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1. 发明公开

KR1020110015573A 조정가능한 통공을 구비한 이온 소스 有权
标题翻译：离子源与可调节的孔
公开(公告)号：KR1020110015573A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：KR1020107026323
申请日：2009-04-23
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 티거,다니엘 , 디버길리오,윌리엄 , 아이스너,에드워드 , 그라프,마이클
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/024 , H01J37/09 , H01J37/3171 , H01J2237/0455 , H01J2237/061 , H01J2237/0835 , H01J37/317
摘要： 이온 주입기 시스템은 이온의 비임 또는 스트림을 생성하는데 이용하기 위한 이온 소스를 포함한다. 이온 소스는 챔버 하우징 내의 고 밀도 농도를 생성하기 위한 이온화 영역의 경계를 적어도 부분적으로 형성하는 이온 소스 챔버 하우징을 가진다. 원하는 특성의 이온 추출 통공(340, 342)은 아크 챔버의 이온화 영역을 커버한다. 일 실시예에서, 가동 이온 추출 통공판(310)은 이온 비임 프로파일을 변형하기 위해 하우징에 대해 가동된다. 일 실시예는 적어도 긴 통공(340, 342)을 가지는 통공판을 포함하며 상이한 이온 비임 프로파일을 형성하는 적어도 제 1 및 제 2 위치 사이로 이동한다. 통공판으로 결합되는 구동부 또는 액츄에이터는 통공판을 제 1 및 제 2 위치 사이로 이동시킨다. 선택적인 일 실시예는 조정가능한 통공의 경계를 형성하는 두 개의 가동판 부분을 가진다.

2. 发明授权

KR101464484B1 이온 비임 임플란터를 위한 플라즈마 전자 플러드 有权
标题翻译：用于离子束植绒的等离子体电子水
公开(公告)号：KR101464484B1
公开(公告)日：2014-11-24
申请号：KR1020107012396
申请日：2008-11-06
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 반더베르그,보 , 디버길리오,윌리엄
IPC分类号： H01J37/077 , H01J37/02 , H01J3/00 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/026 , H01J37/3171 , H01J2237/0041 , H01J2237/06366
摘要： 플라즈마 전자 플러드 시스템으로서, 가스를 포함하도록 구성된 방출 챔버를 구비하는 하우징으로서, 내부에 세장형 추출 슬릿, 음극 필라멘트, 음극 조립체 및 다수의 양극을 포함하는 하우징을 포함하며, 상기 세장형 추출 슬릿은 이온 주입 시스템과 직접적으로 소통하며, 상기 음극 필라멘트는 전위차에 의해서 다수의 양극으로 끌어 당겨지는 전자들을 방출하며, 방출된 전자들의 일부는 세장형 추출 슬릿을 통해서 이온 주입 시스템 내에서 이동하는 이온 비임을 중성화하는데 이용하기 위한 전자 밴드로서 배출된다.

3. 发明授权

KR101562785B1 이중 플라즈마 이온 소오스 有权
标题翻译：双等离子源
公开(公告)号：KR101562785B1
公开(公告)日：2015-10-23
申请号：KR1020107011288
申请日：2008-10-22
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 디버길리오,윌리엄
IPC分类号： H01J37/08
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/16 , H01J37/077 , H01J2237/06366 , H01J2237/082 , H01J2237/31701
摘要： 이온소오스가개시되며, 이이온소오스는제 1 플라즈마챔버(102) 및제 2 플라즈마챔버(116)를포함하며, 상기제 1 플라즈마챔버(102)는플라즈마발생부품(104) 및제 1 가스를수용하기위한제 1 가스유입구(122)를구비하여, 상기플라즈마발생(104) 부품및 상기제 1 가스가상기제 1 플라즈마챔버(102) 내에제 1 플라즈마를발생시키도록상호작용하고, 상기제 1 플라즈마챔버(102)는상기제 1 플라즈마로부터전자를추출하기위한개구(114)를더 형성하며, 상기제 2 플라즈마챔버(116)는제 2 가스를수용하기위한제 2 가스유입구(124)를구비하며, 상기제 1 플라즈마챔버(102)의개구(114)와유체소통하며상기제 1 플라즈마챔버로부터추출된전자를수용하기위한개구(117)를더 형성하여서, 상기전자및 제 2 가스가상기제 2 플라즈마챔버(116) 내에제 2 플라즈마를발생시키도록상호작용하고, 상기제 2 플라즈마챔버(116)는상기제 2 플라즈마로부터이온을추출하기위한추출개구(120)를더 형성한다.

