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1. 发明授权

KR102247811B1 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102247811B1
公开(公告)日：2021-05-06
申请号：KR1020140008826
申请日：2014-01-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박성균 , 박정민 , 이정수 , 김지현 , 전준 , 조기현 , 윤혁민 , 여태훈 , 김진선 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , H01L29/786
摘要： 개시된포토레지스트조성물은, 아크릴공중합체 100 중량부에대하여, 광개시제 0.1 내지 30 중량부, 5관능기이상의제1 아크릴레이트모노머 1 내지 50 중량부및 4관능기이하의제2 아크릴레이트모노머 1 내지 50 중량부를포함한다. 상기포토레지스트조성물은, 프리베이크또는하드베이크와같은가열공정에서발생하는흄 또는아웃가스를감소시킴으로써, 이물로인한불량의발생을방지할수 있다. 또한, 상기포토레지스트조성물이표시패널등의유기절연층의형성에이용될경우, 콘택트홀 내의잔사를감소시킬수 있으며, 실런트경화시근자외선에의해발생하는그리니쉬(greenish) 현상을감소시킬수 있다. 또한, 포토레지스트패턴의접착력을개선할수 있으며, 높은투과도를갖는포토레지스트막을형성할수 있다.

2. 发明授权

KR102227564B1 포토레지스트 조성물 有权
公开(公告)号：KR102227564B1
公开(公告)日：2021-03-15
申请号：KR1020140006654
申请日：2014-01-20
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 전준 , 박정민 , 박성균 , 김지현 , 주진호 , 윤혁민 , 김동명 , 김진선 , 여태훈 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/26 , H01L21/027 , G02F1/13
摘要： 본발명의일례는산과반응하여분해가능한산 반응성폴리머, 광산발생제, 9 이하의 pKa 값을갖는유기염기및 용매를포함하는포토레지스트조성물을제공한다.

3. 发明授权

KR102025099B1 포토레지스트 조성물 有权
公开(公告)号：KR102025099B1
公开(公告)日：2019-09-25
申请号：KR1020120142518
申请日：2012-12-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 여태훈 , 이상훈 , 김진선 , 윤주표 , 김동명 , 김진우 , 박경진 , 이선희 , 황치용
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/032 , G03F7/26

4. 发明公开

KR1020160142672A 네거티브 감광성 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：负型光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR1020160142672A
公开(公告)日：2016-12-13
申请号：KR1020150078709
申请日：2015-06-03
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤주표 , 윤혁민 , 정종호 , 황현민 , 이기선 , 이채성
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/004
摘要： 본발명은네거티브감광성수지조성물에관한것으로, 바람직하게는컬러필터온 어레이(array) 구조의액정표시장치제조에서컬러필터패턴이형성된기판위에유기절연막형성을위하여사용하며, 평탄화도가우수하면서감도, 해상도, 접착성이우수한네가티브감광성수지조성물에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种负型感光性树脂组合物，优选在阵列（阵列）的灵敏度的滤色器，和用于形成彩色滤光片基板图案上的有机绝缘膜在制造所述结构的液晶显示装置形成，而平坦度优异的分辨率并且粘合性优异的负型感光性树脂组合物。

5. 发明授权

KR101646907B1 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 및 이에 사용되는 네가티브 포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：制造薄膜晶体管基板及其中使用的负型光致抗蚀剂组合物的方法
公开(公告)号：KR101646907B1
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：KR1020090011081
申请日：2009-02-11
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이영범 , 이희국 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/039
CPC分类号： H01L27/1288 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/40 , H01L27/1214
摘要： 패턴불량이감소된박막트랜지스터표시판의제조방법및 이에사용되는네가티브포토레지스트조성물이제공된다. 박막트랜지스터표시판의제조방법은, 기판상에도전성물질로이루어진도전막을형성하는단계, 도전막상에네가티브포토레지스트조성물로이루어진식각패턴을형성하는단계및 식각패턴을식각마스크로이용하여도전막을식각하여도전막패턴을형성하는단계를포함하되, 네가티브포토레지스트조성물은알칼리현상액에용해성을가지는하이드록실기를함유하는노볼락수지 10 내지 50 중량부, 화학식 1로표시되는제1 광산발생제 0.5 내지 10 중량부, 화학식 2로표시되는제2 광산발생제 0.5 내지 10 중량부가교결합제 1 내지 20 중량부및 용매 10 내지 90 중량부를포함한다. [화학식 1] [화학식 2]

