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1. 发明授权

KR102227564B1 포토레지스트 조성물 有权
公开(公告)号：KR102227564B1
公开(公告)日：2021-03-15
申请号：KR1020140006654
申请日：2014-01-20
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 전준 , 박정민 , 박성균 , 김지현 , 주진호 , 윤혁민 , 김동명 , 김진선 , 여태훈 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/26 , H01L21/027 , G02F1/13
摘要： 본발명의일례는산과반응하여분해가능한산 반응성폴리머, 광산발생제, 9 이하의 pKa 값을갖는유기염기및 용매를포함하는포토레지스트조성물을제공한다.

2. 发明授权

KR102025099B1 포토레지스트 조성물 有权
公开(公告)号：KR102025099B1
公开(公告)日：2019-09-25
申请号：KR1020120142518
申请日：2012-12-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 여태훈 , 이상훈 , 김진선 , 윤주표 , 김동명 , 김진우 , 박경진 , 이선희 , 황치용
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/032 , G03F7/26

3. 发明授权

KR101482552B1 네가티브 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：负性光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR101482552B1
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：KR1020080040159
申请日：2008-04-30
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤혁민 , 김동명 , 최상각 , 구기혁 , 여태훈 , 윤주표 , 신홍대 , 최수연 , 김진선 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/027
摘要： 본 발명은 네가티브 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물; ⅱ) 에폭시기 함유 불포화 화합물; 및 ⅲ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) [1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바조일-3-일]-1-(O-아세틸옥심)을 함유하는 광개시제; c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; d) 에폭시기 또는 아민기를 가지는 실리콘계 화합물; 및 e) 용매를 포함하는 네가티브 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 네가티브 감광성 수지 조성물은 해상성, 절연성, 평탄성, 내화학성 및 접착력이 동시에 우수하며, 특히 고개구율 액정표시소자와 반사형 액정표시소자의 유기절연막 형성시 감도, 잔막률 및 UV 투과율이 종래의 감광성 수지와 비교하여 현저히 우수하기 때문에 유기절연막으로 사용하기에 적합하다.
네가티브 감광성 수지, 유기절연막, 액정표시소자, 고개구율, 반사형 액정표시소자

4. 发明授权

KR101221468B1 감광성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR101221468B1
公开(公告)日：2013-01-11
申请号：KR1020050007727
申请日：2005-01-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 김병욱 , 최상각 , 구기혁 , 윤주표 , 김동민 , 여태훈 , 정의철 , 김동명 , 이호진
IPC分类号： G03F7/027
摘要： 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) 페닐 말레이미드계 화합물, ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, 및 ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드 화합물; 및 c) 용매를 포함하는 액정표시장치의 층간절연막 형성용 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 투과율, 절연성, 평탄성, 내화학성 등의 성능이 우수할 뿐만 아니라, 특히 고내열 특성을 통한 층간절연막에서 발생할 수 있는 아웃개싱(outgassing)을 최소화시켜 후공정의 신뢰성을 확보함으로써 LCD 제조공정의 층간절연막으로 사용하기에 적합하다.
감광성 수지, 층간절연막, 페닐 말레이드계 화합물

5. 发明公开

KR1020090114494A 네가티브 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：负性光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR1020090114494A
公开(公告)日：2009-11-04
申请号：KR1020080040159
申请日：2008-04-30
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤혁민 , 김동명 , 최상각 , 구기혁 , 여태훈 , 윤주표 , 신홍대 , 최수연 , 김진선 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/027
CPC分类号： G03F7/027 , C07C59/285 , C08G77/16 , G03F7/0045 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/0382 , G03F7/0388
摘要： PURPOSE: A negative photosensitive resin composition is provided to ensure excellent resolution, insulating property, smoothness, chemical resistance and adhesive force, especially, excellent sensitivity, residual film rate, and UV transmittance ratio compared with a conventional photosensitive resin. CONSTITUTION: A negative photosensitive resin composition comprises an acrylic copolymer 100.0 parts by weight; a photoinitiator 0.001 ~ 30 parts by weight containing 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazoyl-3-yl]-1-(O-acetyl oxime); a multifunctional monomer 10 ~ 100.0 parts by weight with a ethylenically unsaturated bond; a silicon-based compound 0.1 ~ 5 parts by weight with epoxy group or amine group; and solvent.
摘要翻译：目的：提供一种负型感光性树脂组合物，以确保优异的分辨率，绝缘性，平滑性，耐化学性和粘合力，特别是与常规感光性树脂相比，具有优异的灵敏度，残留膜率和UV透射率。构成：负型感光性树脂组合物含有100.0重量份的丙烯酸共聚物; 含有1- [9-乙基-6-（2-甲基苯甲酰基）-9H-咔唑基-3-基] -1-（O-乙酰基肟）的0.001〜30重量份的光引发剂。多官能单体10〜100.0重量份，具有烯属不饱和键; 硅基化合物0.1〜5重量份，具有环氧基或胺基; 和溶剂。