4. 发明公开

KR1020110119727A 이온 주입에서 강화된 저 에너지 이온 빔 이송 有权
标题翻译：在离子植入中增强低能量离子束运输
公开(公告)号：KR1020110119727A
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：KR1020117019483
申请日：2010-01-22
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 반더베르크,보 , 디버길리오,윌리엄
IPC分类号： H01J37/02 , H01J37/05 , H01J37/317 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/026 , H01J37/05 , H01J2237/0041 , H01J2237/055 , H05H1/24
摘要： 저 에너지, 고전류 이온 빔에서 특히 문제가 될 수 있는 빔 폭발을 완화하도록 빔을 중화하는 이온 주입 방법 및 시스템이 설명되어 있다. 빔 중화 부품은 폭발이 발생할 가능성이 있는 시스템 내에 위치될 수 있다. 중화 부품은 이온 빔을 중화함으로써 빔 폭발을 완화하는 플라즈마를 생성하는 가변 활성화 영역 생성 부품을 포함한다. 활성화 영역은 중화 플라즈마의 효과를 감소시키는 플라즈마 쉬스의 형성을 완화하는 동안 중화 플라즈마를 유지시키도록 가변 주파수 및/또는 필드 강도에 따라 생성된다.

5. 发明授权

KR101817170B1 냉각식 이온 주입 시스템의 가열식 로터리 시일 및 베어링 有权
标题翻译：用于冷却离子注入系统的加热旋转密封件和轴承
公开(公告)号：KR101817170B1
公开(公告)日：2018-01-10
申请号：KR1020127034172
申请日：2011-05-26
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 이,윌리엄 , 디버길리오,윌리엄 , 드러몬드,스티브
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/166 , H01J2237/2001 , H01J2237/20214
摘要： 제 1 축선을중심으로회전하는스캔아암(202) 및피가공재를선택적으로고정하기위해제 2 축선을중심으로상기스캔아암에회전가능하게결합된냉각식엔드이펙터(206)를갖는피가공재스캐닝시스템이제공된다. 상기냉각식엔드이펙터는클램핑플레이트(212) 및상기클램핑플레이트를냉각하는하나또는그 초과의냉각기구를갖는다. 베어링은상기제 2 축선을따라배치되며상기엔드이펙터를상기스캔아암에회전가능하게결합하고, 시일은외부환경과내부환경사이에압력배리어를제공하기위해상기제 2 축선을따라배치된다. 하나또는그 초과의상기베어링및 시일은거기에연관된자성유체를가질수 있다. 히터조립체는상기베어링및 시일부근에배치되고, 상기히터조립체는소정량의열을상기베어링및 시일에선택적으로제공하고, 그에따라상기제 2 축선을중심으로한 상기엔드이펙터의회전성향이증가한다.
摘要翻译：具有围绕第一轴线旋转的扫描臂202的工件扫描系统以及围绕第二轴线可旋转地联接至扫描臂的冷却端部执行器206，以选择性地固定工件它提供。冷却末端执行器具有夹板212和用于冷却夹板的一个或多个冷却机构。轴承沿着第二轴线布置并且将末端执行器可旋转地联接到扫描臂，并且密封件沿着第二轴线布置以在外部环境与内部环境之间提供压力屏障。一个或多个轴承和密封件可以具有与其相关联的磁性流体。加热器组件设置在轴承和密封件附近，加热器组件选择性地向轴承和密封件提供预定量的热量，由此增加端部执行器围绕第二轴线的旋转倾向。