6. 发明公开

KR1020160087092A 포지티브형 감광성 실록산 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：正性感光性硅氧烷树脂组合物
公开(公告)号：KR1020160087092A
公开(公告)日：2016-07-21
申请号：KR1020150004632
申请日：2015-01-13
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 윤혁민 , 이상훈 , 황치용 , 변정현 , 이기찬 , 박현경 , 전승한
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/022
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/022
摘要： 본발명은포지티브형감광성실록산수지조성물에관한것으로, ⅰ) 하기화학식 1로표시되는반응성실란및 ⅱ) 테트라클로로실란을촉매하에가수분해및 축합중합하고미반응단량체및 촉매를제거하여얻어진폴리스티렌환산중량평균분자량(Mw)이 1,000 내지 20,000인실록산계공중합체를포함하는포지티브형감광성실록산수지조성물에관한것이다. 본발명에따른포지티브형감광성실록산수지조성물은감도, 해상도, 접착력, 투과도, 내열변색성등의성능이우수할뿐만아니라, 특히뛰어난내열성으로인한 Low Outgassing을가능하게하고, 낮은수분흡수율을유지함으로써우수한 Panel 신뢰성을확보할수 있다.
摘要翻译：本发明涉及正型感光性硅氧烷树脂组合物，更具体地说，涉及一种正型感光性硅氧烷树脂组合物，其含有：i）由化学式1表示的反应性硅烷，（R_1）_nSi（R_2）_（4-n ）; 和ii）通过在催化剂下进行四氯硅烷的水解和缩聚而除去未反应的单体和催化剂得到的硅氧烷基共聚物，其中所述硅氧烷基共聚物具有1,000-20,000的聚苯乙烯换算的重均分子量（Mw）。根据本发明的正型感光性硅氧烷树脂组合物具有优异的性能，例如灵敏度，分辨率，粘合强度，渗透性，耐热变色等，通过优异的耐热性使得脱气率低，并且保持低的吸湿率，从而确保面板的可靠性。

7. 发明公开

KR1020150088478A 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于制造薄膜晶体管基板的光电组合物和方法
公开(公告)号：KR1020150088478A
公开(公告)日：2015-08-03
申请号：KR1020140008826
申请日：2014-01-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박성균 , 박정민 , 이정수 , 김지현 , 전준 , 조기현 , 윤혁민 , 여태훈 , 김진선 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , H01L29/786
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/0755 , G03F7/30 , H01L21/02112 , H01L21/02118 , H01L21/311 , H01L27/1288
摘要： 개시된포토레지스트조성물은, 아크릴공중합체 100 중량부에대하여, 광개시제 0.1 내지 30 중량부, 5관능기이상의제1 아크릴레이트모노머 1 내지 50 중량부및 4관능기이하의제2 아크릴레이트모노머 1 내지 50 중량부를포함한다. 상기포토레지스트조성물은, 프리베이크또는하드베이크와같은가열공정에서발생하는흄 또는아웃가스를감소시킴으로써, 이물로인한불량의발생을방지할수 있다. 또한, 상기포토레지스트조성물이표시패널등의유기절연층의형성에이용될경우, 콘택트홀 내의잔사를감소시킬수 있으며, 실런트경화시근자외선에의해발생하는그리니쉬(greenish) 현상을감소시킬수 있다. 또한, 포토레지스트패턴의접착력을개선할수 있으며, 높은투과도를갖는포토레지스트막을형성할수 있다.
摘要翻译：所公开的光致抗蚀剂组合物包含相对于100重量份的丙烯酸共聚物：约0.1至30重量份的光引发剂; 约1至50重量份具有5个或更多个官能团的第一丙烯酸酯单体; 和约1至50重量份具有四个或更少官能团的第二丙烯酸酯单体。光致抗蚀剂组合物可以通过减少在诸如预烘焙处理或硬烘焙处理的加热过程中引起的烟雾或废气来防止由烟雾或废气产生的杂质导致的故障。此外，当光致抗蚀剂组合物用于形成显示面板等的有机绝缘层时，可以减少接触孔中的残留物，并且在固化密封剂的过程中由近紫外线引起的绿色效果可能会减少。此外，本发明可以提高光致抗蚀剂图案的粘合强度，并且形成具有高透射率的光致抗蚀剂层。

