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1. 发明授权

KR102121799B1 기판처리장치 有权
公开(公告)号：KR102121799B1
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：KR1020180146501
申请日：2018-11-23
申请人： 주식회사 테스
发明人： 한진수 , 김수천
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687 , F16L11/11

2. 发明授权

KR102119396B1 기판처리장치 有权
公开(公告)号：KR102119396B1
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：KR1020180130385
申请日：2018-10-30
申请人： 주식회사 테스
发明人： 한진수 , 김수천
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/687

3. 发明公开

KR1020140079904A 기판처리장치 有权
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：KR1020140079904A
公开(公告)日：2014-06-30
申请号：KR1020120149078
申请日：2012-12-20
申请人： 주식회사 테스
发明人： 김수천 , 민승혁
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/673 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/67265 , H01L21/67011
摘要： The present invention relates to a substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus according to the present invention includes a tray on which a substrate is mounted and which moves to the inside of a chamber to carry out a predetermined process for the substrate; and a position determining unit for determining the position of the tray to be in its regular position in the chamber. The position determining unit determines the position of the tray based on the central part of the tray to make the central part of the tray positioned in its regular position in the chamber.
摘要翻译：本发明涉及一种基板处理装置。根据本发明的基板处理装置包括：托盘，其上安装有基板，并且移动到室的内部以对基板执行预定的处理; 以及位置确定单元，用于确定所述托盘处于所述腔室中其规则位置的位置。位置确定单元基于托盘的中心部分来确定托盘的位置，以使托盘的中心部分位于腔室中其规则位置。

4. 发明授权

KR101616265B1 셔터유닛 및 이를 구비한 반도체장치 有权
标题翻译：快门单元和具有相同功能的半导体设备
公开(公告)号：KR101616265B1
公开(公告)日：2016-04-28
申请号：KR1020150011381
申请日：2015-01-23
申请人： 주식회사 테스
发明人： 김수천
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67126 , H01L21/6719 , H01L21/67772 , H01L21/67242
摘要： 본발명은셔터유닛및 이를구비한반도체장치에 관한것이다. 본발명에따른셔터유닛은소정의각도로양방향회전하는회전축, 상기회전축에높이를달리하여연속적으로구비되어상기회전축의회전에따라상기회전축의회전방향으로회전하며순차적으로포개지거나또는순차적으로펼쳐지는복수의블레이드를포함하는것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明涉及一种快门单元及其配备的半导体装置。根据本发明，快门单元包括：以预定角度双向旋转的旋转轴; 以及通过使旋转轴上的高度不同而连续配置的多个叶片，用于相对于旋转轴的旋转沿旋转轴的旋转方向旋转，并且依次折叠或顺序地展开。本发明提供了能够去除能够堆叠在快门单元的上部的异物的快门单元。

5. 发明授权

KR101232597B1 기판처리장치 有权
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：KR101232597B1
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：KR1020110116298
申请日：2011-11-09
申请人： 주식회사 테스
发明人： 하주일 , 마희전 , 노동민 , 윤희동 , 김수천
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/04
CPC分类号： Y02E10/50 , H01L31/18 , H01L31/04
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to uniformly heat a substrate by preventing the substrate from being separated from a heater block due to a thermal expansion coefficient difference between the heater block and a tray. CONSTITUTION: An opening part is formed in a tray. A gate and a space(11) are formed in a chamber(10). A heater block(40) is installed in the space part of the chamber. A heating element is buried in the heating member. A susceptor member is arranged on the upper side of the heating member.
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，用于通过防止由于加热器块和托盘之间的热膨胀系数差而使基板与加热器块分离而使基板均匀加热。构成：在托盘中形成开口部。在室（10）中形成有一个门和一个空间（11）。加热器块（40）安装在腔室的空间部分中。加热元件埋在加热件中。基座部件布置在加热部件的上侧。

6. 发明授权

KR101599205B1 트레이 어셈블리 및 이를 구비한 박막증착장치 有权
标题翻译：托盘组装和薄膜沉积装置
公开(公告)号：KR101599205B1
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：KR1020150014832
申请日：2015-01-30
申请人： 주식회사 테스
发明人： 김수천 , 차동일
IPC分类号： H01L21/673
CPC分类号： H01L21/67333
摘要： 본발명은트레이어셈블리및 이를구비한박막증착장치에관한것이다. 본발명에따른트레이어셈블리는기판이안착되며상기기판이안착되는면과평행하게소정거리이동가능하게구비되는트레이및 상기트레이의하부에구비되어상기마스크시트를당기도록상기트레이와연동하여이동하며, 상기기판이안착된면에대해수직방향으로소정거리이동가능하게구비되는마그넷플레이트를구비하는것을특징으로한다.
摘要翻译：托盘组件和具有该托盘组件的薄膜沉积设备技术领域本发明涉及一种托盘组件和具有该托盘组件的薄膜沉积设备。根据本发明的托盘组件包括具有安装的基板的托盘，并形成为与安装基板的表面平行移动一定距离; 以及形成在托盘的下部的磁板，并且通过连接到托盘以拉动掩模片而移动，并且形成为与安装基板的表面垂直地移动一定距离。本发明的目的是提供一种能够进行视觉对准的托盘组件。

