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    • 6. 发明公开
    • 패턴형성용 네가티브 포토레지스트 조성물
    • 用于形成图案的负性光敏组合物
    • KR1020090019621A
    • 2009-02-25
    • KR1020070084188
    • 2007-08-21
    • 주식회사 동진쎄미켐
    • 이동혁구기혁김동명윤주표여태훈윤혁민김병욱
    • G03F7/028
    • G03F7/0382G03F7/0007G03F7/0045G03F7/033G03F7/038G03F7/0384G03F7/0388
    • A negative photoresist composition for forming a pattern, and a method for forming a pattern by using the composition are provided to improve etching margin and exposure margin. A negative photoresist composition for forming a pattern comprises 10-70 parts by weight of a novolac resin; 1-20 parts by weight of an acrylic copolymer; 0.1-20 parts by weight of a photoacid generator; 0.01-10 parts by weight of a photoinitiator; 1-20 parts by weight of a first crosslinking agent which crosslinks the novolac resin when exposed to the acid of the photoacid generator generated by exposure; 1-40 parts by weight of a second crosslinking agent which crosslinks the acrylic copolymer when exposed to the radical of the photoinitiator generated by exposure; and a solvent in such an amount for making the content of the solid part of the composition be 10-90 wt%.
    • 提供用于形成图案的负性光致抗蚀剂组合物,以及通过使用该组合物形成图案的方法,以改善蚀刻余量和曝光余量。 用于形成图案的负性光致抗蚀剂组合物包括10-70重量份的酚醛清漆树脂; 1-20份(重量)丙烯酸共聚物; 0.1-20重量份光酸发生剂; 0.01-10重量份的光引发剂; 1-20重量份当暴露于通过曝光产生的光酸产生剂的酸时交联酚醛清漆树脂的第一交联剂; 1-40重量份的第二交联剂,其在暴露于通过曝光产生的光引发剂的基团时交联丙烯酸共聚物; 以及使组合物的固体成分的含量为10〜90重量%的溶剂。
    • 7. 发明公开
    • 감광성 수지 조성물
    • 光敏树脂组合物
    • KR1020060087033A
    • 2006-08-02
    • KR1020050007727
    • 2005-01-27
    • 주식회사 동진쎄미켐
    • 윤혁민김병욱최상각구기혁윤주표김동민여태훈정의철김동명이호진
    • G03F7/027
    • 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) 페닐 말레이미드계 화합물, ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, 및 ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드 화합물; 및 c) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
      본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 투과율, 절연성, 평탄성, 내화학성 등의 성능이 우수할 뿐만 아니라, 특히 고내열 특성을 통한 층간절연막에서 발생할 수 있는 아웃개싱(outgassing)을 최소화시켜 후공정의 신뢰성을 확보함으로써 LCD 제조공정의 층간절연막으로 사용하기에 적합하다.
      감광성 수지, 층간절연막, 페닐 말레이드계 화합물
    • 通过共聚合得到的本发明丙烯酸类涉及一种光敏树脂组合物,特别是)ⅰ)苯基马来酰亚胺化合物,ⅱ)不饱和羧酸,不饱和羧酸酐,或含环氧基的不饱和化合物,它们的混合物,和ⅲ)空气 共聚物; b)1,2-醌二叠氮化合物; 和c)溶剂。