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1. 发明授权

KR102247811B1 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102247811B1
公开(公告)日：2021-05-06
申请号：KR1020140008826
申请日：2014-01-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박성균 , 박정민 , 이정수 , 김지현 , 전준 , 조기현 , 윤혁민 , 여태훈 , 김진선 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , H01L29/786
摘要： 개시된포토레지스트조성물은, 아크릴공중합체 100 중량부에대하여, 광개시제 0.1 내지 30 중량부, 5관능기이상의제1 아크릴레이트모노머 1 내지 50 중량부및 4관능기이하의제2 아크릴레이트모노머 1 내지 50 중량부를포함한다. 상기포토레지스트조성물은, 프리베이크또는하드베이크와같은가열공정에서발생하는흄 또는아웃가스를감소시킴으로써, 이물로인한불량의발생을방지할수 있다. 또한, 상기포토레지스트조성물이표시패널등의유기절연층의형성에이용될경우, 콘택트홀 내의잔사를감소시킬수 있으며, 실런트경화시근자외선에의해발생하는그리니쉬(greenish) 현상을감소시킬수 있다. 또한, 포토레지스트패턴의접착력을개선할수 있으며, 높은투과도를갖는포토레지스트막을형성할수 있다.

2. 发明授权

KR102227564B1 포토레지스트 조성물 有权
公开(公告)号：KR102227564B1
公开(公告)日：2021-03-15
申请号：KR1020140006654
申请日：2014-01-20
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 전준 , 박정민 , 박성균 , 김지현 , 주진호 , 윤혁민 , 김동명 , 김진선 , 여태훈 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/26 , H01L21/027 , G02F1/13
摘要： 본발명의일례는산과반응하여분해가능한산 반응성폴리머, 광산발생제, 9 이하의 pKa 값을갖는유기염기및 용매를포함하는포토레지스트조성물을제공한다.

3. 发明公开

KR1020150088478A 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于制造薄膜晶体管基板的光电组合物和方法
公开(公告)号：KR1020150088478A
公开(公告)日：2015-08-03
申请号：KR1020140008826
申请日：2014-01-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박성균 , 박정민 , 이정수 , 김지현 , 전준 , 조기현 , 윤혁민 , 여태훈 , 김진선 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027 , H01L29/786
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/0755 , G03F7/30 , H01L21/02112 , H01L21/02118 , H01L21/311 , H01L27/1288
摘要： 개시된포토레지스트조성물은, 아크릴공중합체 100 중량부에대하여, 광개시제 0.1 내지 30 중량부, 5관능기이상의제1 아크릴레이트모노머 1 내지 50 중량부및 4관능기이하의제2 아크릴레이트모노머 1 내지 50 중량부를포함한다. 상기포토레지스트조성물은, 프리베이크또는하드베이크와같은가열공정에서발생하는흄 또는아웃가스를감소시킴으로써, 이물로인한불량의발생을방지할수 있다. 또한, 상기포토레지스트조성물이표시패널등의유기절연층의형성에이용될경우, 콘택트홀 내의잔사를감소시킬수 있으며, 실런트경화시근자외선에의해발생하는그리니쉬(greenish) 현상을감소시킬수 있다. 또한, 포토레지스트패턴의접착력을개선할수 있으며, 높은투과도를갖는포토레지스트막을형성할수 있다.
摘要翻译：所公开的光致抗蚀剂组合物包含相对于100重量份的丙烯酸共聚物：约0.1至30重量份的光引发剂; 约1至50重量份具有5个或更多个官能团的第一丙烯酸酯单体; 和约1至50重量份具有四个或更少官能团的第二丙烯酸酯单体。光致抗蚀剂组合物可以通过减少在诸如预烘焙处理或硬烘焙处理的加热过程中引起的烟雾或废气来防止由烟雾或废气产生的杂质导致的故障。此外，当光致抗蚀剂组合物用于形成显示面板等的有机绝缘层时，可以减少接触孔中的残留物，并且在固化密封剂的过程中由近紫外线引起的绿色效果可能会减少。此外，本发明可以提高光致抗蚀剂图案的粘合强度，并且形成具有高透射率的光致抗蚀剂层。