7. 发明授权

KR101403292B1 트레이 및 이를 구비한 기판처리장치 有权
标题翻译：托盘和基板处理装置具有相同的功能
公开(公告)号：KR101403292B1
公开(公告)日：2014-06-09
申请号：KR1020110119484
申请日：2011-11-16
申请人： 주식회사 테스
发明人： 하주일 , 마희전 , 노동민 , 윤희동 , 김수천
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/677 , H01L31/18
CPC分类号： Y02P70/521
摘要： 본 발명은 기판에서 가이드핀과 인접한 영역의 처리가 불균일해지는 것이 방지되도록 구조가 개선된 트레이 및 이를 구비한 기판처리장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 트레이는 기판을 이송하기 위한 트레이에 있어서, 평판 형상으로 형성되며, 상기 기판이 안착되는 평판부와, 평판부에 안착된 기판이 이탈되는 것이 방지되도록 평판부의 상면 위로 돌출되는 제1위치와, 평판부의 상면 아래로 몰입되는 제2위치 사이에서 승강 가능한 복수의 가이드핀을 포함한다.

8. 发明公开

KR1020130048592A 기판처리장치 无效
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：KR1020130048592A
公开(公告)日：2013-05-10
申请号：KR1020110113523
申请日：2011-11-02
申请人： 주식회사 테스
发明人： 하주일 , 마희전 , 노동민 , 윤희동 , 김수천
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/3065 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/67017 , H01L21/68742 , H01L21/68785
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to prevent the damage of a support shaft or a susceptor, the generation of particles due to the thermal expansion of the susceptor by reducing the frictional force between the upper surface of the support shaft and the lower surface of the susceptor. CONSTITUTION: A susceptor(30) has a flat shape and is arranged in a chamber(10). A gas ejector(20) sprays gas to a substrate held by the susceptor. A susceptor elevating shaft(40) is combined with the susceptor to raise the susceptor. A supporting shaft(50A) is separated from each other in the edge of the susceptor. A bellows(B) is installed in the susceptor elevating shaft and a support shaft.
摘要翻译：目的：提供一种基板处理装置，以防止支撑轴或基座的损坏，通过减小支撑轴的上表面和下表面之间的摩擦力，由于基座的热膨胀而产生颗粒感受器。构成：感受体（30）具有扁平形状并且被布置在室（10）中。气体喷射器（20）将气体喷射到由基座保持的基板上。基座提升轴（40）与基座组合以升高基座。支撑轴（50A）在基座的边缘彼此分离。波纹管（B）安装在基座提升轴和支撑轴上。

9. 发明授权

KR101415999B1 기판처리장치 有权
公开(公告)号：KR101415999B1
公开(公告)日：2014-07-08
申请号：KR1020120149078
申请日：2012-12-20
申请人： 주식회사 테스
发明人： 김수천 , 민승혁
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/673 , H01L21/683
摘要： 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 기판처리장치는 기판이 탑재된 트레이가 챔버 내로 이동하여 상기 기판에 대한 소정의 공정을 진행하는 기판처리장치에 있어서, 상기 트레이가 상기 챔버 내부에서 정위치에 위치하도록 상기 트레이의 위치를 결정하는 위치결정수단을 포함하고, 상기 위치결정수단은 상기 트레이의 중앙부가 상기 챔버 내부의 정위치에 위치하도록 상기 트레이의 중앙부를 기준으로 위치를 상기 트레이의 위치를 결정하는 것을 특징으로 한다.

10. 发明公开

KR1020130053819A 트레이 및 이를 구비한 기판처리장치 有权
标题翻译：托盘和底板加工设备
公开(公告)号：KR1020130053819A
公开(公告)日：2013-05-24
申请号：KR1020110119484
申请日：2011-11-16
申请人： 주식회사 테스
发明人： 하주일 , 마희전 , 노동민 , 윤희동 , 김수천
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/677 , H01L31/18
CPC分类号： Y02P70/521 , H01L21/67333 , H01L21/67356 , H01L21/6773 , H01L21/68742 , H01L31/1876 , Y02E10/50
摘要： PURPOSE: A tray and a substrate processing apparatus having the same are provided to prevent the separation of a substrate by uniformly processing a guide pin and an adjacent region. CONSTITUTION: A plate part(220) is formed with a flat shape. A substrate is mounted in the plate part. A first position is protruded from the upper part of the plate part. A second position is formed under the upper part of the plate part. A guide pin(230) supports the lateral part of the substrate.
摘要翻译：目的：提供具有该托盘和基板处理装置的托盘和基板处理装置，以通过均匀地处理引导销和相邻区域来防止基板分离。构成：板部（220）形成为平坦的形状。基板安装在板部分中。第一位置从板部的上部突出。第二位置形成在板部的上部下方。引导销（230）支撑基板的侧面部分。

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