6. 发明授权

KR101726560B1 이온 주입에서 강화된 저 에너지 이온 빔 이송 有权
标题翻译：离子注入中增强的低能离子束传输
公开(公告)号：KR101726560B1
公开(公告)日：2017-04-13
申请号：KR1020117019483
申请日：2010-01-22
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 반더베르크,보 , 디버길리오,윌리엄
IPC分类号： H01J37/02 , H01J37/05 , H01J37/317 , H05H1/24
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/026 , H01J37/05 , H01J2237/0041 , H01J2237/055
摘要： 저에너지, 고전류이온빔에서특히문제가될 수있는빔 폭발을완화하도록빔을중화하는이온주입방법및 시스템이설명되어있다. 빔중화부품은폭발이발생할가능성이있는시스템내에위치될수 있다. 중화부품은이온빔을중화함으로써빔 폭발을완화하는플라즈마를생성하는가변활성화영역생성부품을포함한다. 활성화영역은중화플라즈마의효과를감소시키는플라즈마쉬스의형성을완화하는동안중화플라즈마를유지시키도록가변주파수및/또는필드강도에따라생성된다.
摘要翻译：描述了用于中和束以减轻束爆炸的离子注入方法和系统，其在低能量，高电流离子束中可能是特别成问题的。束中和部分可以位于可能发生爆炸的系统中。中和部件包括可变有源区域产生部件，其产生通过中和离子束来中和射束爆炸的等离子体。激活区域根据可变频率和/或场强度产生，以维持中和的等离子体，同时减轻等离子体鞘层的形成，这减少了中和的等离子体的影响。

7. 发明授权

KR101603196B1 조정가능한 통공을 구비한 이온 소스 有权
标题翻译：离子源与可调节的孔
公开(公告)号：KR101603196B1
公开(公告)日：2016-03-14
申请号：KR1020107026323
申请日：2009-04-23
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 티거,다니엘 , 디버길리오,윌리엄 , 아이스너,에드워드 , 그라프,마이클
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/024 , H01J37/09 , H01J37/3171 , H01J2237/0455 , H01J2237/061 , H01J2237/0835
摘要： 이온주입기시스템은이온의비임또는스트림을생성하는데이용하기위한이온소스를포함한다. 이온소스는챔버하우징내의고 밀도농도를생성하기위한이온화영역의경계를적어도부분적으로형성하는이온소스챔버하우징을가진다. 원하는특성의이온추출통공(340, 342)은아크챔버의이온화영역을커버한다. 일실시예에서, 가동이온추출통공판(310)은이온비임프로파일을변형하기위해하우징에대해가동된다. 일실시예는적어도긴 통공(340, 342)을가지는통공판을포함하며상이한이온비임프로파일을형성하는적어도제 1 및제 2 위치사이로이동한다. 통공판으로결합되는구동부또는액츄에이터는통공판을제 1 및제 2 위치사이로이동시킨다. 선택적인일 실시예는조정가능한통공의경계를형성하는두 개의가동판부분을가진다.

8. 发明公开

KR1020130085957A 냉각식 이온 주입 시스템의 가열식 로터리 시일 및 베어링 审中-实审
标题翻译：加热旋转密封和轴承用于冷冻离子植入系统
公开(公告)号：KR1020130085957A
公开(公告)日：2013-07-30
申请号：KR1020127034172
申请日：2011-05-26
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 이,윌리엄 , 디버길리오,윌리엄 , 드러몬드,스티브
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/3171 , H01J2237/166 , H01J2237/2001 , H01J2237/20214
摘要： 제 1 축선을 중심으로 회전하는 스캔 아암(202) 및 피가공재를 선택적으로 고정하기 위해 제 2 축선을 중심으로 상기 스캔 아암에 회전 가능하게 결합된 냉각식 엔드 이펙터(206)를 갖는 피가공재 스캐닝 시스템이 제공된다. 상기 냉각식 엔드 이펙터는 클램핑 플레이트(212) 및 상기 클램핑 플레이트를 냉각하는 하나 또는 그 초과의 냉각 기구를 갖는다. 베어링은 상기 제 2 축선을 따라 배치되며 상기 엔드 이펙터를 상기 스캔 아암에 회전 가능하게 결합하고, 시일은 외부 환경과 내부 환경 사이에 압력 배리어를 제공하기 위해 상기 제 2 축선을 따라 배치된다. 하나 또는 그 초과의 상기 베어링 및 시일은 거기에 연관된 자성유체를 가질 수 있다. 히터 조립체는 상기 베어링 및 시일 부근에 배치되고, 상기 히터 조립체는 소정량의 열을 상기 베어링 및 시일에 선택적으로 제공하고, 그에 따라 상기 제 2 축선을 중심으로 한 상기 엔드 이펙터의 회전 성향이 증가한다.