6. 发明公开

KR1020090019621A 패턴형성용 네가티브 포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：用于形成图案的负性光敏组合物
公开(公告)号：KR1020090019621A
公开(公告)日：2009-02-25
申请号：KR1020070084188
申请日：2007-08-21
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이동혁 , 구기혁 , 김동명 , 윤주표 , 여태훈 , 윤혁민 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/028
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0384 , G03F7/0388
摘要： A negative photoresist composition for forming a pattern, and a method for forming a pattern by using the composition are provided to improve etching margin and exposure margin. A negative photoresist composition for forming a pattern comprises 10-70 parts by weight of a novolac resin; 1-20 parts by weight of an acrylic copolymer; 0.1-20 parts by weight of a photoacid generator; 0.01-10 parts by weight of a photoinitiator; 1-20 parts by weight of a first crosslinking agent which crosslinks the novolac resin when exposed to the acid of the photoacid generator generated by exposure; 1-40 parts by weight of a second crosslinking agent which crosslinks the acrylic copolymer when exposed to the radical of the photoinitiator generated by exposure; and a solvent in such an amount for making the content of the solid part of the composition be 10-90 wt%.
摘要翻译：提供用于形成图案的负性光致抗蚀剂组合物，以及通过使用该组合物形成图案的方法，以改善蚀刻余量和曝光余量。用于形成图案的负性光致抗蚀剂组合物包括10-70重量份的酚醛清漆树脂; 1-20份（重量）丙烯酸共聚物; 0.1-20重量份光酸发生剂; 0.01-10重量份的光引发剂; 1-20重量份当暴露于通过曝光产生的光酸产生剂的酸时交联酚醛清漆树脂的第一交联剂; 1-40重量份的第二交联剂，其在暴露于通过曝光产生的光引发剂的基团时交联丙烯酸共聚物; 以及使组合物的固体成分的含量为10〜90重量％的溶剂。

7. 发明公开

KR1020060087033A 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR1020060087033A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：KR1020050007727
申请日：2005-01-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 김병욱 , 최상각 , 구기혁 , 윤주표 , 김동민 , 여태훈 , 정의철 , 김동명 , 이호진
IPC分类号： G03F7/027
摘要： 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) 페닐 말레이미드계 화합물, ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, 및 ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드 화합물; 및 c) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 투과율, 절연성, 평탄성, 내화학성 등의 성능이 우수할 뿐만 아니라, 특히 고내열 특성을 통한 층간절연막에서 발생할 수 있는 아웃개싱(outgassing)을 최소화시켜 후공정의 신뢰성을 확보함으로써 LCD 제조공정의 층간절연막으로 사용하기에 적합하다.
감광성 수지, 층간절연막, 페닐 말레이드계 화합물
摘要翻译：通过共聚合得到的本发明丙烯酸类涉及一种光敏树脂组合物，特别是）ⅰ）苯基马来酰亚胺化合物，ⅱ）不饱和羧酸，不饱和羧酸酐，或含环氧基的不饱和化合物，它们的混合物，和ⅲ）空气共聚物; b）1,2-醌二叠氮化合物; 和c）溶剂。

8. 发明授权

KR101840416B1 레이저 열전사용 폴리이미드 감광성 조성물 有权
公开(公告)号：KR101840416B1
公开(公告)日：2018-03-20
申请号：KR1020110129548
申请日：2011-12-06
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤혁민 , 김동명 , 김진우 , 황치용
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/00 , H01L51/50
CPC分类号： H01L51/0013 , G03F7/0007 , G03F7/0387 , G03F7/0757
摘要： 본발명은레이저열전사용감광성폴리이미드조성물에관한것으로, 보다상세하게는 OLED의절연막형성에있어서레이저열전사법(laser induced thermal imaging, LITI)에적용시이중테이퍼형성이가능하고, 이형성이우수한레이저열전사용감광성폴리이미드조성물에관한것이다.

9. 发明授权

KR101803957B1 감광성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR101803957B1
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：KR1020100017777
申请日：2010-02-26
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 김병욱 , 구기혁 , 여태훈 , 윤주표 , 신홍대 , 이상훈 , 김동명 , 최수연 , 김진선 , 우창민 , 김홍석
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027
CPC分类号： G03F7/031 , G02F1/133345
摘要： 본발명은감광성수지조성물에관한것으로, 특히 TFT-LCD용층간유기절연막형성을위한감광성수지조성물에있어서, UV 안정화제또는라디칼스캐빈저를 0.01 내지 20 중량% 포함하는것을특징으로하는감광성수지조성물에관한것이다. 본발명에따른감광성수지조성물은 TFT-LCD의층간유기절연막형성에사용되어광배향용액정공정에서과노광진행시액정밀림현상을개선할수 있을뿐만아니라패턴의해상도조절이용이하며, 층간유기절연막의평탄화막형성에특히적합하다.

10. 发明公开

KR1020160130046A 표시 장치용 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 포함하는 표시 장치 审中-实审
标题翻译：用于显示装置的正性感光性树脂组合物和包含其的显示装置
公开(公告)号：KR1020160130046A
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：KR1020150062006
申请日：2015-04-30
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박정민 , 이정수 , 김지현 , 박준홍 , 김병욱 , 윤혁민 , 여태훈 , 김동명 , 김진선
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/085 , H01L51/50
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/085 , H01L51/50
摘要： 본발명의일 실시예에따른포지티브감광성수지조성물은 a) 하기화학식 1로표시되는공중합체; b-1) 옥심계열광산발생제; b-2) 트리아진계열광산발생제; c) 유기염기; 및 d) 용매를포함한다.(화학식1) 상기화학식 1에서, 상기 R은아세탈및 케탈중 어느하나이며, 상기 x + y + z = 1이다.
摘要翻译：根据本发明实施方案的正型感光性树脂组合物含有：a）由下述化学式1表示的共聚物; b-1）肟类光酸产生剂; b-2）三嗪类光酸发生剂; c）有机碱; 和d）溶剂。在上述化学式1中，R 1是缩醛和缩酮中的任一个，x + y + z = 1。

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