366 , H01Q7/00 , H05H1/46 , H05H2001/4667 , H05H2001/4682
摘要： An antenna structure for an inductively coupled plasma generator for a surface process of a flat display device is provided to improve a yield by acquiring a uniform plasma density distribution in all areas. An antenna structure for an inductively coupled plasma generator for a surface process of a flat display device includes a power end(P), a ground end(G), and a plurality of antennas(C). An RF(Radio Frequency) power is applied to the power end(P) formed on an end. The ground end(G) of the other end is grounded. The plurality of antennas(C) is electrically connected to each other in parallel, and is symmetrically arranged in a rotation direction. The remaining region of the antenna(C) except each corner unit is diverged into at least two or more branch lines. The diverged branch lines are arranged in series inwardly and outwardly from a center of the plurality of antennas(C).
摘要翻译：提供了一种用于平面显示装置的表面处理的电感耦合等离子体发生器的天线结构，以通过在所有区域中获得均匀的等离子体密度分布来提高产量。用于平面显示装置的表面处理的电感耦合等离子体发生器的天线结构包括电源端（P），接地端（G）和多个天线（C）。 RF（射频）功率施加到形成在端部上的功率端（P）。另一端的接地端（G）接地。多个天线（C）彼此并联电连接，并且沿旋转方向对称布置。除了每个角单元之外的天线（C）的剩余区域分散到至少两个或更多个分支线。发散的分支线从多个天线（C）的中心向内和向外串联布置。

5. 发明授权

KR100519653B1 반도체 장치용 원거리 플라즈마 세정장치 및 세정방법 有权
标题翻译：等离子体清洁装置和使用远程等离子体的方法
公开(公告)号：KR100519653B1
公开(公告)日：2005-10-10
申请号：KR1020030018075
申请日：2003-03-24
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 김재현 , 이용관 , 엄세훈
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 반도체 장치용 원거리 플라즈마 세정장치 및 세정방법에 관한 것으로, 챔버(100)와; 상기 챔버(100)내에 반응가스를 공급하는 반응가스공급부 (110)와; 상기 챔버(100)밖으로 반응가스의 배기를 행하는 배기부(120)와; 상기 챔버(100)내에 설치되고 고주파전원(130)이 인가되는 제1전극(140)과; 상기 제1전극(1)과 평행하도록 배치되며 전기적으로 접지된 제2전극(150)과; 전도성을 갖는 금속재로 이루어지고 라디칼이 내부로 유입 가능하도록 다수의 통공(162)이 형성되며, 상기 제1전극(140)과 제2전극(150)사이의 공간에 위치되고 그 내부에 세정을 위한 피처리물이 안착되고 이를 둘러싸는 내부공간(S)이 형성되며 전기적으로 접지되어 있는 쉴드(160);를 포함하여 이루어진 것으로 원거리 플라즈마를 이용하여 이중구조로 이루어지고 전기적으로 접지된 쉴드에 의해 이온 및 축전전하에 의한 반도체 장치의 손상 없이 효율적이면서 균질하게 반도체 장치를 세정할 수 있도록 한 것이다.

6. 发明公开

KR1020030080741A 대기압 저온 평판 플라즈마 발생장치 有权
标题翻译：大气压力低温平流发生装置
公开(公告)号：KR1020030080741A
公开(公告)日：2003-10-17
申请号：KR1020020019526
申请日：2002-04-10
申请人： (주)창조엔지니어링 , 주식회사 플라즈마트
发明人： 이용관 , 엄세훈 , 강방권
IPC分类号： H05H1/00
摘要： PURPOSE: An atmospheric pressure low temperature flat plasma generation apparatus is provided, which maintains a low temperature stably under an atmospheric pressure as using an argon/oxygen gas as a reaction gas, and performs a long time discharge stably, and generates glow plasma with only an RF power supply source without a special ignition condition. CONSTITUTION: A ground electrode(2) and a pair of power supply electrode(1) whose one side is connected to a RF power supply(P) and another side is grounded are installed separately each other. Dielectric films(3,4) are installed in an inner side of the power supply electrode and the ground electrode. A middle dielectric(5) is installed between the dielectric films and forms a discharge gap(g) on a bottom of the inside between the power supply electrode and the ground electrode. A gas inflow path(6) is formed in the ground electrode to supply a reaction gas to the discharge gap. A number of gas exhaustion orifices(7) penetrate the discharge gap. And a heating unit(8) is installed in the ground electrode, and heats the reaction gas supplied to the discharge gap through the inside of the ground electrode.
摘要翻译：目的：提供一种大气压低温扁平等离子体生成装置，其使用氩/氧气作为反应气体，在大气压下保持稳定的低温，并且稳定地进行长时间放电，并且仅产生辉光等离子体没有特殊点火条件的RF电源。构成：将一侧连接到RF电源（P）并且另一侧接地的接地电极（2）和一对电源电极（1）分开地彼此安装。电介质膜（3,4）安装在电源电极和接地电极的内侧。中间电介质（5）安装在电介质膜之间，并在电源电极和接地电极之间的内部底部形成放电间隙（g）。在接地电极中形成气体流入路径（6），以向放电间隙供应反应气体。一些气体排气孔（7）穿透放电间隙。并且在接地电极中安装加热单元（8），并且通过接地电极的内部加热供给到放电间隙的反应气体。