9. 发明公开

KR1020100100823A 이중 플라즈마 이온 소오스 有权
标题翻译：双等离子源
公开(公告)号：KR1020100100823A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：KR1020107011288
申请日：2008-10-22
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 디버길리오,윌리엄
IPC分类号： H01J37/08
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/16 , H01J37/077 , H01J2237/06366 , H01J2237/082 , H01J2237/31701
摘要： 이온 소오스가 개시되며, 이 이온 소오스는 제 1 플라즈마 챔버(102) 및 제 2 플라즈마 챔버(116)를 포함하며, 상기 제 1 플라즈마 챔버(102)는 플라즈마 발생 부품(104) 및 제 1 가스를 수용하기 위한 제 1 가스 유입구(122)를 구비하여, 상기 플라즈마 발생(104) 부품 및 상기 제 1 가스가 상기 제 1 플라즈마 챔버(102) 내에 제 1 플라즈마를 발생시키도록 상호 작용하고, 상기 제 1 플라즈마 챔버(102)는 상기 제 1 플라즈마로부터 전자를 추출하기 위한 개구(114)를 더 형성하며, 상기 제 2 플라즈마 챔버(116)는 제 2 가스를 수용하기 위한 제 2 가스 유입구(124)를 구비하며, 상기 제 1 플라즈마 챔버(102)의 개구(114)와 유체 소통하며 상기 제 1 플라즈마 챔버로부터 추출된 전자를 수용하기 위한 개구(117)를 더 형성하여서, 상기 전자 및 제 2 가스가 상기 제 2 플라즈마 챔버(116) 내에 제 2 플라즈마를 발생시키도록 상호 작용하고, 상기 제 2 플라즈마 챔버(116)는 상기 제 2 플라즈마로부터 이온을 추출하기 위한 추출 개구(120)를 더 형성한다.

10. 发明公开

KR1020100099151A 이온 비임 임플란터를 위한 플라즈마 전자 플러드 有权
标题翻译：用于离子束植绒的等离子体电子水
公开(公告)号：KR1020100099151A
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：KR1020107012396
申请日：2008-11-06
申请人： 액셀리스 테크놀러지스, 인크.
发明人： 반더베르그,보 , 디버길리오,윌리엄
IPC分类号： H01J37/077 , H01J37/02 , H01J3/00 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/026 , H01J37/3171 , H01J2237/0041 , H01J2237/06366
摘要： 플라즈마 전자 플러드 시스템으로서, 가스를 포함하도록 구성된 방출 챔버를 구비하는 하우징으로서, 내부에 세장형 추출 슬릿, 음극 필라멘트, 음극 조립체 및 다수의 양극을 포함하는 하우징을 포함하며, 상기 세장형 추출 슬릿은 이온 주입 시스템과 직접적으로 소통하며, 상기 음극 필라멘트는 전위차에 의해서 다수의 양극으로 끌어 당겨지는 전자들을 방출하며, 방출된 전자들의 일부는 세장형 추출 슬릿을 통해서 이온 주입 시스템 내에서 이동하는 이온 비임을 중성화하는데 이용하기 위한 전자 밴드로서 배출된다.

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