4. 发明公开

KR1020140102942A 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：光敏树脂组合物及其形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020140102942A
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：KR1020130016479
申请日：2013-02-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 주진호 , 심승보 , 김준기 , 정양호 , 공향식 , 김병욱 , 김진선 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0048 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/0751 , G03F7/0755 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/202 , G03F7/26 , H01L21/027
摘要： The present invention provides a photosensitive resin composition. The photosensitive resin composition according to an embodiment of the present invention comprises: an acrylic copolymer which is formed by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated carboxylic acid anhydride or a mixture thereof and an olefinically unsaturated compound or a mixture thereof; a photo active compound (PAC) which includes 45 AREA% of at least one among structurally asymmetric compounds based on high performance liquid chromatography (HPLC) analysis while containing a 1,2-quinonediazide-5-sulfonate ester compound represented by chemical formula 1 through chemical formula 4; a coupling agent; and a solvent.
摘要翻译：本发明提供一种感光性树脂组合物。根据本发明实施方案的感光性树脂组合物包含：通过使不饱和羧酸，不饱和羧酸酐或其混合物与烯属不饱和化合物或其混合物共聚形成的丙烯酸共聚物; 基于高效液相色谱（HPLC）分析，包含结构不对称化合物中的45个AREA％的至少一种的光活性化合物（PAC），同时含有由化学式1至化学式1所代表的1,2-醌二叠氮化物-5-磺酸酯化合物化学式4; 偶联剂; 和溶剂。

5. 发明公开

KR1020100086238A 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성 방법 有权
标题翻译：光催化剂树脂组合物和使用它们形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020100086238A
公开(公告)日：2010-07-30
申请号：KR1020090005502
申请日：2009-01-22
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤상현 , 박정인 , 이희국 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 여태훈 , 최수연 , 김진선
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/027
摘要： PURPOSE: A photoresist resin composition and a method for forming a pattern using the composition are provided to enhance sensitivity when the composition is exposed to light and to easily control the profile of a photosensitive pattern. CONSTITUTION: A photoresist resin composition comprises 0.5-10 parts by weight of a photosensitive compound which is marked as a chemical formula 1, 1-10 parts by weight of a crosslinking agent, 10-50 parts by weight of alkali-soluble resin, and 10-90 parts by weight of a solvent. In the chemical formula 1, R1 and R2 are independently an alkyl group having a carbon number of 1-10. The composition more includes a compound which is marked as a chemical formula 2.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂树脂组合物和使用该组合物形成图案的方法，以在组合物曝光时提高灵敏度，并且容易控制感光图案的轮廓。构成：光致抗蚀剂树脂组合物包含0.5-10重量份标记为化学式1的光敏化合物，1-10重量份的交联剂，10-50重量份的碱溶性树脂和 10-90重量份溶剂。在化学式1中，R 1和R 2独立地为碳数为1-10的烷基。组合物更包括标记为化学式2的化合物。

6. 发明公开

KR1020090010414A 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 및 이에 사용되는감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：制造薄膜晶体管基板的方法和使用它的感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020090010414A
公开(公告)日：2009-01-30
申请号：KR1020070073496
申请日：2007-07-23
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 강훈 , 김재성 , 정양호 , 이희국 , 김병욱 , 윤혁민 , 여태훈 , 최상각
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： H01L27/1288 , H01L27/1214
摘要： A method for fabricating a thin film transistor substrate and a photosensitive resin composition used to the same are provided to reduce the manufacturing time by forming an insulation organic film pattern using a superior sensitivity about the light. A mask(200) comprises a light-shield pattern(202), on the transparent substrate(201) and the opening(203) formed between light-shield patterns. It is softened in the photoresist resin composition material of the part in which the light is irradiated through the opening and the photoresist resin composition material of the part is removed from the following developing process. Since the exposed organic insulating film(75) is developed as developer and it gets rid of the unnecessary part pattern is molded. The light of the ultraviolet light lamp is additionally exposed to the organic insulating film in which pattern is molded. It becomes the organic insulating film which addition is exposed with the midbake.
摘要翻译：提供一种用于制造薄膜晶体管基板的方法和用于其的感光性树脂组合物，以通过使用关于光的高灵敏度形成绝缘有机膜图案来缩短制造时间。掩模（200）包括在透明基板（201）上的遮光图案（202）和形成在遮光图案之间的开口（203）。在通过开口照射光的部分的光致抗蚀剂树脂组合物材料中软化，并且从后续显影过程中去除该部分的光致抗蚀剂树脂组合物材料。由于露出的有机绝缘膜（75）作为显影剂显影，并且它被去除不必要的部分图案。紫外线灯的光另外暴露于模制图案的有机绝缘膜上。它成为有机绝缘膜，其中添加剂与中间焙烧一起暴露。