7. 发明公开

KR1020020035249A 유도결합으로 보강된 축전결합형 플라즈마 발생장치 및플라즈마 발생방법 有权
标题翻译：用于通过电感耦合产生累加耦合型增强等离子体的装置和方法
公开(公告)号：KR1020020035249A
公开(公告)日：2002-05-11
申请号：KR1020000065472
申请日：2000-11-06
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 이용관 , 배근희 , 이상원 , 엄세훈
IPC分类号： H05H1/46
摘要： PURPOSE: An apparatus and a method thereof are provided to generate an accumulating-coupling type reinforced plasma having a wide effective area and a uniform and high density by an inductive coupling in order to process a sample having a large area. CONSTITUTION: A vacuum chamber(10) includes a gas injection port(11), a gas discharge port(12), and a vacuum pump(13). A chuck(20) loads a wafer or a sample such as a glass substrate at an inside of the vacuum chamber(10). An upper electrode plate(30) is arranged at an upper portion of the vacuum chamber(10). The upper electrode plate(30) has a disc shape. A power supply(40) applies an RF power to the upper electrode plate(30). One terminal of an antenna(50) is electrically connected to one side of the upper electrode plate(30) in parallel. Another terminal of the antenna(50) is connected to a ground.
摘要翻译：目的：提供一种装置及其方法，以通过电感耦合产生具有宽有效面积和均匀和高密度的积聚耦合型增强等离子体，以处理具有大面积的样品。构成：真空室（10）包括气体注入口（11），气体排出口（12）和真空泵（13）。卡盘（20）在真空室（10）的内部装载诸如玻璃基板的晶片或样品。上电极板（30）设置在真空室（10）的上部。上电极板（30）具有圆盘形状。电源（40）向上电极板（30）施加RF功率。天线（50）的一个端子并联地电连接到上电极板（30）的一侧。天线（50）的另一终端连接到地面。

8. 实用新型

KR200253559Y1 회전방향으로 균일한 플라즈마 밀도를 발생시키는유도결합형 플라즈마 발생장치의 안테나구조 失效
标题翻译：感应耦合等离子体生成装置的天线结构，在旋转方向上产生均匀的等离子体密度
公开(公告)号：KR200253559Y1
公开(公告)日：2001-11-22
申请号：KR2020010023128
申请日：2001-07-30
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 이용관 , 엄세훈 , 이상원
IPC分类号： H05H1/30
摘要： 본 고안은 반도체 웨이퍼 등 피가공물이 수용되는 챔버 내부의 플라즈마 밀도를 회전방향에 대하여 대칭적으로 균일하게 발생시킬 수 있도록 함으로써 대구경의 피가공물을 효과적으로 가공할 수 있도록 한 플라즈마 발생장치의 안테나 구조에 관한 것인바, 일단에 RF전원이 인가되는 파워드 엔드가 형성되고 타단은 접지된 그라운드 엔드를 갖는 유도결합형 플라즈마 발생장치의 안테나에 있어서, 상기 안테나는 적어도 2개의 루프형 안테나(10,20)가 전기적으로 병렬접속되고, 각 안테나(10,20)의 파워드 엔드(P)와 그라운드 엔드(G)는 안테나(10,20)의 중심에 대하여 대칭위치에 배치되며, 각 안테나(10,20)의 파워드 엔드(P)와 그라운드 엔드(G)는 챔버에서 먼 위치에 배치되고 각 안테나(10,20)의 중간부분(10a,20a)은 챔버에서 가까운 위치에 오도록 상호 평행하게 교차설치되어 챔버내에서 회전방향에 대한 균일한 플라즈마 밀도를 갖도록 한 것이다.

9. 发明授权

KR101446159B1 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 발생 방법 有权
标题翻译：等离子体生成装置和等离子体生成方法
公开(公告)号：KR101446159B1
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：KR1020130046716
申请日：2013-04-26
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 이용관 , 엄세훈 , 김영록 , 이규훈
IPC分类号： H05H1/46
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치를 제공한다. 이 장치는 폐 루프를 형성하도록 토로이드(toroid) 형태의 자성체 코어, 자성체 코어의 일 단면을 감싸고 폐 루프를 형성하는 방전 공간을 포함하는 챔버, 자성체 코어의 다른 단면을 감싸도록 배치되는 유도 코일, 유도 코일에 전력을 공급하여 자성체 코어에 의하여 형성된 유도 기전력이 방전 공간에 토로이달 플라즈마를 형성하도록 하는 교류 전원, 및 방전 공간의 내부 표면에 형성된 그루브(Groove)를 포함한다. 유도 코일은 변압기의 1차 코일을 구성하고, 방전 공간에 형성된 플라즈마는 상기 변압기의 2차 코일을 형성한다.

10. 发明授权

KR101241049B1 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 발생 방법 有权
标题翻译：等离子体生成装置和等离子体生成方法
公开(公告)号：KR101241049B1
公开(公告)日：2013-03-15
申请号：KR1020110076585
申请日：2011-08-01
申请人： 주식회사 플라즈마트
发明人： 이용관 , 김재현 , 이상원 , 엄세훈 , 김영록 , 이규훈 , 김진중
IPC分类号： H05H1/46 , C23C16/50
CPC分类号： H01J37/30 , H01J37/32192 , H01J37/3266 , H05H1/46 , H05H2001/4622
摘要： 본 발명은 플라즈마 발생 장치 및 플라즈마 발생 방법을 제공한다. 플라즈마 발생 장치는 유전체 창문을 가지고 토로이달 형태의 방전 공간을 가지는 챔버, 챔버의 일부를 감싸도록 배치되는 자성체 코어, 자성체 코어를 감싸도록 배치되는 유도 코일, 및 유전체 창문을 통하여 초고주파를 방사하는 도파관을 포함한다. 유도 코일에 흐르는 교류 전류는 자성체 코어에 자속을 형성하고, 자속은 상기 챔버 내부에 유도 결합 플라즈마를 형성하고, 도파관을 진행하는 초고주파는 챔버에 초고주파 플라즈마를 형성한다.

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