8. 发明授权

KR101482552B1 네가티브 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：负性光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR101482552B1
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：KR1020080040159
申请日：2008-04-30
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤혁민 , 김동명 , 최상각 , 구기혁 , 여태훈 , 윤주표 , 신홍대 , 최수연 , 김진선 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/027
摘要： 본 발명은 네가티브 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; ⅱ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및 ⅲ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) [1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바조일-3-일]-1-(O-아세틸옥심)을 함유하는 광개시제; c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; d) 에폭시기 또는 아민기를 가지는 실리콘계 화합물; 및 e) 용매를 포함하는 네가티브 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물은 해상성, 절연성, 평탄성, 내화학성 및 접착력이 동시에 우수하며, 특히 고개구율 액정표시소자와 반사형 액정표시소자의 유기절연막 형성시 감도, 잔막률 및 UV 투과율이 종래의 감광성 수지와 비교하여 현저히 우수하기 때문에 유기절연막으로 사용하기에 적합하다.
네가티브 감광성 수지, 유기절연막, 액정표시소자, 고개구율, 반사형 액정표시소자

9. 发明公开

KR1020140102942A 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：光敏树脂组合物及其形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020140102942A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：KR1020130016479
申请日：2013-02-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 주진호 , 심승보 , 김준기 , 정양호 , 공향식 , 김병욱 , 김진선 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0048 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/0751 , G03F7/0755 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/202 , G03F7/26 , H01L21/027
摘要： The present invention provides a photosensitive resin composition. The photosensitive resin composition according to an embodiment of the present invention comprises: an acrylic copolymer which is formed by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated carboxylic acid anhydride or a mixture thereof and an olefinically unsaturated compound or a mixture thereof; a photo active compound (PAC) which includes 45 AREA% of at least one among structurally asymmetric compounds based on high performance liquid chromatography (HPLC) analysis while containing a 1,2-quinonediazide-5-sulfonate ester compound represented by chemical formula 1 through chemical formula 4; a coupling agent; and a solvent.
摘要翻译：本发明提供一种感光性树脂组合物。根据本发明实施方案的感光性树脂组合物包含：通过使不饱和羧酸，不饱和羧酸酐或其混合物与烯属不饱和化合物或其混合物共聚形成的丙烯酸共聚物; 基于高效液相色谱（HPLC）分析，包含结构不对称化合物中的45个AREA％的至少一种的光活性化合物（PAC），同时含有由化学式1至化学式1所代表的1,2-醌二叠氮化物-5-磺酸酯化合物化学式4; 偶联剂; 和溶剂。

10. 发明授权

KR101392291B1 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 박막트랜지스터기판의 제조방법 有权
标题翻译：光电组合物及其制造方法使用薄膜晶体管基板
公开(公告)号：KR101392291B1
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：KR1020070036565
申请日：2007-04-13
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박정민 , 정두희 , 이희국 , 윤혁민 , 구기혁
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/032
CPC分类号： G03F7/0382 , H01L21/312 , H01L27/1214 , H01L27/1288
摘要： 포토레지스트조성물은바인더수지, 광산발생제, 가교제및 용매를포함한다. 상기포토레지스트조성물은박막트랜지스터기판을제조하기위한 4 마스크공정에이용될수 있으며, 포토레지스트패턴의내열성및 접착특성을향상시켜박막트랜지스터기판의개구율을향상시키고표시품질을개선할수 있다.

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