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1. 发明授权

KR102060012B1 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR102060012B1
公开(公告)日：2019-12-30
申请号：KR1020130016479
申请日：2013-02-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 주진호 , 심승보 , 김준기 , 정양호 , 공향식 , 김병욱 , 김진선 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/26 , H01L21/027

2. 发明公开

KR1020150047403A 표시기판 제조방법 및 이를 이용한 표시장치 제조방법 审中-实审
标题翻译：制造显示器基板的方法及使用其显示装置的方法
公开(公告)号：KR1020150047403A
公开(公告)日：2015-05-04
申请号：KR1020130127433
申请日：2013-10-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 심승보 , 정양호 , 주진호 , 공향식 , 박준홍 , 김남이 , 김병욱 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈
IPC分类号： G09F9/00
CPC分类号： H01L27/1262 , H01L21/02065 , H01L27/124 , H01L27/3258 , H01L51/5253
摘要： 본발명의일 실시예에따른표시기판제조방법은베이스기판상에복수개의신호배선들을형성하는단계, 상기신호배선들상에고비점글리콜계용매를포함하는감광성수지조성물로구성된유기층을형성하는단계, 상기유기층을건조시켜평탄화층을형성하는단계, 및상기평탄화층상에제1 전극을형성하는단계를포함한다.
摘要翻译：根据本发明的一个实施例的显示基板的制造方法包括以下步骤：在基底基板上形成多个信号线; 在信号线上形成由包含高沸点乙醇酸溶剂的感光性树脂组合物形成的有机层; 通过干燥有机层形成平坦化层; 以及在所述平坦化层上形成第一电极。

3. 发明公开

KR1020140102942A 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：光敏树脂组合物及其形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020140102942A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：KR1020130016479
申请日：2013-02-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 주진호 , 심승보 , 김준기 , 정양호 , 공향식 , 김병욱 , 김진선 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0048 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/0751 , G03F7/0755 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/202 , G03F7/26 , H01L21/027
摘要： The present invention provides a photosensitive resin composition. The photosensitive resin composition according to an embodiment of the present invention comprises: an acrylic copolymer which is formed by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated carboxylic acid anhydride or a mixture thereof and an olefinically unsaturated compound or a mixture thereof; a photo active compound (PAC) which includes 45 AREA% of at least one among structurally asymmetric compounds based on high performance liquid chromatography (HPLC) analysis while containing a 1,2-quinonediazide-5-sulfonate ester compound represented by chemical formula 1 through chemical formula 4; a coupling agent; and a solvent.
摘要翻译：本发明提供一种感光性树脂组合物。根据本发明实施方案的感光性树脂组合物包含：通过使不饱和羧酸，不饱和羧酸酐或其混合物与烯属不饱和化合物或其混合物共聚形成的丙烯酸共聚物; 基于高效液相色谱（HPLC）分析，包含结构不对称化合物中的45个AREA％的至少一种的光活性化合物（PAC），同时含有由化学式1至化学式1所代表的1,2-醌二叠氮化物-5-磺酸酯化合物化学式4; 偶联剂; 和溶剂。

4. 发明授权

KR102084493B1 기판의 평탄화 방법, 상기 평탄화 방법을 이용한 박막 트랜지스터의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102084493B1
公开(公告)日：2020-03-05
申请号：KR1020190018887
申请日：2019-02-19
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 심승보 , 공향식 , 주진호 , 김준기
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/02 , H01L21/027 , H01L21/321 , H01L29/66 , H01L21/28

5. 发明授权

KR102039102B1 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102039102B1
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：KR1020120152153
申请日：2012-12-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 최신일 , 김상갑 , 공향식 , 배수빈 , 정유광
IPC分类号： H01L29/786 , G02F1/1368

6. 发明授权

KR101951707B1 기판의 평탄화 방법, 상기 평탄화 방법을 이용한 박막 트랜지스터의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101951707B1
公开(公告)日：2019-02-26
申请号：KR1020120014935
申请日：2012-02-14
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 공향식 , 심승보 , 주진호 , 김준기
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/28 , H01L21/027

7. 发明公开

KR1020160137825A 발광 표시 장치의 제조 방법 및 이를 이용한 발광 표시 장치 审中-实审
标题翻译：制造发光显示装置的方法和使用它的发光显示装置
公开(公告)号：KR1020160137825A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：KR1020150071721
申请日：2015-05-22
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 공향식 , 강윤호 , 곽동훈 , 김성웅 , 김율국 , 김재훈 , 나예슬 , 백석순 , 황재권
IPC分类号： H01L27/32 , H01L51/50 , H01L51/56
CPC分类号： H01L51/0005 , H01L27/3246 , H01L51/0035 , H01L51/0037 , H01L51/0059 , H01L51/0091 , H01L51/5056 , H01L51/56
摘要： 발광표시장치의제조방법및 이를이용한발광표시장치가제공된다. 일례로, 발광표시장치의제조방법은비화소영역에의해구분되는복수의화소영역을포함하는기판상에상기화소영역별로제1 전극을형성하는단계; 상기기판상에상기제1 전극을노출하는화소개구부를가지는화소정의막을형성하는단계; 상기제1 전극상에정공주입층을형성하는단계; 상기정공주입층과접촉하는부분만이광에의해경화되는친액성물질층을상기정공주입층상에형성하고, 개구부와상기개구부의외측에위치하는차광부를포함하는오픈마스크를상기개구부가상기복수의화소영역과상기비화소영역과중첩하도록상기화소정의막의상부에배치시키고, 상기광을상기친액성물질층에조사시킴으로써, 상기정공주입층상에상기정공주입층과완전히중첩하는친액성층을형성하는단계; 상기친액성층상에정공수송층을형성하는단계; 상기정공수송층상에발광층을형성하는단계; 및상기발광층상에제2 전극을형성하는단계를포함한다.
摘要翻译：一种制造发光显示装置的方法，所述方法包括在每个所述像素区域中在基板上形成第一电极，所述基板包括由非像素区域划分的多个像素区域; 形成像素限定层，所述像素限定层在所述基板上具有多个像素开口，每个所述像素开口暴露所述第一电极; 在所述第一电极上形成空穴注入层; 在空穴注入层上形成亲液层，与空穴注入层完全重叠; 在亲液层上形成空穴传输层; 在空穴传输层上形成发光层; 以及在所述发光层上形成第二电极。