7. 发明公开

KR1020150086685A 포토레지스트 조성물 审中-实审
标题翻译：光电组合物
公开(公告)号：KR1020150086685A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：KR1020140006654
申请日：2014-01-20
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 전준 , 박정민 , 박성균 , 김지현 , 주진호 , 윤혁민 , 김동명 , 김진선 , 여태훈 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/26 , H01L21/027 , G02F1/13
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F212/34 , C08F220/10 , C08F220/16 , C08F220/18 , C08F220/26 , G02F2001/13625 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0751 , G03F7/30 , H01L21/0274 , H01L21/31138 , H01L51/102
摘要： 본발명의일례는산과반응하여분해가능한산 반응성폴리머, 광산발생제, 9 이하의 pKa 값을갖는유기염기및 용매를포함하는포토레지스트조성물을제공한다.
摘要翻译：根据本发明的实施方案，光致抗蚀剂组合物包括：可以通过与酸的反应分解的酸反应性聚合物; 光酸发生器; 9 pKa或以下9 pKa有机碱; 和溶剂。

8. 发明授权

KR102060012B1 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR102060012B1
公开(公告)日：2019-12-30
申请号：KR1020130016479
申请日：2013-02-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 주진호 , 심승보 , 김준기 , 정양호 , 공향식 , 김병욱 , 김진선 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/022 , G03F7/26 , H01L21/027

9. 发明公开

KR1020170128678A 감광성 수지 조성물 및 표시장치 审中-实审
标题翻译：光敏树脂组合物和显示装置
公开(公告)号：KR1020170128678A
公开(公告)日：2017-11-23
申请号：KR1020160058331
申请日：2016-05-12
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 심승보 , 주진호 , 박귀현 , 박광우 , 우준혁 , 김병욱 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈 , 황치용
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/004 , C08L33/08 , C08K5/43 , C08K5/5415 , C07C305/24 , G03F7/20 , H01L51/52
摘要： 본발명의일 실시예는화학식 1 내지 6으로표현되는반복단위들중 적어도하나를포함하는아크릴계공중합체, 퀴논디아지드계술폰산에스테르화합물을포함하는감광성화합물(photo active compound), 실란커플링제및 용매를포함하는감광성수지조성물을제공한다.
摘要翻译：本发明的一个实施方案是包含丙烯酸类共聚物，含有由式（1）至图6（光活性化合物）所表示的重复单元中的至少一个，硅烷偶联剂和溶剂的基于二叠氮醌磺酸酯化合物的光敏化合物本发明提供了一种光敏树脂组合物，

10. 发明公开

KR1020150047403A 표시기판 제조방법 및 이를 이용한 표시장치 제조방법 审中-实审
标题翻译：制造显示器基板的方法及使用其显示装置的方法
公开(公告)号：KR1020150047403A
公开(公告)日：2015-05-04
申请号：KR1020130127433
申请日：2013-10-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 심승보 , 정양호 , 주진호 , 공향식 , 박준홍 , 김남이 , 김병욱 , 여태훈 , 윤혁민 , 이상훈
IPC分类号： G09F9/00
CPC分类号： H01L27/1262 , H01L21/02065 , H01L27/124 , H01L27/3258 , H01L51/5253
摘要： 본발명의일 실시예에따른표시기판제조방법은베이스기판상에복수개의신호배선들을형성하는단계, 상기신호배선들상에고비점글리콜계용매를포함하는감광성수지조성물로구성된유기층을형성하는단계, 상기유기층을건조시켜평탄화층을형성하는단계, 및상기평탄화층상에제1 전극을형성하는단계를포함한다.
摘要翻译：根据本发明的一个实施例的显示基板的制造方法包括以下步骤：在基底基板上形成多个信号线; 在信号线上形成由包含高沸点乙醇酸溶剂的感光性树脂组合物形成的有机层; 通过干燥有机层形成平坦化层; 以及在所述平坦化层上形成第一电极。

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