8. 发明公开

KR1020160127261A 표시 패널 审中-实审
标题翻译：显示面板
公开(公告)号：KR1020160127261A
公开(公告)日：2016-11-03
申请号：KR1020150058051
申请日：2015-04-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 남중건 , 공향식 , 김수린 , 김태우 , 이대영 , 조국래
IPC分类号： G02F1/1335
CPC分类号： G02F1/133528 , G02B5/201 , G02B5/3058 , G02F1/133512 , G02F1/133514 , G02F2001/133548 , G02F2001/133567
摘要： 표시패널은복수의화소들을포함한다. 각각의상기화소는제1 개구부, 제2 개구부및 제3 개구부를정의하는차광부, 상기제1 개구부와중첩하는제1 컬러필터, 상기제2 개구부와중첩하고그린(green) 색상을갖는제2 컬러필터, 상기제3 개구부와중첩하는제3 컬러필터, 및평면에서볼 때상기제2 개구부와이격되는제1 이음매선을포함하는와이어그리드편광소자를포함한다.
摘要翻译：包括多个像素的显示面板。每个像素包括被配置为限定第一开口，第二开口和第三开口的遮光部分，与第一开口重叠的第一滤色器，与第二开口重叠并具有绿色的第二滤色器，与第三开口重叠的第三滤色器和在平面图中包括与第二开口间隔开的第一线迹线的线栅偏振器。

9. 发明公开

KR1020160017292A 노광용 마스크, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 기판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于光刻机的掩模，其制造方法和使用其制造基板的方法
公开(公告)号：KR1020160017292A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：KR1020140099687
申请日：2014-08-04
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 연세대학교 산학협력단
发明人： 손용 , 강민 , 김봉연 , 이현주 , 공향식 , 주진호 , 김경식 , 백승화
IPC分类号： G03F1/26 , G03F1/38
CPC分类号： G03F1/26 , G03F1/32 , G03F1/50
摘要： 노광용마스크는투명기판, 상기투명기판상에배치되고, 광의위상을변화시키는위상시프트패턴, 상기위상시프트패턴이배치된상기투명기판상에배치되는유전체층, 및상기유전체층상에배치되는음굴절율메타물질층을포함한다. 기판을제조하는방법은포토레지스트층이형성된기판상에상기노광용마스크를상기기판과마주보도록위치시키는단계, 상기노광용마스크를통해상기포토레지스트층에광이전달되며, 상기유전체층및 상기음굴절율메타물질층으로인하여발생되는플라즈모닉공명또는음향양자공명으로인하여상기광의소산파가소멸하지않고상기포토레지스트층로전달되는단계, 및현상액을이용하여상기포토레지스트층을현상하여포토레지스트패턴을형성하는단계를포함한다.
摘要翻译：曝光用掩模包括：透明基板; 设置在所述透明基板上的相变图案，并且改变光的相位; 介电层，其布置在其中设置有相移图案的透明基板上; 和在介电层上的负折射率超材料层。衬底的制造方法包括以下步骤：将掩模定位在其上形成光致抗蚀剂层的衬底上以暴露于面对衬底; 通过掩模将光转移到光致抗蚀剂层以进行曝光，并将光的消逝波转移到光致抗蚀剂层，其中由于由介电层产生的等离子体共振或声子共振，光的ev逝波不消失折射率偏光材料层。

10. 发明授权

KR101574110B1 포토 레지스트 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：薄膜晶体管阵列面板的光刻胶组成及制造方法采用相同的方法
公开(公告)号：KR101574110B1
公开(公告)日：2015-12-04
申请号：KR1020090013894
申请日：2009-02-19
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 머크일렉트로닉머티리얼즈 주식회사
发明人： 이영범 , 박정인 , 강덕만 , 이희국 , 공향식 , 오세태 , 이창익
IPC分类号： G03F7/027
摘要： 포토레지스트조성물및 이를이용한박막트랜지스터기판의제조방법을제공한다. 본발명의실시예에따른포토레지스트조성물은불포화카르복실산, 불포화카르복실산무수물및 이들의혼합물중 어느하나와이와다른불포화단량체화합물을공중합시켜형성되는알칼리가용성아크릴공중합체, 메타크레졸과파라크레졸로이루어진노볼락수지, 경화제, 아크리딘화합물그리고광산발생제를포함한다.

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